。为了使用的目的，间距S可适当得大，以允许当使用真空箱的一半结构时，基板具有较宽范围的尺度。
[0020]当然在本实施例中，还可以做如下调整，即仅采用一个真空室，而在真空室内设置I组荫罩板和沉积源，而该传动装置则为荫罩板传动装置，在荫罩板传动装置的驱动下，通过时间1、时间2、时间3和时间4分别使得荫罩板能对应于不同的基板段10a、10b、10c和1d,而进行四次沉积，并实现形成2 X 2阵列的底板。
[0021]如图3所示，其示出的为本发明第二实施例制造进程的时序图，其中，该气相沉积荫罩板系统包括连续串联设置的4个真空室23A、23B、23C和23D以及可在真空室内移动的基板20和用于驱动基板20沿真空室的路径进行平移的传动装置(图中未示出)；该基板20具有4个基本单元，并每一基本单元被分割为4个区域，该每个真空室内均具有位于其中的4组荫罩板和沉积源，每一组荫罩板分别对应于一个基本单元中的一个区域，即在本实施例中M等于4，N也等于4 ;其中基板段20aa、20ba、20ca和20da构成一个基本单元，基板段20ab、20bb、20cb和20db构成一个基本单元，基板段20ac、20bc、20cc和20dc构成一个基本单元，基板段20ad、20bd、20cd和20dd构成一个基本单元。本实施例只需通过4次沉积，即可逐步形成4X4阵列的底板。
[0022]下面对本发明第二实施例的具体时序进行详细说明:
在时间I时，通过使用荫罩板21aa、21ab、21ac和21ad，在真空室23A内的基板段20aa、20ab、20ac和20ad上发生沉积事件，其中荫罩板2Iaa对应于基板段20aa，荫罩板2Iab对应于基板段20ab，荫罩板2Iac对应于基板段20ac，荫罩板2Iad对应于基板段20ad ；
通过传动装置推动基板而使真空室23B中荫罩板21ba、21bb、21bc和2Ibd分别准确对准基板段20ba、20bb、20bc和20bd，即在时间2时，通过使用荫罩板21ba、21bb、21bc和21bd在真空室23B内对基板段20ba、20bb、20bc和20bd——进行沉积； 通过传动装置推动基板而使真空室23C中荫罩板21ca、21cb、21cc和21cd分别准确对准基板段20ca、20cb、20cc和20cd，即在时间3时，通过使用荫罩板21ca、21cb、21cc和21cd在真空室23C内对基板段20ca、20cb、20cc和20cd——进行沉积；
通过传动装置推动基板而使真空室23D中荫罩板21da、21db、21dc和21dd分别准确对准基板段20da、20db、20dc和20dd，即在时间3时，通过使用荫罩板21da、21db、21dc和21dd在真空室23D内对基板段20da、20db、20dc和20dd——进行沉积。
[0023]如此，通过使用荫罩板，经由时间1、2、3和4时的连续沉积事件形成了 4X4阵列的底板。需要说明的是，当需要形成更大的底板时，只需要相应增加基板段的个数以及每个真空室中荫罩板的个数，如此本发明可以推广至制造任意尺寸的底板和显示屏，而不仅限于4X4阵列底板和2X2阵列底板，即M可以为推广到自然数的范畴。即可同样通过时间
1、2、3和4，并通过四次移动即可完成整个沉积。对于N，亦不限于上述实施例中显示的四个，可以根据需要而设置为大于或等于2的自然数。
[0024]优选的，在本实施例中，该荫罩板系统能操作于基本单元中相邻区域对应的荫罩板和沉积源在沉积时的一部分材料相重叠，从而提供底板的缝合效果。需要说明的是，各个真空室之间的间距S可以是任意合适或所需的距离，所述间距能够使基板从真空室传递到真空室同时，真空室可以无干扰的操作。为此，间距S可以为O。为了使用的目的，间距S可适当得大，以允许当使用真空箱的一半结构时，基板具有较宽范围的尺度。
[0025]当然在本实施例中，还可以做如下调整，即仅采用一个真空室23E，通过移动荫罩板的方式而在时间1、2、3和4进行依次沉积；如图4所示，该真空室23E中具有荫罩板21ea、21fa、21ga和21ha，而该基板则包括四个基本单元，其中基板段20ea、20eb、20ec和20ed构成一个基本单元，基板段20fa、20fb、20fc和20fd构成一个基本单元，基板段20ga、20gb、20gc和20gd构成一个基本单元，基板段20ha、20hb、20hc和20hd构成一个基本单元；通过在真空室23E中进行四次沉积，即可形成4X4阵列的底板。
