专利名称：荫罩的制作方法
技术领域：
本发明涉及用来在彩色显像管的荧光面上形成大致矩形的射束点的荫罩。
背景技术：
如图14中所示，荫罩1是对着彩色显像管101的荧光面102配置而使用的。在彩色显像管101中，从电子枪103发出并由偏转线圈的磁场偏转后的电子束105通过荫罩1后，准确地着屏于荧光面102上的规定位置。再者，作为这种荫罩1，一般使用通过压力加工而成形的压制型的荫罩，或在使用时在垂直方向(上下方向)上伸展的张力型的荫罩。
这里，就荫罩1的细节参照图1(表示本发明的图)进行说明。图1是用来说明在荫罩1的各部分所形成的窄缝的位置关系的示意俯视图。如图1中所示，荫罩1具有大致矩形的罩主体1a，在该罩主体1a上，在厚度方向上贯通的大致矩形的通孔的窄缝2(包括窄缝2a、2b、2c、2d)沿着俯视中的水平方向X和垂直方向Y排列多个。再者，在本说明书中，把由通孔与形成该通孔的表侧孔部和里侧孔部所构成的单位结构称为‘窄缝’。此外，在图1中，标号6表示由连接罩主体1a的对峙的角部地沿着面内在对角方向上延伸的对角轴5、5的交点所表示的中心(称为‘中心点’)，标号3表示通过中心点6沿着面内在水平方向X上延伸的水平轴，标号4表示通过中心点6、沿着面内在垂直方向Y上延伸的垂直轴。进而，在图1中，窄缝2a是罩主体1a的中心点6的部分(参照标号a)处的窄缝，窄缝2b是垂直轴4的外周部(参照标号b、b′)的窄缝，窄缝2c是水平轴3的外周部(参照标号c、c′)的窄缝，窄缝2d是对角轴5的外周部(参照标号d、d′、e、e′)的窄缝。再者，标号1b是处于罩主体1a的外侧、通过压力加工而弯曲的裙部。此外，图1毕竟是示意图，大大夸张地表示窄缝。
在这种荫罩1对着图14中所示的彩色显像管101的荧光面102配置的场合，虽然从电子枪103所发出的电子束105对荫罩1的中央部的窄缝2a笔直地入射，但是对作为远离该中央部的各轴(水平轴3、垂直轴4和对角轴5)的外侧区域的外周部的窄缝2b、2c、2d以入射角θ斜着入射。因此，在荫罩1中，根据窄缝的位置，调整构成窄缝的表侧孔部的形成位置与里侧孔部的形成位置。
图11A、图11B、图11C和图11D是表示在荫罩1的罩主体1a的各部分上所形成的窄缝2(窄缝2a、2b、2c、2d)的形状的示意俯视图。再者，在图11A、图11B、图11C和图11D中，标号11是窄缝2具有的通孔，该通孔11通过蚀刻金属薄板而形成的表侧孔部12与里侧孔部13连通而形成。里侧孔部13在电子束7入射侧形成，表侧孔部12在电子束7出射侧形成。这些里侧孔部13和表侧孔部12大致成矩形地形成，表侧孔部12在电子束7通过之际不成为障碍地以大面积形成。
这当中，罩主体1a的中央部的窄缝2a如图11A中所示，由于电子束从正面入射，所以通孔11(里侧孔部13)位于表侧孔部12的大致中央地形成。图11B示出位于垂直轴4的外周部的窄缝2b，图11C示出位于水平轴3的外周部的窄缝2c，图11D示出位于对角轴5的外周部的窄缝2d。位于罩主体1a的外周部的各窄缝2b、2c、2d由于电子束斜着入射，所以表侧孔部12的位置相对通孔11(里侧孔部13)的位置向罩主体1a的外周侧错开地形成，以便不成为穿过通孔11而通过的电子束7的障碍。
但是，即使进行图11A、图11B、图11C和图11D中所示的情形的错开配置(根据罩主体1a处的窄缝2的位置使构成窄缝2的表侧孔部12的位置相对通孔11(里侧孔部13)的位置错开的配置)，在罩主体1a的外周部所形成的窄缝2b、2c、2d当中，特别是在对角轴5的外周部所形成的窄缝2d处，存在着对窄缝2d斜着入射的电子束7的一部分被表侧孔部12或里侧孔部13所遮挡，无法使电子束7以由想要的形状组成的射束点着屏于显像管的荧光面这样的问题。
对这种问题，在特开平1-320738号公报和特开平5-6741号公报中，提出了在形成罩主体上所形成的窄缝的大致矩形的通孔的两个长边当中远离罩主体的中央一侧的长边处，使该长边的上下两端的至少一端或两端在远离垂直轴的方向上鼓出的结构的荫罩。
图12是表示特开平5-6741号公报中所述的现有技术的荫罩中的窄缝的形状的主视图。图12中所示的窄缝2d，示出在俯视图1中所示的罩主体1a的场合，位于右上的对角轴5的右上方向外周部的窄缝的形态。该窄缝2d是表侧孔部12的位置相对通孔11(里侧孔部13)的位置在作为右上方向的外周侧错开，并且形成通孔11的两个长边当中作为外周侧的右侧的长边的下部具有向外周方向上鼓出的鼓出部11a。再者，该鼓出部11a是以在显像管的荧光面上形成大致矩形的射束点为目的而设置的。此外，构成窄缝2d的表侧孔部12由成为该表侧孔部12的轮廓的左右一对的边12a、12b与上下一对的边12c、12d形成大致四边形。
