掩模组件及其维修方法与流程

本发明涉及一种沉积可靠性得到改善的掩模组件及其维修方法。

背景技术：

1、通常，对于发光显示装置而言，在每个像素中布置有发光元件。发光元件包括布置于两个电极之间的发光层。布置于像素的发光层可以被区分为多个组。

2、为了将多个组的发光层沉积于作业基板，利用掩模组件。掩模组件包括框架、开放式掩模以及以单元为单位的单元掩模。在掩模上布置作业基板之后，将发光物质沉积于作业基板，从而可以形成图案化的发光层。最近，为了制造大面积的显示装置，正在开发与制造大面积掩模的设备及其维修方法相关的技术。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种用于容易地将不良的单元掩模从掩模组件分离的掩模组件及其维修方法。

2、本发明的目的在于提供一种用于在将不良的单元掩模从开放式掩模分离的过程中使开放式掩模的损伤最小化的掩模组件及其维修方法。

3、根据本发明的掩模组件的维修方法包括如下步骤：提供掩模组件，所述掩模组件包括框架、开放式掩模及第一单元掩模，所述开放式掩模定义有第一开放式开口部并布置于所述框架的上表面，所述第一单元掩模定义有与所述第一开放式开口部重叠的多个第一沉积开口部并布置于所述开放式掩模的上表面；在所述第一单元掩模的外侧第一次切割所述开放式掩模，以定义具有大于所述第一开放式开口部的面积的第二开放式开口部；以及将定义有与所述第一沉积开口部对应的多个第二沉积开口部的第二单元掩模结合于所述第一次切割后的所述开放式掩模。

4、特征可在于，在所述第一次切割所述开放式掩模的步骤中，所述第一单元掩模从所述掩模组件分离。

5、特征可在于，在所述第一次切割所述开放式掩模的步骤中，沿从所述开放式掩模的所述上表面朝向与所述上表面对向的下表面的方向或从所述下表面朝向所述上表面的方向切割所述开放式掩模。

6、特征可在于，所述第一次切割所述开放式掩模的步骤通过激光切割进行。

7、特征可在于，在将所述第二单元掩模结合于所述第一次切割后的所述开放式掩模的步骤之后还包括如下步骤：在所述第二单元掩模的外侧第二次切割所述第一次切割后的所述开放式掩模，以定义具有大于所述第二开放式开口部的面积的第三开放式开口部。

8、特征可在于，在提供所述掩模组件的步骤中，所述开放式掩模包括第一部分及第二部分，所述第一部分包括所述第一开放式开口部并布置有所述第一单元掩模，所述第二部分包围所述第一部分并比所述第一部分厚，在所述第一次切割所述开放式掩模的步骤中，切割所述第一部分，使得所述第一部分的一部分从所述掩模组件分离。

9、特征可在于，在提供所述掩模组件的步骤中，所述第一部分的在截面上的长度为300微米以上且2毫米以下。

10、特征可在于，所述第一部分的厚度为100微米以下。

11、特征可在于，在所述第一次切割所述开放式掩模的步骤中，所述第一单元掩模的定义所述第一沉积开口部的内侧面、所述第一单元掩模的与所述开放式掩模接触的下表面以及第一单元掩模的与所述下表面对向的上表面中的至少一个受到损伤，或者在所述第一沉积开口部中的一部分聚积沉积物质。

12、特征可在于，在提供所述掩模组件的步骤之前，还包括制造所述掩模组件的步骤，其中，制造所述掩模组件的步骤包括如下步骤：在所述开放式掩模上布置第一预备单元掩模，所述第一预备单元掩模包括包含所述第一沉积开口部的第一沉积区域以及包围所述第一沉积区域的第一周边区域；以在所述开放式掩模的与所述第一开放式开口部邻近的下表面上形成第一熔接凸起的方式结合所述开放式掩模与所述第一预备单元掩模；以及沿定义于所述第一周边区域的第一修边线切割所述第一预备单元掩模而形成所述第一单元掩模，其中，所述第一修边线是在平面上包围所述第一沉积区域的闭合线。