[0026]综上所述，本发明在采用移动基板的方式来实现时，其只需要根据每一基本单元中区域的个数N而设置N个真空箱即可；而当采用移动荫罩板的方式来实现时，则只需要在一个真空箱内移动即可，即本发明无需如现有技术般设置大量真空箱，由此本发明具有简化整个沉积系统的功效；同时，本发明仅需在N个时间内完成对每一基本单元中N个区域的沉积，即可完成对任意尺寸的底板及显示屏进行制造，由此本发明在移动时仅需移动N次即可，即能避免因为移动次数过多而造成相邻基本段之间连接性能差的问题；另外，本发明在采用移动基板进行沉积时，一块荫罩板在成型一个底板及显示屏时仅需要进行一次沉积操作，由此能使得沉积源中沉积材料具有便于控制的功效。
[0027]本发明还提供一种任意尺寸底板及显示屏的气相沉积荫罩板方法，其中，包括如下步骤:
A、按照与完全位于真空箱内的荫罩板和沉积源可操作关系，将每组荫罩板和沉积源分别定位于每一基本单元的第一区域；具体地，在第一实施例中，该第一区域即为基板段10a，而对于第二实施例，该第一区域即为基板段20aa、20ba、20ca和20da ；
B、通过真空蒸镀将材料沉积在每一基本单元的第一区域；
C、通过传动装置将每组荫罩板和沉积源分别定位与每一基本单元的第二区域；具体地，在第一实施例中，该第二区域为基板段10b，而对于第二实施例，该第二区域为基板段20ab、20bb、20cb 和 20db ；
D、通过真空蒸镀将材料沉积在每一基本单元的第二区域；
E、重复步骤C、D而完成对每一基本单元中N个区域的沉积，其中N为大于或等于2的自然数。如在第一实施例和第二实施例中，其只延伸到第三区域和第四区域。
[0028]其中，该传动装置可以为基板传动装置，该真空箱则包括串联设置的N个，并每一基本单元的不同区域分别在不同的真空箱中沉积。该传动装置也可以为荫罩板传动装置，此时该真空箱则为一个。为了起到缝合的效果，在沉积基本单元中相邻区域时，使对应的荫罩板和沉积源沉积时的一部分材料相重叠。
[0029]需要说明的是，在本发明中，基板具有基本单元，而该基本单元又被划分为多个区域，其仅仅是指一种被视为，而非基本实质上存在分界进而形成明显的基本单元和区域。
[0030]上述实施例和图式并非限定本发明的产品形态和式样，任何所属技术领域的普通技术人员对其所做的适当变化或修饰，皆应视为不脱离本发明的专利范畴。
【主权项】
1.一种任意尺寸底板及显示屏的气相沉积荫罩板系统，其特征在于，包括: 一真空室，所述真空室内具有位于其中的M组荫罩板和沉积源； 一基板，具有M个基本单元，每一基本单元均一致性地被分割为四个区域； 一荫罩板和沉积源的传动装置，用于使所述M组荫罩板和沉积源同时在四个不同时间里且在所述真空室内依次进行平移，该M组荫罩板和沉积源分别依次对应于M个基本单元中每一基本单元的四个不同区域； 其中，M为大于I的自然数。
2.一种任意尺寸底板及显示屏的气相沉积荫罩板系统，其特征在于，包括: 一基板，具有M个基本单元，每一基本单元均一致性地被分割为四个区域； 四个串联的真空室，每个真空室内固定设有位于其中的M组荫罩板和沉积源，该四个真空室中的M组荫罩板和沉积源设置位置均不同，分别对应于基板上的M个基本单元的四个不同区域； 一基板传动装置，用于使所述基板沿所述串联的真空室依次平移，分别在四个不同时间里停留于所述四个不同的真空室，该四个不同的真空室上固设的M组荫罩板和沉积源分别在所述四个不同时间对应于M个基本单元的四个不同区域； 其中，M为大于I的自然数。
3.采用权利要求1所述的一种任意尺寸底板及显示屏的气相沉积荫罩板系统的气相沉积的方法，其特征在于，包括如下步骤: A、在真空室内通过荫罩板和沉积源的传动装置将M组荫罩板和沉积源分别定位于对应基板的M个基本单元的第一区域； B、通过荫罩板和沉积源以真空蒸镀的方式将材料沉积在基板的M个基本单元的第一区域； C、通过该荫罩板和沉积源的传动装置将M组荫罩板和沉积源在真空箱内同时平移至基板的M个基本单元的第二区域； D、通过荫罩板和沉积源以真空蒸镀的方式将材料沉积在基板的M个基本单元的第二区域； E、重复步骤C、D而完成对基板的M个基本单元中第三和第四区域的沉积。
【专利摘要】本发明公开一种任意尺寸底板及显示屏的气相沉积荫罩板系统及其方法，包括一真空室，所述真空室内具有位于其中的M组荫罩板和沉积源；一基板，具有M个基本单元，每一基本单元均一致性地被分割为四个区域；一荫罩板和沉积源的传动装置，用于使所述M组荫罩板和沉积源同时在四个不同时间里且在所述真空室内依次进行平移，该M组荫罩板和沉积源分别依次对应于M个基本单元中每一基本单元的四个不同区域；其中，M为大于1的自然数。本发明具有能简化整个沉积系统、移动次数少以及能控制沉积材料的功效。
【IPC分类】C23C16-44
【公开号】CN104862669
【申请号】CN201510203396
【发明人】潘重光
【申请人】潘重光
【公开日】2015年8月26日
【申请日】2010年12月16日
【公告号】CN102021536A, EP2653584A1, EP2653584A4, US20130251907, WO2012079294A1