可是，近年的显像管像图14那种薄型彩色显像管那样其纵深薄型化。因此，在这种薄型彩色显像管中，电子束7向在荫罩1上所形成的窄缝2的入射角θ特别是在外周部处显著加大，产生通过窄缝2的通孔11的电子束7的一部分被构成窄缝2的表侧孔部12的侧壁遮挡的现象。也就是说，如图12中所示，例如在位于对角轴5的外周部的窄缝2d处，虽然通过通孔11的纵长方向下侧的电子束7a不碰到表侧孔部12地射出，但是产生通过通孔11的纵长方向上侧的电子束7b、7c的一部分碰到虚线部分8所示的部位的表侧孔部12的侧壁而被遮挡的现象。
图13示出用来说明上述现象的，沿着图12的XIII-XIII线的剖视图。在图13中，窄缝2d的表侧孔部12由侧壁14、15来形成，里侧孔部13由侧壁16、17来形成，通过表侧孔部12与里侧孔部13连通而形成通孔11。如图13中所示，在这种窄缝2d中，在相当于图12的虚线部分8的部分处，在通过通孔11的纵长方向上侧的电子束7b、7c穿过表侧孔部12之际，该电子束7b、7c的一部分碰到表侧孔部12的外周侧的侧壁15而被遮挡。这种现象在通过罩主体1a的中心点的对角轴5上的窄缝2d中、在通过该窄缝的电子束的入射角为20°以上的位置上所形成的窄缝2d处显著地发生，通过窄缝2d的电子束7b、7c中发生部分的缺失，辉度降低，并且产生无法使由想要的大小与形状组成的射束点着屏于显像管的荧光面这样的问题。
发明内容
本发明是考虑这种问题而提出的，其目的在于提供一种具有即使在电子束的入射角加大的场合也能够极力抑制通过窄缝的通孔后的电子束被表侧孔部遮挡的窄缝结构的荫罩。
本发明，作为其第1技术方案，提供一种在罩主体的水平方向和垂直方向上排列多个窄缝，在显像管的荧光面上形成大致矩形的射束点的荫罩，其特征在于，在前述罩主体上所形成的前述各窄缝包括电子束入射侧的大致矩形的里侧孔部，电子束出射侧的大致矩形的表侧孔部，以及通过前述里侧孔部和前述表侧孔部连通而形成的通孔；前述罩主体包括位于该罩主体的面内的中心的中心点，通过该中心点沿着面内在水平方向上延伸的水平轴，在垂直方向上延伸的垂直轴以及在对角方向上延伸的两个对角轴；在前述罩主体上所形成的前述多个窄缝当中在垂直方向上邻接的窄缝的表侧孔部之间形成有在水平方向上延伸的水平方向桥部；在前述罩主体上所形成的前述多个窄缝当中，至少前述罩主体的前述对角轴上的窄缝中通过该窄缝的电子束的入射角为20°以上的位置上所形成的窄缝与关于该窄缝在垂直方向上邻接的窄缝之间，在联系位于该各窄缝的表侧孔部的水平方向外周侧的表侧孔部开口端彼此的联通部处，设置有以贯通该各窄缝的表侧孔部之间所形成的水平方向桥部的方式形成的连通部；前述连通部以由该连通部所联系的前述各窄缝的表侧孔部的位于水平方向外周侧的表侧孔部开口端为基准，在水平方向中心侧形成，在令成为该基准的表侧孔部开口端与由前述连通部所联系的前述各窄缝的通孔的位于水平方向外周侧的通孔开口端之间的距离为T(μm)，而且，令前述连通部的水平方向的宽度为D1(μm)时，满足0＜D1＜T的关系。
再者，在上述第1技术方案中，最好是在前述罩主体上所形成的前述多个窄缝当中在水平方向上邻接的窄缝的表侧孔部之间，形成有在垂直方向上延伸的垂直方向桥部，前述连通部具有以由该连通部所联系的前述各窄缝的前述表侧孔部为基准，使前述垂直方向桥部向水平方向外周侧后退地在水平方向外周侧加宽的扩张区。这里，最好是在令前述扩张区的水平方向的宽度为D2(μm)时满足50μm＜〔D1+D2〕＜〔T+50〕μm的关系。
此外，在上述第1技术方案中，最好是前述荫罩为通过压力加工形而成形的压制型。
本发明，作为其第2技术方案，提供一种荫罩，是在罩主体的水平方向和垂直方向上排列多个窄缝而成，在显像管的荧光面上形成大致矩形的射束点的荫罩，其特征在于，在前述罩主体上所形成的前述各窄缝包括电子束入射侧的大致矩形的里侧孔部，电子束出射侧的大致矩形的表侧孔部，以及通过前述里侧孔部和前述表侧孔部连通而形成的通孔；前述罩主体包括位于该罩主体的面内的中心的中心点，通过该中心点沿着面内在水平方向上延伸的水平轴，在垂直方向上延伸的垂直轴以及在对角方向上延伸的两个对角轴；在前述罩主体上所形成的前述多个窄缝当中在水平方向上邻接的窄缝的表侧孔部之间，形成有在垂直方向上延伸的垂直方向桥部；在前述罩主体上所形成的前述多个窄缝当中，至少前述罩主体的前述对角轴上的窄缝中通过该窄缝的电子束的入射角为20°以上的位置上所形成的窄缝与关于该窄缝在垂直方向上邻接的窄缝之间，设置有以该各窄缝的表侧孔部的位于水平方向外周侧的表侧孔部开口端为基准使前述垂直方向桥部向水平方向外周侧后退地在水平方向外周侧加宽的扩张区。
