一种数控等离子切割平台的制作方法

文档序号:26134074发布日期:2021-08-03 13:20阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种数控等离子切割平台,包括支架(1),其特征在于:所述支架(1)一侧开设有空腔一,所述支架(1)顶部开设有两个空腔二,所述支架(1)内部设有清洁机构;

所述清洁机构包括电机(2),所述电机(2)固定安装在支架(1)一侧,所述电机(2)输出轴固定连接有往复丝杠(3),所述往复丝杠(3)一端贯穿空腔一并延伸至支架(1)另一侧,所述支架(1)内部固定嵌设有切割台(5),所述切割台(5)位于往复丝杠(3)顶部,所述往复丝杠(3)外部套接有轴承座(4),所述轴承座(4)与往复丝杠(3)通过滚珠螺母副连接,所述轴承座(4)顶部固定连接有短板(6),所述短板(6)顶部固定连接有刮板(7),所述刮板(7)后端与切割板前端相接触,所述轴承座(4)底部设有限位组件,所述支架(1)顶部嵌设有转轴一(8),所述转轴一(8)一端延伸至空腔一内部,所述转轴一(8)另一端贯穿其中一个空腔二并延伸至另一个空腔二内部,所述转轴一(8)一端与往复丝杠(3)外部均固定套接有链轮(9),两个所述链轮(9)均位于空腔一内部,两个所述链轮(9)外侧均套设有链条(10),两个所述链轮(9)之间通过链条(10)驱动连接,所述转轴一(8)外部固定套设有两个锥齿轮一(11),两个所述锥齿轮一(11)分别位于两个空腔二内部,两个所述锥齿轮一(11)一侧均设有锥齿轮二(12),所述锥齿轮二(12)与锥齿轮一(11)啮合链接,所述支架(1)顶部固定安装有两个风筒(13),两个所述风筒(13)分别套设在两个空腔二外部,两个所述风筒(13)顶部均延伸至支架(1)顶部外侧,两个所述风筒(13)底部均延伸至支架(1)内部,两个所述锥齿轮二(12)底部固定连接有转轴二(14),两个所述转轴二(14)底端均延伸至风筒(13)内部,两个所述转轴二(14)底端均固定连接有风扇(15),两个所述风筒(13)顶部均固定连接有风管一(16),两个所述风管一(16)顶部均固定连接有风管二(17),所述支架(1)一侧固定连接有灰尘箱(18),所述灰尘箱(18)位于电机(2)顶部,所述风管二(17)一端延伸至灰尘箱(18)内部。

2.根据权利要求1所述的一种数控等离子切割平台,其特征在于:所述往复丝杠(3)与支架(1)连接处通过轴承活动连接,所述转轴一(8)与支架(1)连接处通过轴承活动连接,所述转轴二(14)与支架(1)连接处通过轴承活动连接。

3.根据权利要求1所述的一种数控等离子切割平台,其特征在于:两个所述风筒均固定嵌设有固定杆(19),两个所述固定杆(19)均套接在转轴二(14)外部,所述转轴二(14)与固定杆(19)连接处通过轴承活动连接。

4.根据权利要求1所述的一种数控等离子切割平台,其特征在于:所述支架(1)一侧固定连接有保护壳(20),所述保护壳(20)套设在电机(2)外部,所述保护壳(20)顶部和底部均固定嵌设有散热网(21)。

5.根据权利要求1所述的一种数控等离子切割平台,其特征在于:所述支架(1)内部固定连接有v形斗(22),所述v形斗(22)位于限位组件底部,所述v形斗(22)底部固定连接出料管(27),所述出料管(27)外部设有开关阀(23)。

6.根据权利要求1所述的一种数控等离子切割平台,其特征在于:所述限位组件包括限位块(24),所述限位块(24)固定连接在轴承座(4)底部,所述支架(1)内部固定嵌设有限位板(25),所述限位板(25)位于轴承座(4)底部,所述限位板(25)顶部开设有限位槽,所述限位块(24)嵌设在限位槽内部,所述限位槽与限位块(24)相匹配。

7.根据权利要求1所述的一种数控等离子切割平台,其特征在于:所述限位组件包括限位块(24),所述限位块(24)固定连接在轴承座(4)底部,所述支架(1)内部固定嵌设有限位板(25),所述限位板(25)位于轴承座(4)底部,所述限位板(25)顶部开设有限位槽,所述限位槽内部固定安装有限位杆(26),所述限位块(24)套接在限位杆(26)外部。


技术总结
本实用新型公开了一种数控等离子切割平台,其技术方案是:包括支架,所述支架一侧开设有空腔一,所述支架内部设有清洁机构,所述清洁机构包括电机,所述电机固定安装在支架一侧,所述电机输出轴固定连接有往复丝杠,所述往复丝杠一端贯穿空腔一并延伸至支架另一侧,所述往复丝杠外部套接有轴承座,所述轴承座与往复丝杠通过滚珠螺母副连接,一种数控等离子切割平台有益效果是:刮板来回移动可以将切割板前端的残渣刮除干净,来回刮除不会产生残渣堆积,不需要人工去刮除残渣,刮板及时清理可以一直保持切割板前端的清洁度,吸力会将产生的灰尘和烟气吸走,灰尘和烟气被吸走就可以保持被切割物体的清洁,就不需要切割完成后人工去清理。

技术研发人员:蒋一品
受保护的技术使用者:太仓泰新自动化设备有限公司
技术研发日:2020.12.01
技术公布日:2021.08.03
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