1.一种高性能等离子割嘴，包括割嘴本体，其特征在于：所述割嘴本体为中空结构，所述割嘴本体的中空结构从气流进口到出口依次为平滑过渡的第一圆锥面、圆筒面、圆弧面、第二圆锥面、一级压缩等离子孔和二级压缩等离子孔。
2.根据权利要求1所述的高性能等离子割嘴，其特征在于：所述割嘴本体采用碲铜或铬锆铜制成。
3.根据权利要求1所述的高性能等离子割嘴，其特征在于：所述割嘴本体的气流出口端外表面设为锥形，气流进口端设为圆柱形。
4.根据权利要求3所述的高性能等离子割嘴，其特征在于：所述割嘴本体的气流进口端外表面还设有用于定位安装的环形止挡凸起。
5.根据权利要求1所述的高性能等离子割嘴，其特征在于：所述一级压缩等离子孔和二级压缩等离子孔的直径比为1:1～1:1.5，且所述一级压缩等离子孔和二级压缩等离子孔之间设置有过渡面。