再者，在上述第2技术方案中，最好是在令前述扩张区的水平方向的宽度为D3(μm)，令前述成为基准的表侧孔部开口端与关于具有前述成为基准的表侧孔部开口端的窄缝在水平方向外周侧上邻接的窄缝的表侧孔部的位于水平方向中心侧的开口端之间的距离为T1(μm)时，满足0＜D3＜〔T1-50〕μm的关系。
此外，在上述第2技术方案中，最好是前述荫罩是在使用时在垂直方向上伸展的张力型。
如果用根据本发明的第1技术方案的荫罩，则由于至少在罩主体的对角轴上的窄缝处通过该窄缝的电子束的入射角为20°以上的位置上所形成的窄缝与关于该窄缝在垂直方向上邻接的窄缝之间，设置有联系该各窄缝的表侧孔部的位于水平方向外周侧的表侧孔部开口端彼此的连通部，该连通部以由该连通部所联系的前述各窄缝的表侧孔部的位于水平方向外周侧的表侧孔部开口端为基准，在水平方向中心侧形成，而且，在令成为该基准的表侧孔部开口端与由前述连通部所联系的前述各窄缝的通孔的位于水平方向外周侧的通孔开口端之间的距离为T(μm)，而且，令连通部的水平方向的宽度为D1(μm)时，满足0＜D1＜T的关系，所以可以极力抑制斜着通过窄缝的通孔的电子束的一部分被在垂直方向上邻接的窄缝之间的表侧孔部的侧壁反射。结果，可以在具有良好的辉度的状态下，使由想要的大小与形状组成的射束点着屏于显像管的荧光面上。
此外，如果用根据本发明的第1技术方案的荫罩，则由于连通部的水平方向的宽度小于成为基准的表侧孔部开口端与水平方向外周侧的通孔开口端之间的距离T，所以在垂直方向上邻接的窄缝的表侧孔部间(通孔间)形成未被蚀刻的正常的桥部(腐蚀量)。因此靠由这种方式组成的荫罩，可以极力抑制电子束的一部分被反射，并且可以保持罩主体的强度。借此，可以没有问题地进行制造之际的压力加工，可以可靠地制造压制型的荫罩。
进而，如果用根据本发明的第1技术方案的荫罩，则由于连通部以表侧孔部开口端的坐标轴为基准，使在垂直方向上延伸的桥部向水平方向外周侧后退地在水平方向外周侧具有扩张区，所以除了与垂直方向上邻接的窄缝之间的表侧孔部的侧壁外，对表侧孔部的水平方向外周侧的侧壁(桥部的侧壁)，也可以加宽斜着通过窄缝的通孔的电子束的一部分不被反射地通过的区域。结果，能够以具有良好的辉度的状态，使由想要的大小与形状组成的射束点着屏于显像管的荧光面。特别是，在这种场合，在令扩张区的水平方向的宽度为D2(μm)时，只要具有该扩张区的连通部的水平方向的宽度〔D1+D2〕满足50μm＜〔D1+D2〕＜〔T+50〕μm的关系，就可以保持罩主体的强度，同时加宽斜着通过窄缝的通孔的电子束的一部分不被反射地通过的区域。
如果用根据本发明的第2技术方案的荫罩，则由于至少在罩主体的对角轴上的窄缝处通过该窄缝的电子束的入射角为20°以上的位置上所形成的窄缝与关于该窄缝垂直方向上邻接的窄缝之间，以各窄缝的表侧孔部的位于水平方向外周侧的表侧孔部开口端的坐标轴为基准，使在垂直方向上延伸的桥部向水平方向外周侧后退地在水平方向外周侧形成扩张区，所以可以极力抑制斜着通过窄缝的通孔的电子束的一部分被表侧孔部的侧壁反射。结果，能够以具有良好的辉度的状态，使由想要的大小与形状组成的射束点着屏于显像管的荧光面。
如果用根据本发明的第1和第2技术方案的荫罩，则因为具有通过上述这种蚀刻而形成凹状的连通部或扩张区，所以荫罩的表面积加大。结果，可起到降低电子束照射之际的热量引起的隆起现象(domingpattern；因电子束而发生的热量使荫罩变形而产生色不匀的现象)的作用效果，特别是作为容易受隆起现象影响的具有高偏转角的薄型显像管的荫罩可以很好地使用。
图1是表示根据本发明的第1实施方式的荫罩之一例的俯视图(用来说明在荫罩的各部上所形成的窄缝的位置关系的示意俯视图)。
图2是表示图1中所示的荫罩的对角轴的外周部上所形成的窄缝的结构的一部分的俯视图。
图3是图2中所示的111部分的放大俯视图。
图4是沿图3的IV-IV线的剖视图。
图5是沿图3的V-V线的剖视图。
图6是表示根据图1至图5中所示的第1实施方式的荫罩的一个变形例的俯视图。
图7是沿图6的VII-VII线的剖视图。
图8是沿图6的VIII-VIII线的剖视图。
图9是表示根据本发明的第2实施方式的荫罩的对角轴的外周部上所形成的窄缝的结构的一部分的俯视图。
图10A是图9中所示的XA部分的放大俯视图。
图10B是沿图10A的XB-XB线的剖视图。
