本公开涉及浮雕型衍射光栅的制造方法。
背景技术：
1、日本特开2000－105307号公报（专利文献1）公开了通过使用光致抗蚀剂作为掩模来对玻璃基板进行蚀刻而制造阶梯状的浮雕型衍射光栅的方法。日本特开2000－155207号公报（专利文献2）公开了通过使用光致抗蚀剂作为掩模来对sio2膜与al2o3膜的层叠体进行蚀刻而制造阶梯状的浮雕型衍射光栅的方法。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2000－105307号公报
5、专利文献2：日本特开2000－155207号公报
技术实现思路
1、发明要解决的课题
2、但是，在使用光致抗蚀剂的蚀刻中，若衍射光栅的周期性凹凸构造的凸部变高，则衍射光栅的尺寸精度变低。本公开是鉴于上述的课题而完成的，其目的在于提供一种具有更高的尺寸精度的浮雕型衍射光栅的制造方法。
3、用于解决课题的方案
4、本公开的浮雕型衍射光栅的制造方法包括：在硅构件上形成第一硅氮化膜的工序；通过使用第一硅氮化膜作为掩模来对硅构件进行氧化，将硅构件的一部分变为第一硅氧化膜的工序；去除第一硅氮化膜的工序；以及选择性地去除第一硅氧化膜，在硅构件形成第一台阶部的工序。
5、发明的效果
6、通过使用第一硅氮化膜作为掩模的硅构件的氧化，第一硅氧化膜能够以更高的尺寸精度形成。然后，通过选择性地去除第一硅氧化膜，制造浮雕型衍射光栅。根据本实施方式的浮雕型衍射光栅的制造方法，能够制造具有更高的尺寸精度的浮雕型衍射光栅。
1.一种浮雕型衍射光栅的制造方法，其中，包括：
2.根据权利要求1所述的浮雕型衍射光栅的制造方法，其中，
3.根据权利要求1或2所述的浮雕型衍射光栅的制造方法，其中，还包括：
4.根据权利要求1或2所述的浮雕型衍射光栅的制造方法，其中，还包括：
5.根据权利要求1或2所述的浮雕型衍射光栅的制造方法，其中，还包括：
6.根据权利要求5所述的浮雕型衍射光栅的制造方法，其中，
7.根据权利要求1～5中任一项所述的浮雕型衍射光栅的制造方法，其中，
8.根据权利要求1～7中任一项所述的浮雕型衍射光栅的制造方法，其中，
9.根据权利要求1～7中任一项所述的浮雕型衍射光栅的制造方法，其中，