一种降低BL组装不良的纵向夹紧机构的制作方法

本发明属于光电产品生产技术领域，尤其涉及一种降低bl组装不良的纵向夹紧机构。

背景技术：

随着光电技术的发展，光电产品的类型样品类越来越多，随着自动化技术的成熟，生产光电子产品的生产线已逐步替代原先的人工生产线，大大提高了生产效率，但是自动化生产也具有其客观存在的缺陷，尤其明显的就是发现问题的滞后性，举例来说，不良现象出现在背板上，而由于是自动生产线，因而直到光电产品组装完毕后，在通过ccd自动化检测机台时才能够被发现，从而使得具有大量的重工产品，而就现有技术而言，对重工产品进行二次加工和维修还必须依赖人工进行，且重工过程中造成大量组装材料的仕损和人员的浪费。

如何降低自动组装生产线在组装的各个阶段的不良产生率是目前光电产品生产行业共同关注且急需解决的问题。

技术实现要素：

为了降低自动组装生产线在组装过程中的不良产生率，本发明提供一种降低bl组装不良的纵向夹紧机构，可以有效解决流水线上的半成品在各个组装单元停留、定位过程中与定位组件之间的较大碰撞或者摩擦力产生异物，从而降低异物在组装过程中掉进bl中的机率，提高bl的合格率。

本发明通过以下技术方案实现：

一种降低bl组装不良的纵向夹紧机构，包括纵向定位组件和底部支撑组件，所述纵向定位组件包括沿流水线纵向设置的前定位结构和后定位结构；所述前定位结构与顶升气缸的输出端固定连接，前定位结构靠近所述后定位结构的一侧设有缓冲槽，所述缓冲槽内设有至少一个缓冲体，所述缓冲体包括至少一个缓冲弹簧和缓冲块，所述缓冲弹簧一端与缓冲槽的右侧壁固定连接，缓冲弹簧另一端与缓冲块固定连接，所述缓冲块的长度小于缓冲槽的长度；

所述底部支撑组件包括支撑板、若干鳍片，所述支撑板底端设有至少一个顶升气缸，所述鳍片垂固定在支撑板上并沿流水线的纵向分布，所述鳍片上设顶部均布有多个钢珠。

所述的降低bl组装不良的纵向夹紧机构，所述缓冲块有且只有底壁与所述缓冲槽的底壁接触。

所述的降低bl组装不良的纵向夹紧机构，所述缓冲槽的底壁上沿长度方向均布有滚珠，所述缓冲块支承在所述滚珠上，以减小缓冲块与缓冲槽底壁之间的摩擦力，减少异物产生。

所述的降低bl组装不良的纵向夹紧机构，每一个所述缓冲体包括两个缓冲弹簧，两个缓冲弹簧对称设置在缓冲块上。

所述的降低bl组装不良的纵向夹紧机构，所述缓冲体的顶壁低于背板的侧壁。

所述的降低bl组装不良的纵向夹紧机构，所述缓冲块的侧壁上设有限位槽，所述限位槽内设有限位凸块，所述限位凸块的自由端插设在所述限位槽内，防止缓冲块冲出缓冲槽。

与现有的定位组件相比，本发明的定位组件具有以下有益效果：

本发明的纵向定位件通过缓冲组件泄掉部分背板向前的冲力，减小其与定位件的直接撞击，既可降低异物产生量，还可以防止背板中组装好的film材料产生位移，使组装后bl的异物类不良率以及由film材位移产生的不良率均大大降低；同时背板底面与支撑组件之间的摩擦力小了，从而进一步降低异物的产生机率。

附图说明

图1是背板的结构示意图。

图2是现有技术中的背板纵向定位组件的结构示意图。

图3是本发明的结构示意图一。

图4是本发明的结构示意图二。

图5是前定位结构的示意图。

图6是底部支撑组件的正视结构示意图。

图7是图6中a部分的放大示意图。

图中：1-背板；100-背板纵向定位组件；101-后定位结构；102-前定位结构；103-缓冲槽；104-缓冲体；105-缓冲弹簧；106-缓冲块；107-滚珠；200'-现有技术中的横定位件；102'-现有技术中的前定位结构；

300-底部支撑组件；301-支撑板；302-鳍片；303-钢珠；304-压板。

具体实施方式

为进一步阐述本发明达成预定目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及实施例对本发明的具体实施方式、结构特征及其功效，详细说明如下。

在本发明创造的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明创造和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明创造的限制。

此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明创造的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本发明创造中的具体含义。

实施例1：

参见图1、图2，现有技术中，当背板移动到定位区附近时，感应开关则感应到背板的存在，进而在顶升气缸的作用下将位于流水线前侧的纵定位件102'顶升至流水线的水平面以上，以阻止背板越过定位区继续向前移动，然而由于背板在流水线上具有一定的速度，因此，背板的前侧壁会直接与纵定位件硬撞击，不仅使背板与纵定位件之间由于冲击力而产生异物，而且会导致置于背板上的film材产生位移，进而产生组装不良。