图11A、图11b、图11C和图11D是表示在荫罩的各部上所形成的窄缝的形状的示意俯视图。
图12是表示现有技术的荫罩中的窄缝形状的俯视图。
图13表示电子束的动作，是沿图12的XIII-XIII线的剖视图。
图14是表示装入荫罩的薄型显像管的概略结构的剖视图。
具体实施例方式
下面，参照附图就本发明的实施方式进行说明。再者，本发明不限定于以下说明的实施方式，包括包含本发明的技术构思的各种实施方式。
〔第1实施方式〕首先，根据图1就根据本发明的第1实施方式的荫罩的总体构成进行说明。再者，根据本发明的第1实施方式的荫罩是通过压力加工而成形的压制型的荫罩。
如图1中所示，根据本发明的第1实施方式的荫罩1具有大致矩形的罩主体1a，在该罩主体1a上，排列多个具有贯通厚度方向的大致矩形的通孔的窄缝2(包括窄缝2a、2b、2c、2d)。这里，窄缝2以已述的位置关系，在罩主体1a上沿着俯视中的水平方向X和垂直方向Y排列多个。这种荫罩1通过装设于显像管上进行磁性密封，并且用于在显像管的荧光面上形成大致矩形的射束点。再者，在图1中，标号6表示由连接罩主体1a的对峙的角部地沿着面内在对角方向上延伸的对角轴5、5的交点所表示的中心(称为‘中心点’)，标号3表示通过中心点6沿着面内在水平方向X上延伸的水平轴，标号4表示通过中心点6沿着面内在垂直方向Y上延伸的垂直轴。进而，在图1中，窄缝2a是罩主体1a的中心点6的部分(参照标号a)处的窄缝，窄缝2b是垂直轴4的外周部(参照标号b、b′)的窄缝，窄缝2c是水平轴3的外周部(参照标号c、c′)的窄缝，窄缝2d是对角轴5的外周部(参照标号d、d′、e、e′)的窄缝。再者，标号1b是处于罩主体1a的外侧通过压力加工而弯曲的裙部。
图2和周3是表示图1中所示的荫罩1的对角轴5的外周部上所形成的窄缝的结构的一部分的图。如图2和图3中所示，窄缝2通过蚀刻由因瓦合金组成的金属薄板而形成，通孔31通过由蚀刻所形成的表侧孔部32与里侧孔部33连接而形成。再者，构成窄缝2的里侧孔部33在电子束7入射侧形成，表侧孔部32在电子束7出射侧形成。这些里侧孔部33和表侧孔部32大致矩形地形成。表侧孔部32如图4中所示，由侧壁34、35来构成，不成为出射的电子束的障碍地成为大的面积。此外，在垂直方向Y上邻接的窄缝2、2的表侧孔部32之间，形成不蚀刻而留下的窄条的桥部(水平方向桥部)24，该窄缝2、2经由桥部24在垂直方向Y上排列。进而，在多个窄缝2当中在水平方向上邻接的窄缝2的表侧孔部32之间，形成不蚀刻而留下的桥部(垂直方向桥部)24′。
这里，构成窄缝2的表侧孔部32根据罩主体1a内的窄缝2的位置，使对应于通孔31(里侧孔部33)的位置变化。也就是说，在位于罩主体1a的中心点6的窄缝2a处，表侧孔部32形成为把通孔31(里侧孔部33)配置于中央。另一方面，从该位于中心点6的窄缝2a向水平轴3的外周方向的窄缝2c随着离开中心点6表侧孔部32的位置而相对通孔31(里侧孔部33)的位置慢慢向外周侧错开地形成。同样，从位于中心点6的窄缝2a向垂直轴4的外周方向的窄缝2b随着离开中心点6而表侧孔部32的位置相对通孔31(里侧孔部33)的位置向外周侧慢慢错开地形成。
就对角轴5、5或沿着该对角轴5、5的位置的窄缝2d而言也与上述是同样的，随着离开中心点6，表侧孔部32的位置相对通孔31(里侧孔部33)的位置慢慢向外周侧错开地形成。例如，在俯视罩主体1a的图1的场合，在对角轴5上，随着窄缝2的位置从中心点6朝向右侧上方，表侧孔部32的位置相对通孔31(里侧孔部33)的位置向右方向且上方向(也就是斜着右上方向)慢慢错位。另一方面，随着窄缝2的位置从中心点6朝向左侧下方，表侧孔部32的位置相对通孔31(里侧孔部33)的位置向左方向且下方向(也就是斜着左下方向)慢慢错位。这种表侧孔部32的错位在向右下的另一个对角轴5上也是同样的。这种错位量的变化对应于斜着入射窄缝2的电子束7的入射角θ(参照图14)，以便通过通孔31后的电子束7的一部分不被表侧孔部32的侧壁(参照图4的标号35)遮挡。
而且，在根据这种第1实施方式的荫罩1中，在罩主体1a上所形成的多个窄缝2当中，至少在罩主体1a的对角轴5上的窄缝2d处通过该窄缝的电子束7的入射角θ为20°以上的位置上所形成的窄缝2d，与关于该窄缝2d在垂直方向上邻接的窄缝2d之间，如图2和图3中所示，设有联系该各窄缝2d的表侧孔部32、32的位于水平方向X外周侧的表侧孔部开口端22a、22b彼此的连通部23。再者，连通部23贯通在垂直方向Y上邻接的窄缝2、2的表侧孔部32之间所形成的桥部24地形成。
