一种激光镭雕方法及电子产品与流程

本发明涉及激光，特别涉及一种激光镭雕方法及电子产品。

背景技术：

1、越来越多电子产品从方方面面进入人们的生活，为人们提供极大的便利。出于美观性和实用性的考虑，电子产品的表面出现各种不同的工艺处理，例如高光、磨砂、哑光等表面处理。

2、现有的产品中，当高光面和哑光面同时出现时，需要多次喷涂才能实现高光面和哑光面的过渡，在高光面和哑光面的接触的位置，存在过渡区域不规则、漆雾、表面不平整以及黏连的情况，影响了电子产品的外观质量和使用体验。

技术实现思路

1、本发明的主要目的是提出激光镭雕方法和电子产品，旨在克服现有技术中在高光面和哑光面的接触的位置，过渡区域不规则、漆雾、表面不平整以及黏连的情况的问题。

2、为实现上述目的，本发明提出一种激光镭雕方法，包括以下步骤：

3、在待镭雕的产品表面形成uv涂料层；

4、通过激光镭雕机在形成uv涂料层的产品表面上进行激光镭雕；

5、其中，所述激光镭雕机的激光波长为8500~10500nm。

6、可选地，所述通过激光镭雕机在形成uv涂料层的产品表面上进行激光镭雕的步骤中，所述激光镭雕机的激光波长为9500~10000nm。

7、可选地，所述在待镭雕的产品表面形成uv涂料层的步骤中，所述uv涂料层的厚度为10~35μm。

8、可选地，所述在待镭雕的产品表面形成uv涂料层的步骤中，所述uv涂料层的uv涂料的原料包括聚氨酯丙烯酸酯、乙酸乙酯、甲基异丁基酮、1-羟基-环己基苯酮及改良剂。

9、可选地，所述改良剂包括机硅助剂、二氧化硅及甲苯中的至少一种。

10、可选地，所述改良剂在所述uv涂料中的质量占比为3~18%。

11、可选地，所述通过激光镭雕机在形成uv涂料层的产品表面上进行激光镭雕的步骤中，所述激光镭雕机的功率为70~160w。

12、可选地，所述通过激光镭雕机在形成uv涂料层的产品表面上进行激光镭雕的步骤中，所述激光镭雕机的电流为20~38a。

13、可选地，所述通过激光镭雕机在形成uv涂料层的产品表面上进行激光镭雕的步骤中，所述激光镭雕机的激光点灼烧产品表面的矩阵间距为0.04~0.18mm。

14、本发明还提出了一种电子产品，所述电子产品的外壳采用所述的激光镭雕方法进行激光镭雕。其中所述激光镭雕方法，包括以下步骤：在待镭雕的产品表面形成uv涂料层；通过激光镭雕机在形成uv涂料层的产品表面上进行激光镭雕；其中，所述激光镭雕机的激光波长为8500~10500nm。

15、通过在产品表面形成uv涂料层，设置激光镭雕的激光波长为8500~10500nm，使用的涂料层具有耐激光的灼烧雕刻以及隔热、散热快的特点，在激光镭雕时，仅灼烧掉涂料层，减少激光灼伤产品零件的表面造成表面的不平整。同时，激光波长为8500~10500nm满足特殊窄范围的波长，既能够满足激光镭雕产品的油漆光面，又不会灼伤产品底层的基材，使得过渡区域更为规则，减少漆雾的产生，提高表面平整度，减少黏连的情况，提高了产品的外观美观度。

技术特征：

1.一种激光镭雕方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.如权利要求1所述的激光镭雕方法，其特征在于，所述通过激光镭雕机在形成uv涂料层的产品表面上进行激光镭雕的步骤中，所述激光镭雕机的激光波长为9500~10000nm。

3.如权利要求1所述的激光镭雕方法，其特征在于，所述在待镭雕的产品表面形成uv涂料层的步骤中，所述uv涂料层的厚度为10~35μm。

4.如权利要求1所述的激光镭雕方法，其特征在于，所述在待镭雕的产品表面形成uv涂料层的步骤中，所述uv涂料层的uv涂料的原料包括聚氨酯丙烯酸酯、乙酸乙酯、甲基异丁基酮、1-羟基-环己基苯酮及改良剂。

5.如权利要求4所述的激光镭雕方法，其特征在于，所述改良剂包括有机硅助剂、二氧化硅及甲苯中的至少一种。

6.如权利要求4所述的激光镭雕方法，其特征在于，所述改良剂在所述uv涂料中的质量占比为3~18%。

7.如权利要求1所述的激光镭雕方法，其特征在于，所述通过激光镭雕机在形成uv涂料层的产品表面上进行激光镭雕的步骤中，所述激光镭雕机的功率为70~160w。

8.如权利要求1所述的激光镭雕方法，其特征在于，所述通过激光镭雕机在形成uv涂料层的产品表面上进行激光镭雕的步骤中，所述激光镭雕机的电流为20~38a。

9.如权利要求1所述的激光镭雕方法，其特征在于，所述通过激光镭雕机在形成uv涂料层的产品表面上进行激光镭雕的步骤中，所述激光镭雕机的激光点灼烧产品表面的矩阵间距为0.04~0.18mm。

10.一种电子产品，其特征在于，所述电子产品的外壳采用如权利要求1至9任意一项所述的激光镭雕方法进行激光镭雕。

技术总结
本发明公开了一种激光镭雕方法及电子产品，所述激光镭雕方法包括以下步骤：在待镭雕的产品表面形成UV涂料层；通过激光镭雕机在形成UV涂料层的产品表面上进行激光镭雕；其中，所述激光镭雕机的激光波长为8500~10500nm。通过在产品表面形成UV涂料层，设置激光镭雕的激光波长为8500~10500nm，使用的涂料层具有耐激光的灼烧雕刻以及隔热、散热快的特点，在激光镭雕时，仅灼烧掉涂料层，减少激光灼伤产品零件的表面造成表面的不平整。同时，激光波长为8500~10500nm满足特殊窄范围的波长，既能够满足激光镭雕产品的油漆光面，又不会灼伤产品底层的基材，使得过渡区域更为规则，减少漆雾的产生，提高表面平整度，减少黏连的情况，提高了产品的外观美观度。

技术研发人员：毕经永,郭学胜,范文平,何朝明,柳贵友,杨杨,闫连子,焦绪聪,张建华,马菁华
受保护的技术使用者：歌尔股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15