一种稳固的铣床支撑底座的制作方法

文档序号:33528026发布日期:2023-03-22 07:31阅读:98来源:国知局
一种稳固的铣床支撑底座的制作方法

1.本实用新型涉及机床技术领域,特别是涉及一种稳固的铣床支撑底座。


背景技术:

2.铣床主要指用铣刀对工件多种表面进行加工的机床,通常铣刀以旋转运动为主运动,工件和铣刀的移动为进给运动。它可以加工平面、沟槽,也可以加工各种曲面、齿轮等,铣床除能铣削平面、沟槽、轮齿、螺纹和花键轴外,还能加工比较复杂的型面,效率较刨床高,在机械制造和修理部门得到广泛应用。
3.铣床是一种常见的加工机床,铣床在铣削加工一些大面积金属工件时,为降低铣刀的铣削温度,一般都会在铣削时喷洒切削液,虽然可以有效降低铣削温度,但同时也带来了一定的问题,喷溅出来的切削液会增加铣床工位的局部环境湿度,进而加速机床的生锈以及腐蚀,尤其是机床支撑部位以及底部,由于目前市场上的大多数机床都没有在机床底部做防腐蚀处理,因此铣床底部长时间接触潮湿积水的安装地面,会进一步加速机床底部的腐蚀,进而会影响铣床的使用寿命以及后续的生产加工精度。
4.因此亟需提供一种稳固的铣床支撑底座来解决上述问题。


技术实现要素:

