一种激光粘贴方法与流程

文档序号:35019518发布日期:2023-08-04 11:46阅读:33来源:国知局
一种激光粘贴方法与流程

本发明涉及粘接,特别是涉及一种激光粘贴方法。


背景技术:

1、目前,随着技术的发展,半导体被应用得越来越广泛,其粘贴精度要求高,但是其尺寸小而薄、易碎,针对这种情况,有必要研究新的粘贴工艺,以满足生产需求。


技术实现思路

1、本发明实施例的目的是提供一种激光粘贴方法,其能够满足半导体粘贴精度要求,同时提高生产合格率。

2、为了解决上述技术问题,本发明实施例提供一种激光粘贴方法,包括:

3、将半导体预热至第一温度,预热时间为第一预设时间;

4、将半导体加热至第二温度,加热时间为第二预设时间;其中,所述第二温度高于所述第一温度;

5、调整半导体至与基板相配合的预贴合位置,并通过激光焊接将所述半导体连接在所述基板上。

6、作为优选方案,所述第一温度为45-75℃,所述第二温度为100-130℃。

7、作为优选方案,所述第一预设时间为1-2秒,所述第二预设时间为1-2秒。

8、作为优选方案,所述将半导体预热至第一温度,具体包括:

9、采用激光将半导体预热至第一温度,频率为30khz,激光束是co2激光束,激光束的波长为8μm,激光束的激光功率密度为0.5w/mm2。

10、作为优选方案,将半导体预热至第一温度的激光光斑的直径小于或等于0.1毫米,热影响区域小于0.2毫米。

11、作为优选方案,所述将半导体加热至第二温度,具体包括:

12、采用激光将半导体加热至第二温度,频率为50khz,激光束是co2激光束,激光束的波长为12μm,激光束的激光功率密度为2w/mm2。

13、作为优选方案,将半导体加热至第二温度的激光光斑的直径小于或等于0.1毫米,热影响区域小于0.2毫米。

14、作为优选方案,所述调整半导体至与基板相配合的预贴合位置,并通过激光焊接将所述半导体连接在所述基板上,具体包括:

15、调整所述半导体,以使所述半导体位于与基板相配合的预贴合位置;

16、通过激光焊接将所述半导体粘接在所述基板上。

17、相比于现有技术,本发明实施例的有益效果在于:本发明实施例提供了一种激光粘贴方法,通过将半导体预热至第一温度,预热时间为第一预设时间,再将半导体加热至第二温度,加热时间为第二预设时间,其中,所述第二温度高于所述第一温度,接着,调整半导体至与基板相配合的预贴合位置,并通过激光焊接将所述半导体连接在所述基板上,这样,在激光焊接之前,半导体逐步升温,以避免半导体急速热膨胀造成伤害,从而能够满足半导体粘贴精度要求,同时提高生产合格率。



技术特征:

1.一种激光粘贴方法,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的激光粘贴方法,其特征在于,所述第一温度为45-75℃,所述第二温度为100-130℃。

3.如权利要求1所述的激光粘贴方法,其特征在于,所述第一预设时间为1-2秒,所述第二预设时间为1-2秒。

4.如权利要求1所述的激光粘贴方法,其特征在于,所述将半导体预热至第一温度,具体包括:

5.如权利要求4所述的激光粘贴方法,其特征在于,将半导体预热至第一温度的激光光斑的直径小于或等于0.1毫米,热影响区域小于0.2毫米。

6.如权利要求1所述的激光粘贴方法,其特征在于,所述将半导体加热至第二温度,具体包括:

7.如权利要求4所述的激光粘贴方法,其特征在于,将半导体加热至第二温度的激光光斑的直径小于或等于0.1毫米,热影响区域小于0.2毫米。

8.如权利要求1-7任一项所述的激光粘贴方法,其特征在于,所述调整半导体至与基板相配合的预贴合位置,并通过激光焊接将所述半导体连接在所述基板上,具体包括:


技术总结
本发明涉及粘接技术领域,公开了一种激光粘贴方法,通过将半导体预热至第一温度,预热时间为第一预设时间,再将半导体加热至第二温度,加热时间为第二预设时间,其中,所述第二温度高于所述第一温度,接着,调整半导体至与基板相配合的预贴合位置,并通过激光焊接将所述半导体连接在所述基板上,这样,在激光焊接之前,半导体逐步升温,以避免半导体急速热膨胀造成伤害,从而能够满足半导体粘贴精度要求,同时提高生产合格率。

技术研发人员:余周
受保护的技术使用者:东莞新科技术研究开发有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/14
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