本揭示内容是关于一种成像镜头，且特别是一种应用在可携式电子装置上的成像镜头。
背景技术：
1、近年来，可携式电子装置发展快速，例如智能电子装置、平板计算机等，已充斥在现代人的生活中，而装载在可携式电子装置上的成像镜头也随之蓬勃发展。但随着科技愈来愈进步，使用者对于成像镜头的品质要求也愈来愈高。因此，发展一种可提升抗反射薄膜对于环境变化的耐受度以维持低反射性能的成像镜头遂成为产业上重要且急欲解决的问题。
技术实现思路
1、本揭示内容提供一种成像镜头与电子装置，其通过中介层提升抗反射薄膜的结构稳定性，提高抗反射薄膜对于环境变化的耐受度，借以维持抗反射薄膜的低反射性能。
2、依据本揭示内容一实施方式提供一种成像镜头，其包含一光学元件与一抗反射薄膜。一成像光线穿透光学元件，且光学元件具有一注料痕。抗反射薄膜设置于光学元件的至少部分表面上，且包含一纳米结构层与一中介层。纳米结构层具有非定向延伸的多个脊状凸起，其中各脊状凸起的一底部较一顶部靠近光学元件，且各脊状凸起自底部向顶部渐缩。中介层设置于光学元件与纳米结构层之间，且包含至少二第一介质层及至少一第二介质层，其中第二介质层的折射率与各第一介质层的折射率不同，且第二介质层设置于第一介质层之间。各第一介质层的厚度为lt1，第二介质层的厚度为lt2，其满足下列条件：42nm<lt1<112nm；以及1nm<lt2<35nm。
3、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中各第一介质层的厚度为lt1，其可满足下列条件：45nm<lt1<90nm。
4、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中第二介质层的厚度为lt2，其可满足下列条件：3nm<lt2<27nm。
5、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中中介层可还包含至少一第三介质层，第三介质层的折射率与第二介质层的折射率可不同，且第三介质层与第二介质层相邻设置。第三介质层的厚度为lt3，其可满足下列条件：3nm<lt3<38nm。
6、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中各第一介质层的厚度为lt1，第三介质层的厚度为lt3，其可满足下列条件：2.3<lt1/lt3<9.6。
7、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中第二介质层的折射率可高于各第一介质层的折射率与第三介质层的折射率。
8、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中中介层的一顶部的部分区域可与空气接触。
9、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中脊状凸起的平均高度可大于78nm且小于308nm。
10、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中纳米结构层的主要成分可为氧化铝。
11、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中各第一介质层的主要成分可为氧化硅。
12、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中第二介质层的主要成分可为氧化钛。
13、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中第三介质层的主要成分可为氧化硅。
14、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中光学元件设有纳米结构层的至少部分表面对应光线波长420nm至760nm的平均反射率为r4276，其可满足下列条件：0％<r4276<0.2％。另外，其可满足下列条件：0％<r4276<0.1％。
15、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中光学元件可包含一消光结构，消光结构使光学元件的一表面形成凹凸起伏，且消光结构与光学元件一体成型。
16、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中消光结构可具有多个凸起，且凸起呈规则排列。
17、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中各凸起的高度可大于40μm且小于1000μm。另外，各凸起的高度可大于50μm且小于500μm。
18、依据前段所述实施方式的成像镜头，可还包含一粘着元件，其中粘着元件用以固定光学元件。
19、依据本揭示内容一实施方式提供一种电子装置，包含如前述实施方式的成像镜头。
1.一种成像镜头，其特征在于，包含：
2.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，各该第一介质层的厚度为lt1，其满足下列条件：
3.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该至少一第二介质层的厚度为lt2，其满足下列条件：
4.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该中介层还包含：
5.如权利要求4所述的成像镜头，其特征在于，各该第一介质层的厚度为lt1，该至少一第三介质层的厚度为lt3，其满足下列条件：
6.如权利要求4所述的成像镜头，其特征在于，该至少一第二介质层的折射率高于各该第一介质层的折射率与该至少一第三介质层的折射率。
7.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该中介层的一顶部的部分区域与空气接触。
8.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，所述多个脊状凸起的平均高度大于78nm且小于308nm。
9.如权利要求8所述的成像镜头，其特征在于，该纳米结构层的主要成分为氧化铝。
10.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，各该第一介质层的主要成分为氧化硅。
11.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该至少一第二介质层的主要成分为氧化钛。
12.如权利要求4所述的成像镜头，其特征在于，该至少一第三介质层的主要成分为氧化硅。
13.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该光学元件设有该纳米结构层的该至少部分表面对应光线波长420nm至760nm的平均反射率为r4276，其满足下列条件：
14.如权利要求13所述的成像镜头，其特征在于，该光学元件设有该纳米结构层的该至少部分表面对应光线波长420nm至760nm的平均反射率为r4276，其满足下列条件：
15.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该光学元件包含：
16.如权利要求15所述的成像镜头，其特征在于，该消光结构具有多个凸起，且所述多个凸起呈规则排列。
17.如权利要求16所述的成像镜头，其特征在于，各该凸起的高度大于40μm且小于1000μm。
18.如权利要求17所述的成像镜头，其特征在于，各该凸起的高度大于50μm且小于500μm。
19.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，还包含：
20.一种电子装置，其特征在于，包含：