本技术涉及光罩盒,尤其涉及一种掩模版支撑件及光罩盒。
背景技术:
1、掩模版又称为光罩,是微电子制造过程中的图形转移工具或者母版,是承载图形设计和工艺技术等信息的载体,由于掩模版光刻图案精细度较高,发生掩膜污染的风险也较高,现有技术中多采用光罩盒对掩模版进行存储和运输。
2、现有技术中,多在光罩盒中设置定位支撑装置来实现对掩模版的定位支撑,如授权公告号为cn209167810u的中国实用新型专利于2019年7月26日公开了一种光罩盒缓冲定位支撑装置,其通过在该定位装置上延伸出一弧形悬空的抵持部来实现对掩模版的支撑。
3、然而发明人在实施上述方案时发现,上述抵持部相对于掩模版的表面会与掩模版的上表面或者下表面接触,长时间的压持会在掩模版上产生压痕,导致掩模版的表面受损。
技术实现思路
1、鉴于以上技术问题中的至少一项,本实用新型提供了一种掩模版支撑件及光罩盒,采用结构改进以提高对掩模版的支撑有效性并降低对掩模版的损伤。
2、根据本实用新型的第一方面,提供一种掩模版支撑件,包括:第一定位柱、第二定位柱和第三定位柱,三者的底面处于同一平面内,且在与底面平行的同一平面内,所述第一定位柱和第二定位柱之间的连线与第一定位柱和第三定位柱之间的连线的垂直设置;
3、所述第一定位柱、第二定位柱和第三定位柱的轴向平行设置,且所述第一定位柱朝向所述第二定位柱方向延伸有第一弧形支撑部,所述第一定位柱朝向所述第二定位柱方向延伸有第二弧形支撑部,所述第一弧形支撑部的端部连接有与所述第二定位柱连接的第一弧形抵挡部,所述第二弧形支撑部上连接有与所述第三定位柱连接的第二弧形抵挡部;
4、其中,所述第一弧形抵挡部的最高点高于所述第一弧形支撑部的最高点,所述第二弧形抵挡部的最高点高于所述第二弧形支撑部的最高点,所述第一弧形支撑部和第二弧形支撑部被配置为与掩模版的侧边接触支撑。
5、进一步地,所述第一弧形支撑部与第一弧形抵挡部的连接处,以及所述第二弧形支撑部与所述第二弧形抵挡部的连接处均具有内凹倒角。
6、进一步地,所述第一弧形支撑部与第一弧形抵挡部的底部,以及所述第二弧形支撑部与所述第二弧形抵挡部的底部均形成弧形结构,所述弧形结构内具有拱形支撑部。
7、进一步地,所述第一弧形抵挡部和第二弧形抵挡部上均具有加强板。
8、进一步地,所述第一定位柱与第三定位柱之间的距离大于所述第一定位柱与所述第二定位柱之间的距离。
9、进一步地,该掩模版支撑件为防静电材料。
10、根据本实用新型的第二方面,还提供了一种光罩盒,包括如第一方面中任一项所述的掩模版支撑件,还包括:
11、可相对闭合的下壳体和上壳体,所述上壳体和下壳体闭合后形成容纳掩模版的空间;
12、所述掩模版支撑件在所述上壳体和下壳体内均布置有多个,且每个所述掩模版支撑件被配置为支撑掩模版一面的相邻两侧边。
13、进一步地,所述掩模版支撑件的第一定位柱、第二定位柱和第三定位柱的底部均具有安装槽,所述上壳体和下壳体上具有与所述安装槽对应的安装柱。
14、进一步地,所述上壳体和下壳体的同一侧转动连接,相对的另一侧上具有锁扣结构。
15、进一步地,在所述光罩盒内,固定在所述上壳体内的掩模版支撑件与相对设置的固定在所述下壳体上的掩模版支撑件交叉设置。
16、本实用新型的有益效果为:本实用新型通过掩模版与侧边接触的方式,形成线接触,减少了掩模版支撑件与掩模版的接触面积,避免在掩模版上形成压痕。
1.一种掩模版支撑件,其特征在于,包括第一定位柱、第二定位柱和第三定位柱,三者的底面处于同一平面内,且在与底面平行的同一平面内,所述第一定位柱和第二定位柱之间的连线与第一定位柱和第三定位柱之间的连线的垂直设置;
2.根据权利要求1所述的掩模版支撑件,其特征在于,所述第一弧形支撑部与第一弧形抵挡部的连接处,以及所述第二弧形支撑部与所述第二弧形抵挡部的连接处均具有内凹倒角。
3.根据权利要求1所述的掩模版支撑件,其特征在于,所述第一弧形支撑部与第一弧形抵挡部的底部,以及所述第二弧形支撑部与所述第二弧形抵挡部的底部均形成弧形结构,所述弧形结构内具有拱形支撑部。
4.根据权利要求1所述的掩模版支撑件,其特征在于,所述第一弧形抵挡部和第二弧形抵挡部上均具有加强板。
5.根据权利要求1所述的掩模版支撑件,其特征在于,所述第一定位柱与第三定位柱之间的距离大于所述第一定位柱与所述第二定位柱之间的距离。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的掩模版支撑件,其特征在于,该掩模版支撑件为防静电材料。
7.一种光罩盒,其特征在于,包括:
8.根据权利要求7所述的光罩盒,其特征在于,所述掩模版支撑件的第一定位柱、第二定位柱和第三定位柱的底部均具有安装槽,所述上壳体和下壳体上具有与所述安装槽对应的安装柱。
9.根据权利要求7所述的光罩盒,其特征在于,所述上壳体和下壳体的同一侧转动连接,相对的另一侧上具有锁扣结构。
10.根据权利要求7所述的光罩盒,其特征在于,在所述光罩盒内,固定在所述上壳体内的掩模版支撑件与相对设置的固定在所述下壳体上的掩模版支撑件交叉设置。