13、特征可在于，在提供所述掩模组件的步骤中，所述开放式掩模包括第一部分及第二部分，所述第一部分包括所述第一开放式开口部并布置有所述第一单元掩模，所述第二部分包围所述第一部分并比所述第一部分厚，在所述第一次切割所述开放式掩模的步骤中，切割所述第一部分，使得所述第一部分的一部分从所述掩模组件分离，在形成所述第一单元掩模的步骤中，所述第一修边线定义于与所述第一熔接凸起重叠的部分和所述第一部分与所述第二部分的边界之间。

14、特征可在于，在布置所述第一预备单元掩模的步骤中，以当从所述开放式掩模的所述下表面上观察时使所述第一周边区域被所述开放式掩模覆盖的方式布置所述第一预备单元掩模。

15、特征可在于，在结合所述开放式掩模和所述第一预备单元掩模的步骤中，所述第一预备单元掩模在平面上为沿第一方向以及与所述第一方向交叉的第二方向延伸的四边形形状，并且在沿所述第一方向及所述第二方向中的至少一个方向被拉伸之后结合于所述开放式掩模。

16、特征可在于，将所述第二单元掩模结合于所述第一次切割后的所述开放式掩模的步骤包括如下步骤：在所述第一次切割后的所述开放式掩模上布置第二预备单元掩模，所述第二预备单元掩模包括包含所述第二沉积开口部的第二沉积区域以及包围所述第二沉积区域的第二周边区域；以在所述第一次切割后的所述开放式掩模的与所述第二开放式开口部邻近的下表面上形成第二熔接凸起的方式结合所述第一次切割后的所述开放式掩模和所述第二预备单元掩模；以及沿定义于所述第二周边区域的第二修边线切割所述第二预备单元掩模而形成所述第二单元掩模，其中，所述第二修边线是在平面上包围所述第二沉积区域的闭合线。

17、特征可在于，在提供所述掩模组件的步骤中，所述开放式掩模包括第一部分及第二部分，所述第一部分包括所述第一开放式开口部并布置有所述第一单元掩模，所述第二部分包围所述第一部分并比所述第一部分厚，在所述第一次切割所述开放式掩模的步骤中，切割所述第一部分，使得所述第一部分的一部分从所述掩模组件分离，在形成所述第二单元掩模的步骤中，所述第二修边线定义于与所述第二熔接凸起重叠的部分和所述第一部分与所述第二部分的边界之间。

18、特征可在于，所述第一预备单元掩模和所述第二预备单元掩模在截面上具有彼此相同的长度。

19、根据本发明的掩模组件包括：框架；开放式掩模，包括定义有开放式开口部的第一部分以及包围所述第一部分的第二部分；单元掩模，包括沉积区域及周边区域，并且布置于所述开放式掩模的上表面，所述沉积区域定义有与所述开放式开口部对应的沉积开口部，所述周边区域包围所述沉积区域并与所述第一部分重叠；以及熔接凸起，布置于所述开放式掩模的下表面中的与所述开放式开口部邻近的部分，并且与所述周边区域重叠，其中，所述第一部分的厚度小于所述第二部分的厚度。

20、特征可在于，所述熔接凸起包围所述开放式开口部而布置。

21、特征可在于，所述第一部分的厚度为100微米以下。

22、特征可在于，所述开放式掩模及所述单元掩模分别配备为多个，所述开放式开口部配备为多个，所述开放式掩模沿一方向排列，各个所述开放式掩模的开放式开口部沿与所述一方向垂直的方向排列，所述单元掩模分别对应于所述开放式开口部而布置。

23、根据本发明，可以提供一种沉积良品率得到提高且沉积可靠性得到改善的掩模组件，并且可多次替换单元掩模，从而能够提高显示面板的生产良品率。