5.本实用新型所要解决的技术问题是目前市场上的大多数机床都没有在机床底部做防腐蚀处理,因此铣床底部长时间接触潮湿积水的安装地面,会进一步加速机床底部的腐蚀,进而会影响铣床的使用寿命以及后续的生产加工精度。
6.为解决上述技术问题,本实用新型采用的一个技术方案是:提供一种稳固的铣床支撑底座,包括底座主体,所述底座主体底部边角处均固定连接有支撑脚垫,所述底座主体底部内表面的边角处均固定连接有定位座,所述底座主体底部内表面的中心设置有除湿结构;
7.所述底座主体前端中心开设有开口槽,所述开口槽内安装有密封盖板;
8.所述底座主体顶部周侧开设有阶梯密封槽,所述阶梯密封槽上安装有密封结构。
9.本实用新型进一步设置为:多组所述支撑脚垫和定位座均位于对应的同一垂直中心轴线上。
10.通过上述技术方案,使得多组支撑脚垫和定位座能够受力在同一条垂直直线上,既能保证支撑的稳定性,同时也使多组支撑脚垫和定位座受力更加均匀。
11.本实用新型进一步设置为:所述除湿结构包括第一限位导轨和第二限位导轨,所述第一限位导轨和第二限位导轨之间滑动安装有干燥剂盒。
12.通过上述技术方案,通过在第一限位导轨和第二限位导轨之间安装干燥剂盒,可以进一步提升铣床底部的干燥性,防止被潮湿的水汽长期腐蚀。
13.本实用新型进一步设置为:所述第一限位导轨和第二限位导轨分别固定于底座主体底部内表面中心的两侧。
14.通过上述技术方案,固定于底座主体底部内表面中心的两侧的第一限位导轨和第二限位导轨可以对干燥剂盒起到安装限位作用。
15.本实用新型进一步设置为:所述密封盖板通过多个固定螺钉固定在开口槽内。
16.通过上述技术方案,使得密封盖板既能快速固定在开口槽内,同时也便于快速拆卸,以便定期更换干燥剂盒。
17.本实用新型进一步设置为:所述密封结构包括密封圈主体,所述密封圈主体内侧分别设置有第一密封内环和第二密封内环。
18.通过上述技术方案,密封圈主体配合第一密封内环和第二密封内环可以对铣床床身与底座主体内壁之间实现更好的密封,防止水珠或水汽经铣床床身与底座主体内壁之间的安装间隙进入铣床底部,从而有效起到了更好的防腐蚀效果。
19.本实用新型进一步设置为:所述密封圈主体与第一密封内环和第二密封内环为一体式结构,且密封圈主体、第一密封内环和第二密封内环均是由橡胶材质制成。
20.通过上述技术方案,由橡胶材质制成的一体式结构的密封圈主体、第一密封内环和第二密封内环,不仅整体结构更为牢固稳定,同时也便于快速安装拆卸,同时也具有更好的密封性。
21.本实用新型进一步设置为:所述密封圈主体顶部周侧均呈斜面倒角设计。
22.通过上述技术方案,通过将密封圈主体顶部周侧设计呈斜面倒角结构,当铣床床身周侧沾染水珠,并沿这床身向下流动时,水珠可以沿着密封圈主体顶部周侧的斜坡面自动下流,从而将水珠导向底座主体的外侧,防止水珠进而机床床身与密封圈主体之间的间隙。
23.本实用新型进一步设置为:所述底座主体底部外表面的中心固定连接有加强架,且所述加强架呈网格状设计。
24.通过上述技术方案,通过在底座主体底部外表面的中心固定连接呈网格状设计的加强架,可以进一步增强底座主体的自身强度,使其整体结构更为牢固稳定,同时也能进一步增强对铣床支撑的稳定性。
25.本实用新型的有益效果如下:
26.1.本实用新型通过设计稳定的支撑底座、除湿结构和密封结构,既能起到稳定的支撑作用,同时也能防止潮湿的水汽接触铣床的底部,从而有效防止了铣床底部被潮湿的水汽长期腐蚀,进而保证了铣床的使用寿命以及后续的生产加工精度;
27.2.本实用新型通过在底座主体底部外表面的中心固定连接呈网格状设计的加强架,可以进一步增强底座主体的自身强度,使其整体结构更为牢固稳定,同时也能进一步增强对铣床支撑的稳定性。
附图说明
28.图1为本实用新型实施例一的立体结构图;
29.图2为本实用新型实施例二的第一视角结构图;
30.图3为本实用新型实施例二的主体结构示意图;
31.图4为本实用新型实施例二的第二视角结构图
32.图5为本实用新型实施例二的俯视结构图;
33.图6为图5中a-a向剖视图;
34.图7为图6中a处的局部放大图。
35.图中:1、底座主体;2、支撑脚垫;3、定位座;4、除湿结构;401、第一限位导轨;402、第二限位导轨;403、干燥剂盒;5、开口槽;6、密封盖板;7、阶梯密封槽;8、密封结构;801、密封圈主体;802、第一密封内环;803、第二密封内环;9、加强架。
具体实施方式
36.下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述,以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。
37.实施例一:
38.请参阅图1-图7,一种稳固的铣床支撑底座,包括底座主体1,底座主体1底部边角处均固定连接有支撑脚垫2,底座主体1底部内表面的边角处均固定连接有定位座3,多组支撑脚垫2和定位座3均位于对应的同一垂直中心轴线上,使得多组支撑脚垫2和定位座3能够受力在同一条垂直直线上,既能保证支撑的稳定性,同时也使多组支撑脚垫2和定位座3受力更加均匀;
39.底座主体1底部内表面的中心设置有除湿结构4,除湿结构4包括第一限位导轨401和第二限位导轨402,第一限位导轨401和第二限位导轨402之间滑动安装有干燥剂盒403,通过在第一限位导轨401和第二限位导轨402之间安装干燥剂盒403,可以进一步提升铣床底部的干燥性,防止被潮湿的水汽长期腐蚀;第一限位导轨401和第二限位导轨402分别固定于底座主体1底部内表面中心的两侧,固定于底座主体1底部内表面中心的两侧的第一限位导轨401和第二限位导轨402可以对干燥剂盒403起到安装限位作用;
40.底座主体1前端中心开设有开口槽5,开口槽5内安装有密封盖板6,密封盖板6通过多个固定螺钉固定在开口槽5内,使得密封盖板6既能快速固定在开口槽5内,同时也便于快速拆卸,以便定期更换干燥剂盒403;
41.底座主体1顶部周侧开设有阶梯密封槽7,阶梯密封槽7上安装有密封结构8,密封结构8包括密封圈主体801,密封圈主体801内侧分别设置有第一密封内环802和第二密封内环803,密封圈主体801配合第一密封内环802和第二密封内环803可以对铣床床身与底座主体1内壁之间实现更好的密封,防止水珠或水汽经铣床床身与底座主体1内壁之间的安装间隙进入铣床底部,从而有效起到了更好的防腐蚀效果;密封圈主体801与第一密封内环802和第二密封内环803为一体式结构,且密封圈主体801、第一密封内环802和第二密封内环803均是由橡胶材质制成,由橡胶材质制成的一体式结构的密封圈主体801、第一密封内环802和第二密封内环803,不仅整体结构更为牢固稳定,同时也便于快速安装拆卸,同时也具有更好的密封性;密封圈主体801顶部周侧均呈斜面倒角设计,通过将密封圈主体801顶部周侧设计呈斜面倒角结构,当铣床床身周侧沾染水珠,并沿这床身向下流动时,水珠可以沿着密封圈主体801顶部周侧的斜坡面自动下流,从而将水珠导向底座主体1的外侧,防止水珠进而机床床身与密封圈主体801之间的间隙。
42.实施例二:
43.如图4所示,底座主体1底部外表面的中心固定连接有加强架9,且加强架9呈网格
状设计,通过在底座主体1底部外表面的中心固定连接呈网格状设计的加强架9,可以进一步增强底座主体1的自身强度,使其整体结构更为牢固稳定,同时也能进一步增强对铣床支撑的稳定性。
44.本实用新型在使用时,先将该支撑底座水平放置在水平地面上,然后将铣床抬放置底座主体1内,并使铣床底部的四个边角分别定位在对应的定位座3中,多组支撑脚垫2和定位座3均位于对应的同一垂直中心轴线上,使得多组支撑脚垫2和定位座3能够受力在同一条垂直直线上,既能保证支撑的稳定性,同时也使多组支撑脚垫2和定位座3受力更加均匀,阶梯密封槽7上安装有密封结构8,密封圈主体801配合第一密封内环802和第二密封内环803可以对铣床床身与底座主体1内壁之间实现更好的密封,防止水珠或水汽经铣床床身与底座主体1内壁之间的安装间隙进入铣床底部,从而有效起到了更好的防腐蚀效果,底座主体1底部内表面的中心设置有除湿结构4,通过设置干燥剂盒403,可以进一步提升铣床底部的干燥性,防止被潮湿的水汽长期腐蚀,通过在底座主体1底部外表面的中心固定连接呈网格状设计的加强架9,可以进一步增强底座主体1的自身强度,同时也能进一步增强对铣床支撑的稳定性。
45.以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
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