任意尺寸底板及显示屏的气相沉积荫罩板系统及其方法
【专利说明】任意尺寸底板及显示屏的气相沉积荫罩板系统及其方法
[0001]本申请为申请号为201010591718.4，申请日为2010年12月16日，名为“任意尺寸底板和显示屏时的气相沉积荫罩板系统及其方法”的分案申请。
技术领域
[0002]本发明涉及底板及显示屏领域，更具体的说涉及一种任意尺寸底板和显示屏的气相沉积荫罩板系统及其方法。
【背景技术】
[0003]目前，国内外制造显示屏及底板的主流技术为光蚀刻技术，而光刻机及基板材料尺寸决定了产出的显示屏及底板的最大尺寸。现有技术无法做出超过其光刻机尺寸上限的底板及显示屏，且无法及时、迅速地满足客户的自定义尺寸底板和显示屏的需求，并且该技术还存在投资规模大，占地面积大、对环境要求高、产品单一和产品生产时间长等技术问题。
[0004]多年以来人们已经在微电子制造中使用气相沉积荫罩板工艺，气相沉积荫罩板工艺比光刻工艺便宜且容易很多，但是本领域普通技术人员还不支持用气相沉积荫罩板工艺制造大面积底板。
[0005]针对上述问题，人们开发出了诸如中国发明专利公告CNlO 102742 4B公开的“使用小面积荫罩板制造大面积底板的系统和方法”，如图1所示，其示出了通过在连续设置的沉积真空室314a和314b内部的荫罩板沉积工艺逐步形成包括基板段312a、312b、312c、312d、312e和312f的3X2阵列的底板310的典型制造工艺300 ;沉积真空室314a和314b分别包括荫罩板316a和316b。其是用多个连续基板段312上的多次沉积事件来形成一层底板310 ;具体的，在时间I时通过使用荫罩板316a，在沉积真空室314a内部的基板段312a上发生沉积事件；然后推进基板，并且在时间2时，通过使用荫罩板316a在沉积真空室314a内部的基板段312b上发生随后的沉积事件；然后推进基板，并且在时间3时，通过使用荫罩板316a在沉积真空室314a内部的基板段312c上发生随后的沉积事件；在沿基板段312a、312b和312c的行完成沉积事件时，将基板推进到沉积真空室314b，其中荫罩板316b相对于荫罩板316a偏移位置，以便形成基板段312的下一行。在时间4时通过使用荫罩板316b，在沉积真空室314b内部的基板段312d上发生沉积事件；然后推进基板，并且在时间5时通过使用荫罩板316b，在沉积真空室314b内部的基板段312e上发生沉积事件；然后推进基板，并且在时间6时通过使用荫罩板316b，在沉积真空室314b内部的基板段312f上发生沉积事件。
[0006]其在实际应用中确能实现使用小面积荫罩板制造大面积底板的功效，但是其仍然存在如下不足:
一、在针对大面积底板时，其在沉积时被分割为多行多列的基板段，即需要配套多个连续设置的沉积室并通过大量的沉积才能实现整个底板的成型，由此使得整个制造系统过于冗长； 二、在针对大面积底板时，由于需要大量的沉积次数，故荫罩板和基板之间定位机构会变得复杂，且亦容易出现因为荫罩板与基板段之间定位不精确而造成的相邻基板段之间连接性能差或相脱离的问题；
三、每块荫罩板对应的沉积源需要负责沉积一行或者列中所有的基板段，由此在沉积行列不等的底板或者大面积底板时，在对沉积源进行补充材料等方面亦存在不便之处。
[0007]有鉴于此，本发明人针对现有底板及显示屏制作方法的上述缺陷深入研宄，遂有本案产生。
【发明内容】
[0008]本发明的第一目的在于提供一种任意尺寸底板及显示屏的气相沉积荫罩板系统，以解决现有技术中制造系统冗长、荫罩板与基板之间定位复杂而使相邻基板段之间连接性能差以及沉积源中沉积材料不便于补充的问题。
[0009]为了达成上述目的，本发明的解决方案是:
一种任意尺寸底板及显示屏的气相沉积荫罩板系统，包括:
一真空室，所述真空室内具有位于其中的M组荫罩板和沉积源；
一基板，具有M个基本单元，每一基本单元均一致性地被分割为四个区域；
一荫罩板和沉积源的传动装置，用于使所述M组荫罩板和沉积源同时在四个不同时间里且在所述真空室内依次进行平移，该M组荫罩板和沉积源分别依次对应于M个基本单元中每一基本单元的四个不同区域；
其中，M为大于I的自然数。
[0010]另一解决方案是，一种任意尺寸底板及显示屏的气相沉积荫罩板系统，包括: 一基板，具有M个基本单元，每一基本单元均一致性地被分割为四个区域；
四个串联的真空室，每个真空室内固定设有位于其中的M组荫罩板和沉积源，该四个真空室中的M组荫罩板和沉积源设置位置均不同，分别对应于基板上的M个基本单元的四个不同区域；