这种连通部23以各窄缝2d的通孔31的位于窄缝中心P的水平方向X外周侧的表侧孔部开口端Q的坐标轴为基准，在水平方向X中心侧形成。而且，如图3中所示，在令成为该基准的表侧孔部开口端Q与各窄缝2d的通孔31的位于水平方向X外周侧的通孔开口端R之间的距离为T(μm)，而且，令连通部23的水平方向X的宽度为D1(μm)时，满足0＜D1＜T的关系。再者，连通部23的水平方向X的宽度D1虽然在窄缝2d间所形成的桥部24由中断的水平方向外周侧端部S，与成为基准的表侧孔部开口端Q之间的水平方向X的距离来表示，但是该距离由水平方向外周侧端部S与位于该端部S的水平方向X外周侧的表侧孔部开口端V来表示。
连通部23在垂直方向Y上邻接的窄缝2d的表侧孔部32间形成，就不蚀刻而留下的桥部24而言，通过部分地蚀刻其外周侧而形成。桥部24的部分的蚀刻与用来形成窄缝2的蚀刻同时进行。
连通部23所形成的位置虽然如上所述，至少对窄缝2的电子束7的入射角θ为20°以上的对角轴5上成为对象，但是也可以是这以外的位置。例如，也能够以入射角θ为20°以上的对角轴5上的附近为对象。此外，例如，也能够以从通过入射角θ为20°的对角轴5上的位置的垂直轴线外周侧的整个区域为对象，作为极端的情况，还可以形成在罩主体1a的整个面上。但是，最有效的是如图9中所示，对在电子束7斜着通过的位置上所形成的窄缝2d连通部23被形成的场合。把连通部23的形成位置取为20°以上，是因为在这以下丝毫没有形成连通部23的必要的缘故。
如上所述，连通部23的水平方向X的宽度D1满足0＜D1＜T的关系。具有这种关系的荫罩1可以极力抑制斜着通过窄缝2的通孔31的电子束7的一部分被垂直方向Y上邻接的窄缝2之间的表侧孔部32的侧壁反射。使连通部23的水平方向X的宽度D1大于0是因为至少有必要形成连通部23而收到上述作用效果的缘故。另一方面，使连通部23的水平方向X的宽度D1小于距离T是因为在垂直方向Y上邻接的窄缝2、2的表侧孔部32、32间(通孔31、31间)必须形成不蚀刻的正常的桥部24(腐蚀量)的缘故。由于在连通部23形成的场合也必须形成这种桥部24，所以可以保持罩主体1a的强度。在连通部23的水平方向X的宽度D1成为距离T以上的场合，由于在垂直方向Y上邻接的窄缝2、2的表侧孔部32、32间(通孔31、31间)不存在桥部24，所以从罩主体1a的强度保持的观点来说，作为压制型的荫罩是不够的。
再者，压制型的荫罩1，如果作为一个例子举出，则在水平方向X上排列的窄缝2的间距P1为700μm左右，在垂直方向Y上排列的窄缝2的间距P2为650μm左右，距离T为150～250μm左右。再者，在水平方向X上排列的窄缝2的间距P1随着电子束的入射角θ(参照图14)加大的外周侧而慢慢地成为大的值。
图4和图5分别是沿图3的IV-IV线和V-V线的剖视图。从图4和图5可以看出，连通部23以表侧孔部开口端Q的坐标轴为基准，在水平方向X中心侧以宽度D1形成，其断面形状为联系垂直方向Y的表侧孔部32的槽形，通过部分地蚀刻桥部24的外周侧而形成。电子束7可以不被表侧孔部32的侧壁35反射而通过该连通部23。
接下来，用图6至图8，就根据图1至图5中所示的第1实施方式的荫罩1的一个变形例进行说明。
如图6中所示，在这种方式的荫罩1′中，连通部23具有以表侧孔部开口端Q的坐标轴为基准，使在垂直方向延伸的桥部24′向水平方向X外周侧后退地在水平方向X外周侧加宽的扩张区41。
这里，最好是在令扩张区41的水平方向X的宽度为D2(μm)时，具有该扩张区41的连通部的水平方向X的宽度〔D1+D2〕满足50μm＜〔T+50〕μm的关系。使连通部23的水平方向X的宽度〔D1+D2〕大于50μm是为了尽可能防止降低连通部23的高度(也就是深深地形成槽状的连通部23)而电子束7被桥部24′的侧壁反射的缘故。另一方面，使连通部23的水平方向X的宽度〔D1+D2〕小于〔T+50〕μm是为了维持成形性的缘故。因而，连通部23的水平方向X的宽度〔D1+D2〕在50μm以下，有时连通部23处的电子束7的通过不充分，另一方面，在连通部23的水平方向X的宽度〔D1+D2〕为〔T+50〕μm以上时，在强度上变得不够而成形性恶化存在着跌落强度试验的结果变坏这样的问题。
虽然这种扩张区41以表侧孔部开口端Q的坐标轴为基准在水平方向X外周侧以宽度D2形成，但是该宽度D2是从成为基准的表侧孔部开口端Q到连通部23的水平方向X外周侧的开口端W的水平方向X的距离，以大约50～150μm的大小来形成。另一方面，扩张区41的垂直方向Y的宽度Z以大约150～400μm的大小来形成。
