专利名称：微波硫灯反射片的制作方法
技术领域：
本实用新型属电光源技术领域，是一种微硫灯的反射片。
微波硫灯主要由功率源、波导管、微波屏蔽罩、硫泡、马达等构成。微波硫灯是一种没有电极的新型光源，它由微波激发硫泡而发光，其特点是使用寿命长、光效高、光色好、光衰小。
为了尽可能提高硫泡出射光通的利用效率，在硫泡底部需安装一个反射片，通过反射片的光学反射将硫泡下半部分发出的光反射出来。目前，常用的反射片是由基材镀上单一反射膜层构成，该膜层一般为软膜。由于硫泡附近的温度比较高(约500℃左右)，上述结构的反射片在高温下容易脱膜，失去光学反射的作用。
本实用新型的目的在于设计一种在高温下具有良好稳定性，可不发生脱膜现象，且有高反射效率的微波硫灯反射片。
本实用新型设计的微波硫灯反射片由基材和反射层构成。反射片为园形，其大小与微波硫灯屏蔽罩的直径匹配，其中心开有园孔，供硫泡下面的旋转杆穿过。由于反射片安装的位置同时也是微波的通道，该反射片应该可以透过微波。否则，如果微波不能透过反射片，就不能与硫泡耦合，因而就不能点燃硫泡。因此，反射片的基材采用石英。反射膜层采用二氧化钛(TiO2)和二氧化硅(SiO2)的多层介质膜层，其层数为20-40层，厚度为0.2～0.5mm。
本实用新型设计的微波硫灯反射片，在制备时可用离子氧反应蒸发技术将二氧化钛和二氧化硅逐层蒸镀在石英基板上，各介质层的厚度利用光的干涉原理，通过计算机计算和控制。在镀膜时，真空室的真空度在10-6乇以上，石英片的加热温度在350℃以上，镀膜完成后，在400℃～500℃左右的焙烧炉中焙烧2.5～3.5小时，以消除反射片的应力。
本实用新型设计的反射片，由于采用石英作为基板，反射层采用多层介质层的结构，在高温下稳定性好，不会发生脱膜现象；微波透过率高，达到99％以上；光的反射率在98％以上，放在微波硫灯中，可以提高光效15％左右。
图1为本反射片的平面结构图示。
图2为本反射片局部剖示图。
其中1为石英基板，2为多层介质膜，3为旋转杆孔。
实施例，如图所示，石英基板1的厚度为2mm，用真空离子氧反应蒸发技术，将二氧化钛和二氧化硅逐层蒸镀在石英基板上，共镀30层，膜层厚度为0.3mm，具体由计算机控制，制备的工艺条件如前述。该反射片反射率为99％，微波透过率为99％，在高温下无脱膜现象。
权利要求1．一种微波硫灯反射片，由基板与反射层构成，其特征在于反射片为园形，其大小与微波硫灯屏蔽罩直径匹配，中心开有供硫泡的旋转杆穿过的园孔，基板采用石英材料，反射层为二氧化钛和二氧化硅的多层介质膜层，其层数为20～40层，厚度为0.2～0.5mm。
专利摘要本实用新型属电光源技术领域,是一种微波硫灯反射片。该反射片以石英作为基板,反射层为二氧化钛和二氧化硅多层介质层,厚度为0.2～0.5mm,用真空离子氧反应蒸发工艺镀于石英基板上。该反射片的光反射率达98%以上,微波透过率在99%以上,在高温下稳定性好,不脱膜。
文档编号H01J65/00GK2432680SQ0021721
公开日2001年5月30日 申请日期2000年4月11日 优先权日2000年4月11日
发明者陈大华, 左春兰, 杨秉华, 朱同茂 申请人:复旦大学