参见图3-5所示，包括沿流水线纵向设置的前定位结构102和后定位结构101；所述前定位结构102与顶升气缸的输出端固定连接，前定位结构102靠近所述后定位结构101的一侧设有缓冲槽103，所述缓冲槽103内设有至少一个缓冲体104，所述缓冲体104包括至少一个缓冲弹簧105和缓冲块106，所述缓冲弹簧105一端与缓冲槽103的右侧壁固定连接，缓冲弹簧105另一端与缓冲块106固定连接，所述缓冲块106的长度小于缓冲槽103的长度。

在本实施例中，为了减小缓冲块106与缓冲槽103的内壁之间的摩擦力，所述缓冲块106有且只有底壁与所述缓冲槽103的底壁接触。

更进一步地，所述缓冲槽103的底壁上沿长度方向均布有滚珠107，所述缓冲块106支承在所述滚珠107上，以减小缓冲块106与缓冲槽103底壁之间的摩擦力，减少异物产生。

所述缓冲块106的侧壁上设有限位槽，所述限位槽内设有限位凸块，所述限位凸块的自由端插设在所述限位槽内，防止缓冲块106冲出缓冲槽103；

还包括底部支撑组件300，所述底部支撑组件300包括支撑板301、若干鳍片302，所述支撑板301底端设有至少一个顶升气缸，所述鳍片302垂固定在支撑板301上并沿流水线的纵向分布，所述鳍片302上设顶部均布有多个钢珠303。

参见图3、图4和图6、图7，还包括位于横向定位组件和纵向定位组件之间的底部支撑组件300，所述底部支撑组件300包括支撑板301、若干鳍片302，所述支撑板301底端设有至少一个顶升气缸，所述鳍片302垂直固定在支撑板301上并沿流水线的纵向分布，所述鳍片302上设顶部均布有多个钢珠303；

具体的，钢珠303通过压板304安装在鳍片302的顶部，鳍片302顶面上均布有多凹槽，滚珠置于凹槽内，压板304对应于所述凹槽处设有变径孔，滚珠部分穿过变径孔，压板304可以通过螺钉、胶水等固定件与鳍片302固定连接。

进一步地，底部支撑组件300可以是一个，也可以是两个，当具有两个底部支撑组件300是，两个底部支撑组件300对称设置，且均位于由纵向定位组件和横向定位组件围成的空间内。

在鳍片顶部设置钢珠的是因为：背板底部也不是光滑的，而是由很多的凸起、凸块、以及凹孔，而且由于流水线上设有用于推动背板沿流水线向前移动的传送机构，因此底部支撑组件不可以是一个整体，而当水平定位机构在各自的气缸驱动下将背板推向预设位置时，背板的底部是要与鳍片产生相对位移的，即产生摩擦，有摩擦就会产生异物；

当背板静止在定位区进行film材组装时，背板下方空间的气压会低于同水平面其他部分空间，从而使产生向定位区流动的横向气流，进而使背板底面与鳍片产生的异物在该空间飘荡；而当film材组装完毕后，该背板继续向前时，该区域的气压瞬间上升，造成扰流，该区域的异物会在一小段时间内腾起，当异物在机台顶部的气流作用下向下沉积时，则会落入后一片或者后几片的背板上，造成交叉污染。

设置滚珠可有效降低背板与鳍片的直接，硬性的碰撞，从而降低在定位时背板底部与鳍片之间产生异物的机率，降低交叉污染率。

实施例2：

在另外一个实施方式中，前定位结构102上设两个缓冲体104，两个缓冲体104对称设置在定位结构上，且每一个缓冲体104对应于一个缓冲槽103。

实施例3：

在其中一个实施例方式中，前定位结构102上设一个缓冲体104，所述缓冲体104包括两个缓冲弹簧105，两个缓冲弹簧105对称设置在缓冲块106上。

实施例4：

在一种具体实施方式中，所述缓冲体104的顶壁低于背板的侧壁，以防止前定位结构102在顶升气缸的带动下降时将定位结构上的异物落入背板中，在本实施例中之所以可以将定位结构使定位结构的高度第一背板顶面，是因为，缓冲弹簧105已经卸掉了背板大部分的惯性，因此背板不会在惯性作用下越过定位结构继续前行。

在本发明中，后定位结构101固设在移动座上，所述移动座包括基板，置于基板上的顶升气缸，后定位结构101与顶升气缸的输出端连接；基板远离前定位结构102的一侧与平行于流水线轴线的水平气缸的输出端固定连接，通过水平气缸调节前定位结构102与后定位结构101之间的纵向距离。

以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。