本发明涉及光伏电池片生产,尤其涉及一种接近式精密栅线图形曝光设备。
背景技术:
1、在光伏行业中,包括n型电池和p型电池,随着p型电池逼近效率极限,n型电池将逐渐展开对p型的替代。
2、目前,n型电池的单瓦银浆耗用量高于p型电池,降低银耗成为n型电池降本的关键,电镀铜技术有望推动去银化降本。现有技术中,一般采用银浆丝网印刷方案,银浆用量较大,不利于降低生产成本,也不利于提升生产效率。
3、有鉴于此,需要设计一种接近式精密栅线图形曝光设备,以降低硅片的生产成本和提升硅片的生产效率。
技术实现思路
1、本发明的目的在于提供一种接近式精密栅线图形曝光设备,以降低硅片的生产成本和提升硅片的生产效率。
2、为达此目的,本发明采用以下技术方案:
3、一种接近式精密栅线图形曝光设备,包括:
4、转盘,所述转盘上圆周阵列设置有若干个用于定位电池片的定位治具;
5、上料装置,用于将电池片输送至设定上料工位上的定位治具上;
6、接近式曝光机,设置于所述转盘的顶部一侧,用于对所述定位治具中的电池片进行曝光;
7、下料装置,用于取走设定下料位上的定位治具上的硅片;
8、其中,所述接近式曝光机包括曝光光源和驱动装置;所述曝光光源用于向设置有感光层的硅片射出相互平行的曝光光线,以在硅片上制备出固化栅线图形,所述固化栅线图形用于在铜电镀工艺中吸引铜离子形成铜栅线;所述驱动装置用于驱动所述曝光光源向预设路线移动,以使所述曝光光源的出光端至硅片的距离保持在设定距离范围内。
9、可选地,接近式精密栅线图形曝光设备还包括控制系统和用于检测所述曝光光源的出光端至所述硅片的距离的光谱共焦检测传感器;
10、所述控制系统与所述驱动装置电连接,所述控制系统基于所述光谱共焦检测传感器所检测的距离,通过驱动装置调节所述曝光光源的位置。
11、可选地,所述曝光光源包括投影物镜;
12、所述接近式曝光机还包括用于控制投影物镜的温度控制系统,所述温度控制系统包括控制单元、加热单元、制冷单元、水箱、冷却管和水泵,所述控制单元分别电连接所述加热单元、所述制冷单元和所述水泵;
13、在所述水泵用于将水箱中的水输送至环绕在所述投影物镜的镜筒上的冷却管上,所述加热单元和所述制冷单元用于控制所述冷却管中冷却水的温度。
14、可选地,所述水箱中设置有温度传感器,所述控制单元电连接所述温度传感器。
15、可选地,所述接近式曝光机还包括紫外光源和出光镜片组;
16、所述出光镜片组设置于所述紫外光源和所述投影物镜之间,用于将所述紫外光源平行地输送至所述投影物镜。
17、可选地,所述紫外光源为405nmled灯。
18、可选地,所述接近式曝光机间隔设置有两台,两条所述接近式曝光机如所述转盘的中心线间隔设置。
19、可选地,所述冷却管包括出水管段、回水管段和环绕管段,所述环绕管段环绕至所述投影物镜的镜筒上,所述冷却水自所述出水管段流向所述环绕管段,从所述回水管段回到所述水箱;
20、所述加热单元设置于所述水箱中,所述制冷单元设置于所述回水管段上。
21、可选地,所述上料装置包括上料输送装置和用于将所述上料输送装置上的硅片转移至所述上料工位的上料机械手。
22、可选地,所述下料装置包括下料输送装置和用于将所述下料工位的所述定位治具上的硅片转移至所述下料输送装置上的下料机械手。
23、与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:
24、本实施例中,通过上料装置、转盘、接近式曝光机和下料装置的相互配合,使硅片的流转速度更快,有利于提升硅片的生产效率;此外,本实施例通过接近式曝光机对电池进行曝光,无需采用现有的银浆丝网印刷方案,直接采用固化光成像制备精密图形(固化栅线图形),具有明显的降本优势,有利于提升制备电池片的效率,使电池的生产成本得到了有效的降低。
1.一种接近式精密栅线图形曝光设备,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的接近式精密栅线图形曝光设备,其特征在于,还包括控制系统和用于检测所述曝光光源的出光端至所述硅片的距离的光谱共焦检测传感器;
3.根据权利要求2所述的接近式精密栅线图形曝光设备,其特征在于,所述曝光光源包括投影物镜(5);
4.根据权利要求3所述的接近式精密栅线图形曝光设备,其特征在于,所述水箱(64)中设置有温度传感器(67),所述控制单元(61)电连接所述温度传感器(67)。
5.根据权利要求3所述的接近式精密栅线图形曝光设备,其特征在于,所述接近式曝光机(3)还包括紫外光源和出光镜片组;
6.根据权利要求5所述的接近式精密栅线图形曝光设备,其特征在于,所述紫外光源为405nmled灯。
7.根据权利要求1所述的接近式精密栅线图形曝光设备,其特征在于,所述接近式曝光机(3)间隔设置有两台,两条所述接近式曝光机(3)如所述转盘(1)的中心线间隔设置。
8.根据权利要求3所述的接近式精密栅线图形曝光设备,其特征在于,所述冷却管(65)包括出水管段(651)、回水管段(653)和环绕管段(652),所述环绕管段(652)环绕至所述投影物镜(5)的镜筒上,所述冷却水自所述出水管段(651)流向所述环绕管段(652),从所述回水管段(653)回到所述水箱(64);
9.根据权利要求1所述的接近式精密栅线图形曝光设备,其特征在于,所述上料装置(2)包括上料输送装置(21)和用于将所述上料输送装置(21)上的硅片转移至所述上料工位的上料机械手(22)。
10.根据权利要求1所述的接近式精密栅线图形曝光设备,其特征在于,所述下料装置(4)包括下料输送装置(41)和用于将所述下料工位的所述定位治具(101)上的硅片转移至所述下料输送装置(41)上的下料机械手(42)。