这样一来，如果用根据本发明的第1实施方式的荫罩1、1′，则由于至少在罩主体1a的对角轴5上的窄缝2d处通过该窄缝2的的电子束7的入射角θ为20°以上的位置上所形成的窄缝2d，与关于该窄缝2d在垂直方向Y上邻接的窄缝2d之间，设置联系该各窄缝2d的表侧孔部32、32的位于水平方向X外周侧的表侧孔部开口端22a、22b彼此的连通部23，该连通部23以各窄缝2d的通孔31的位于窄缝中心P的水平方向X外周侧的表侧孔部开口端Q的坐标轴为基准，在水平方向X中心侧形成，而且，在令成为该基准的表侧孔部开口端Q与各窄缝2d的通孔31的位于水平方向X外周侧的通孔开口端R之间的距离为T(μm)，而且，令连通部23的水平方向X的宽度为D1(μm)时，满足0＜D1＜T的关系，所以可以极力抑制斜着通过窄缝2d的通孔31的电子束7的一部分被与垂直方向Y上邻接的窄缝2d的表侧孔部32的侧壁反射。结果，能够以具有良好的辉度的状态，使由想要的大小与形状组成的射束点着屏于显像管的荧光面上。
此外，如果用根据本发明的第1实施方式的荫罩1、1′，则由于连通部23的水平方向X的宽度D1小于成为基准的表侧孔部开口端Q与水平方向X外周侧的通孔开口端R之间的距离T，所以在垂直方向Y上邻接的窄缝2、2的表侧孔部32、32间(通孔31、31间)形成未被蚀刻的正常的桥部24(腐蚀量)。因此，靠由这种方式组成的荫罩1、1′，可以极力抑制电子束7的一部分被反射，并且可以保持罩主体1a的强度。借此，可以没有问题地进行制造之际的压力加工，可以可靠地制造压制型的荫罩。
进而，如果用根据本发明的第1实施方式的荫罩1′，则由于连通部23以表侧孔部开口端Q的坐标轴为基准，使在垂直方向上延伸的桥部24′向水平方向X外周侧后退地在水平方向X外周侧具有扩张区41，所以除了与垂直方向Y上邻接的窄缝2d、2d之间的表侧孔部32的侧壁外，对表侧孔部32的水平方向X外周侧的侧壁(桥部24′的侧壁)也是，可以加宽斜着通过窄缝2d的通孔31的电子束7的一部分不被反射地通过的区域。结果，能够以具有良好的辉度的状态，使由想要的大小与形状组成的射束点着屏于显像管的荧光面。特别是，在根据本发明的第1实施方式的荫罩1′中，在令扩张区41的水平方向X的宽度为D2(μm)时，只要具有该扩张区41的连通部23的水平方向X的宽度〔D1+D2〕满足50μm＜〔D1+D2〕＜〔T+50〕μm的关系，就可以保持罩主体1a的强度，同时加宽斜着通过窄缝2d的通孔31的电子束7的一部分不被反射地通过的区域。
再者，如果用根据本发明的第1实施方式的荫罩1、1′，则因为具有通过上述这种蚀刻而形成凹状的连通部23或扩张区41，所以荫罩1、1′的表面积加大。结果，可起到降低电子束7照射之际的热量引起的隆起现象的作用效果，特别是作为容易受隆起现象影响的具有高偏转角的薄型显像管的荫罩可以很好地使用。
〔第2实施方式〕接下来，用图9、图10A和图10B，就根据本发明的第2实施方式的荫罩进行说明。再者，根据本发明的第2实施方式的荫罩是在使用时在垂直方向Y上伸展的所谓张力型的荫罩。
如图9中所示，根据本发明的第2实施方式的荫罩50在其总体构成中，备有与图1中所示的荫罩1同样的构成。也就是说，在荫罩50中，具有贯通厚度方向的大致矩形的通孔的窄缝2在罩主体上沿着俯视的水平方向X和垂直方向Y排列多个。再者，就罩主体上的窄缝2的位置关系而言由于是与上述相同，所以省略详细的说明。
这里，窄缝2如图9中所示，通过蚀刻由因瓦合金组成的金属薄板而形成，通孔51通过由蚀刻所形成的表侧孔部52与里侧孔部53连通而形成。再者，构成窄缝2的里侧孔部53在电子束7入射侧形成，表侧孔部52在电子束7出射侧形成。此外，多个窄缝2当中在水平方向X上邻接的窄缝2的表侧孔部52之间形成不蚀刻而留下的桥部(垂直方向桥部)57。这里，表侧孔部53成为大致矩形地形成。另一方面，里侧孔部53成为垂直方向Y上延伸的槽状地形成，在其水平方向X外周侧形成表侧孔部开口端55。
在这种根据第2实施方式的荫罩50中，在罩主体上所形成的多个窄缝2当中，至少在罩主体的对角轴上的窄缝2处在通过该窄缝的电子束7的入射角θ为20°以上的位置上所形成的窄缝2d，与关于该窄缝2d在垂直方向Y上邻接的窄缝2d之间，如图9和图10A中所示，以各窄缝2d、2d的表侧孔部52的位于水平方向X外周侧的表侧孔部开口端55(表侧孔部开口端Q1)的坐标轴为基准，使在垂直方向Y上延伸的桥部57向水平方向X外周侧后退地在水平方向X外周侧加宽的扩张区54。再者，扩张区54在通过蚀刻形成在垂直方向Y上延伸的槽状的表侧孔部52时同时形成。