一基板传动装置，用于使所述基板沿所述串联的真空室依次平移，分别在四个不同时间里停留于所述四个不同的真空室，该四个不同的真空室上固设的M组荫罩板和沉积源分别在所述四个不同时间对应于M个基本单元的四个不同区域；
其中，M为大于I的自然数。
[0011]本发明的第二目的在于提供一种任意尺寸底板及显示屏的气相沉积荫罩板系统的气相沉积的方法，包括如下步骤:
A、在真空室内通过荫罩板和沉积源的传动装置将M组荫罩板和沉积源分别定位于对应基板的M个基本单元的第一区域；
B、通过荫罩板和沉积源以真空蒸镀的方式将材料沉积在基板的M个基本单元的第一区域；
C、通过该荫罩板和沉积源的传动装置将M组荫罩板和沉积源在真空箱内同时平移至基板的M个基本单元的第二区域；
D、通过荫罩板和沉积源以真空蒸镀的方式将材料沉积在基板的M个基本单元的第二区域； E、重复步骤C、D而完成对基板的M个基本单元中第三和第四区域的沉积。
[0012]采用上述结构后，本发明至少具有如下有益效果:
一、本发明采用移动基板的方式来实现时，其只需要根据每一基本单元中区域个数而设置四个真空箱即可；而当采用移动荫罩板及沉积源的方式来实现时，则只需要在一个真空箱内移动四次即可，即本发明无需如现有技术般设置大量真空箱，由此本发明具有简化整个沉积系统的功效；
二、本发明仅需在四个时间内完成对每一基本单元中四个区域的沉积，即可完成对任意尺寸的底板及显示屏进行制造，由此本发明在移动时仅需移动四次即可，即能避免因为移动次数过多而造成相邻基本段之间连接性能差的问题；
三、本发明在采用移动基板进行沉积时，一块荫罩板在成型一个底板及显示屏时仅需要进行一次沉积操作，由此能使得沉积源中沉积材料具有便于控制的功效。
【附图说明】
[0013]图1为现有技术中一种气相沉积荫罩板系统制造进程的时序图；
图2为本发明第一实施例制造进程的时序图；
图3为本发明第二实施例制造进程的时序图；
图4为本发明第二实施例采用荫罩板传动时制造进程的时序图。
[0014]图中:
基板:10
基板段:10a、10b、10c、1d 荫罩板:11a、lib、11c、lid 真空室:13A、13B、13C、13D 基板:20
基板段:20aa、20ba、20ca、20da、20ab、20bb、20cb、20db、20ac、20bc、20cc、20dc、20ad、20bd、20cd、20dd、20ea、20eb、20ec、20ed
荫罩板:21aa、21ab、21ac、21ad、21ba、21bb、21bc、21bd、21ca、21cb、21cc、21cd、21da、21db、21dc、21dd、21ea、21fa、21ga、21ha真空室:23A、23B、23C、23D、23E底板:310
沉积真空室:314a、314b 基板段:312a、312b、312c、312d、312e、312f 荫罩板:316a、316b 间距:S。
【具体实施方式】
[0015]为了进一步解释本发明的技术方案，下面通过具体实施例来对本发明进行详细阐述。
[0016]如图2所示，其示出的为本发明第一实施例制造进程的时序图，其中，该气相沉积荫罩板系统包括连续串联设置的4个真空室13A、13B、13C和13D以及可在真空室内移动的基板10和用于驱动基板10沿真空室的路径进行平移的传动装置(图中未示出)；该基板10仅具有I个基本单元，并该基本单元被分割为4个区域，该每个真空室内均具有位于其中的I组荫罩板和沉积源，即在本实施例中M等于1，而N则等于4 ;本实施例通过四次沉积，即可逐步形成2X2阵列的底板。
[0017]下面对本发明第一实施例的具体时序进行详细说明:
在时间I时，通过使用荫罩板11a，在真空室13A内的基板段1a上发生沉积事件；通过传动装置推动基板而使真空室13B中荫罩板Ilb能准确对准基板段10b，即在时间2时，通过使用荫罩板11b，在真空室13B内的基板段1b上发生沉积事件；再次通过传动装置推动基板而使真空室13C中荫罩板Ilc能准确对准基板段10c，即在时间3时，通过使用荫罩板11c，在真空室13C内的基板段1c上发生沉积事件；又通过传动装置推动基板而使真空室13D中荫罩板Ild能准确对准基板段10d，即在时间4时，通过使用荫罩板lld，在真空室13D内的基板段1d上发生沉积事件。
[0018]如此，通过使用荫罩板，通过时间1、2、3、4时的连续沉积事件形成了 2X2阵列的底板，其是应用于小面积底板的制作。
[0019]优选的，该荫罩板系统能操作于基本单元中相邻区域对应的荫罩板和沉积源在沉积时的一部分材料相重叠，从而提供底板的缝合效果。需要说明的是，各个真空室之间的间距S可以是任意合适或所需的距离，所述间距能够使基板从真空室传递到真空室同时，真空室可以无干扰的操作。为此，间距S可以为O