这里，扩张区54的形成位置与根据上述第1实施方式的荫罩1′同样，虽然至少对窄缝2的电子束7的入射角θ为20°以上的对角轴上成为对象，但是即使是这以外的位置也可以。例如，也能够以入射角θ为20°以上的对角轴上的附近为对象。此外，例如，也能够以从通过入射角θ为20°的对角轴上的位置的垂直轴线外周侧的所有区域为对象，作为极端的场合，也可以在罩主体的整个面上形成。但是，最有效的是如图12中所示，对在电子束7斜着通过的位置上所形成的窄缝2d扩张区54被形成的场合。把扩张区54的形成位置取为20°以上，是因为在这以下丝毫没有形成扩张区54的必要的缘故。
此外，最好是扩张区54在令其水平方向X的宽度为D3(μm)，令成为基准的表侧孔部开口端Q1，与关于具有成为基准的表侧孔部开口端Q1的窄缝在水平方向X外周侧上邻接的窄缝2的表侧孔部52的位于水平方向中心侧的开口端Q2之间的距离为T1(μm)时，满足0＜D3＜〔T1-50〕μm的关系。
具有这种关系的荫罩50可以极力抑制斜着通过窄缝2的通孔51的电子束7的一部分被表侧孔部52的侧壁(参照图10B的标号56)反射。使扩张区54的水平方向X的宽度D3大于0是因为至少有必要形成扩张区54而收到上述作用效果的缘故。另一方面，使扩张区54的水平方向X的宽度D3小于距离〔T1-50〕μm是因为如果超过〔T1-50〕μm则荫罩50的强度降低的缘故。
再者，张力型的荫罩50，如果作为一个例子举出，则在水平方向X上排列的窄缝2的间距P3为700μm左右，在垂直方向Y上排列的窄缝2的间距P4为650μm左右，距离T1为50～300μm左右。再者，在水平方向X上排列的窄缝2的间距P3随着向电子束7的入射角θ(参照图14)加大的外周侧而慢慢地成为大的值。另一方面，扩张区54的垂直方向Y的宽度Z1以大约150～400μm的大小来形成。
图10B是沿图10A的X-X线的剖视图。如图10中所示，窄缝2的表侧孔部52为联系垂直方向Y上邻接的表侧孔部52的槽形，从图10B可以看出，扩张区54是以表侧孔部开口端Q1的坐标轴为基准，到水平方向X外周侧的开口端W1的宽度D3，成为在水平方向X外周侧鼓出的方式形成。这种扩张区54通过部分地蚀刻桥部24的外周侧而形成。电子束7可以不被表侧孔部52的侧壁56反射而通过该连通部23。
这样一来，如果用根据本发明的第2实施方式的荫罩50，则由于至少在罩主体的对角轴上的窄缝2d处通过该窄缝的电子束7的入射角θ为20°以上的位置上所形成的窄缝2d，与关于该窄缝2d垂直方向Y上邻接的窄缝2d之间，以各窄缝2d、2d的表侧孔部52的位于水平方向X外周侧的表侧孔部开口端55(表侧孔部开口端Q1)的坐标轴为基准，使在垂直方向Y上延伸的桥部57向水平方向X外周侧后退地在水平方向X外周侧形成扩张区54，所以可以极力抑制斜着通过窄缝2d的通孔51的电子束7的一部分被表侧孔部52的侧壁反射。结果，可以以具有良好的辉度的状态，使由想要的大小与形状组成的射束点着屏于显像管的荧光面上。
此外，如果用根据本发明的第2实施方式的荫罩50，则由于具有通过上述这种蚀刻而形成凹状的扩张区54，所以与根据上述第1实施方式的荫罩1、1′同样，可起到降低隆起现象的作用效果，特别是作为容易受隆起现象影响的具有高偏转角的薄型显像管的荫罩可以很好地使用。
(根据第1实施方式和第2实施方式的荫罩的制造方法)接下来，就根据上述第1实施方式和第2实施方式的荫罩1、1′、50的制造方法进行说明。再者，不用说，本发明的荫罩并不仅限定于通过下述制造方法制造。
根据上述第1实施方式和第2实施方式的荫罩1、1′、50可以通过下面所述的历来公知的方法来形成。
也就是说，荫罩1、1′、50的制造通常是通过光刻的各工序来进行，由连续生产线装置来制造。具体地说，例如，在金属薄板的两面上涂布水溶性胶质类光敏抗蚀剂等，使之干燥。然后，使形成上述那种表侧孔部32、52的形状图形的光敏抗蚀剂紧贴在其表面上，使形成里侧孔部33、53的形状图形的光敏抗蚀剂紧贴在里面上，由高压水银等的紫外线曝光，用水显像。再者，形成表侧孔部32、52的图形的光敏抗蚀剂，与形成里侧孔部33、53的图形的光敏抗蚀剂的位置关系及其形状，考虑所得到的荫罩1、1′、50上所形成的窄缝2的表侧孔部32、52与里侧孔部33、53的位置关系及它们的大小而设计、配置。
然后，基于各部的蚀刻进行速度的不同，以上述的各个形状来形成周围由抗蚀剂膜图像(显像后的抗蚀剂膜)所覆盖的金属薄板的露出部分。再者，蚀刻加工是在热处理等后，从两面侧进行喷淋氯化亚铁溶液等进行的。
然后，通过连续进行水洗、剥离等后工序，最终，可以制造根据上述第1实施方式和第2实施方式的荫罩1、1′、50。
权利要求
1.一种荫罩，是在罩主体的水平方向和垂直方向上排列多个窄缝而成，在显像管的荧光面上形成大致矩形的射束点，其特征在于，在前述罩主体上所形成的前述各窄缝包括电子束入射侧的大致矩形的里侧孔部，电子束出射侧的大致矩形的表侧孔部，以及通过前述里侧孔部和前述表侧孔部连通而形成的通孔；前述罩主体包括位于该罩主体的面内的中心的中心点，通过该中心点沿着面内在水平方向上延伸的水平轴，在垂直方向上延伸的垂直轴以及在对角方向上延伸的两个对角轴；在前述罩主体上所形成的前述多个窄缝当中在垂直方向上邻接的窄缝的表侧孔部之间形成有在水平方向上延伸的水平方向桥部；在前述罩主体上所形成的前述多个窄缝当中，至少前述罩主体的前述对角轴上的窄缝中通过该窄缝的电子束的入射角为20°以上的位置上所形成的窄缝与关于该窄缝在垂直方向上邻接的窄缝之间，在联系位于该各窄缝的表侧孔部的水平方向外周侧的表侧孔部开口端彼此的联通部处，设置有以贯通该各窄缝的表侧孔部之间所形成的水平方向桥部的方式形成的连通部；前述连通部以由该连通部所联系的前述各窄缝的表侧孔部的位于水平方向外周侧的表侧孔部开口端为基准，在水平方向中心侧形成，在令成为该基准的表侧孔部开口端与由前述连通部所联系的前述各窄缝的通孔的位于水平方向外周侧的通孔开口端之间的距离为T(μm)，而且，令前述连通部的水平方向的宽度为D1(μm)时，满足0＜D1＜T的关系。
2.权利要求1中所述的荫罩，其特征在于，在前述罩主体上所形成的前述多个窄缝当中在水平方向上邻接的窄缝的表侧孔部之间，形成有在垂直方向上延伸的垂直方向桥部，前述连通部具有以由该连通部所联系的前述各窄缝的前述表侧孔部开口端为基准，使前述垂直方向桥部向水平方向外周侧后退地在水平方向外周侧加宽的扩张区。
3.权利要求2中所述的荫罩，其特征在于，在令前述扩张区的水平方向的宽度为D2(μm)时满足50μm＜〔D1+D2〕＜〔T+50〕μm的关系。
4.权利要求1中所述的荫罩，其特征在于，前述荫罩为通过压力加工形而成形的压制型。
5.一种荫罩，是在罩主体的水平方向和垂直方向上排列多个窄缝而成，在显像管的荧光面上形成大致矩形的射束点，其特征在于，在前述罩主体上所形成的前述各窄缝包括电子束入射侧的大致矩形的里侧孔部，电子束出射侧的大致矩形的表侧孔部，以及通过前述里侧孔部和前述表侧孔部连通而形成的通孔；前述罩主体包括位于该罩主体的面内的中心的中心点，通过该中心点沿着面内在水平方向上延伸的水平轴，在垂直方向上延伸的垂直轴以及在对角方向上延伸的两个对角轴；在前述罩主体上所形成的前述多个窄缝当中在水平方向上邻接的窄缝的表侧孔部之间，形成有在垂直方向上延伸的垂直方向桥部；在前述罩主体上所形成的前述多个窄缝当中，至少前述罩主体的前述对角轴上的窄缝中通过该窄缝的电子束的入射角为20°以上的位置上所形成的窄缝与关于该窄缝在垂直方向上邻接的窄缝之间，设置有以该各窄缝的表侧孔部的位于水平方向外周侧的表侧孔部开口端为基准，使前述垂直方向桥部向水平方向外周侧后退地在水平方向外周侧加宽的扩张区。
6.权利要求5中所述的荫罩，其特征在于，在令前述扩张区的水平方向的宽度为D3(μm)，令前述成为基准的表侧孔部开口端与关于具有前述成为基准的表侧孔部开口端的窄缝在水平方向外周侧上邻接的窄缝的表侧孔部的位于水平方向中心侧的开口端之间的距离为T1(μm)时，满足0＜D3＜〔T1-50〕μm的关系。
7.权利要求5中所述的荫罩，其特征在于，前述荫罩是在使用时在垂直方向上伸展的张力型。
全文摘要
在压制型的荫罩(1)中，在罩主体(1a)的水平方向(X)和垂直方向(Y)上排列多个窄缝(2)。各窄缝(2)具有通孔(31)。在罩主体(1a)上形成的多个窄缝(2)中，至少在罩主体(1a)的对角轴(5)上的窄缝(2d)中电子束(7)的入射角为20°以上的位置上所形成的窄缝(2d)，与关于该窄缝(2d)在垂直方向上邻接(Y)的窄缝(2d)之间设有连通部(23)。连通部(23)以各窄缝(2d)的通孔(31)的表侧孔部开口端(Q)的坐标轴为基准在水平方向(X)中心侧形成，成为基准的表侧孔部开口端(Q)与通孔开口端(R)之间的距离为T(μm)，连通部(23)的水平方向(X)的宽度为D1(μm)时，满足0＜D1＜T的关系。
文档编号H01J29/07GK1763899SQ20051011414
公开日2006年4月26日 申请日期2005年10月18日 优先权日2004年10月18日
发明者秀岛启文, 羽鸟敏洋 申请人:大日本印刷株式会社