专利名称：用于真空处理装置的真空室的制作方法
技术领域：
本发明涉及"^t用于真空处S^置的真空室，该真空室用于真空处^
置，如、;^t^^^置。
背景狄
近年来，凭借真空处錄置，如在由玻璃等构成的基片上形成导线等用 金属膜的'减射系统中沉积技术等的进步，甚至已经能够在大的基片上也实现高
精度的沉积。另外，近年来，如图8和9所示的、仅皿#真空中的移动就 连续进行多个处理的多室真空处3S^置已经成为主流。
图8所示的多室真空处S^置30包^个环#其中安装了基片自动传 i^^置31的中央传送室32周围的真空处理室33a、 33b、 33c、 33d、 33e和33f。 另外，图9所示的多室真空处S^置40包括三个环絲其中安装了基片自动传 iH^置41的中央传送室42周围的真空处理室43a、 43b和43c。
为此，用于真空处錄置的真空室tt基片尺寸的扩大而增大(例如， 所谓第六^4片的")^p宽为1800 mmxl500 mm，第七^4片的长和宽为2100 mmxl850mm )。从而，由于用于真空室的机床也比常规的大，所以真空室的制
迄今为止，由于这个原因，提出了一种制备方法，该方法可以通过4e^匡
架状室主##分为多个组件，并,多个^f的组件^^得大的真空室，而不 增大机床，降低制it^本，例如，见专利文献l:日本专利公开号H8-64542 (图l)。
顺便说一下，Jiii专利文献1中的这种制备方法在制^不肯1#移动各 个组件，因为真空室的侧^jtit^W^分为多件的组件而获得的。因此，制 造后不能 真空室侧壁的大小和形状。
另外，^Jiii专利文献l中，由于安^0"空室侧壁Ji4面和下表面上 的顶板和底板分别是一个整体，而不是分开的，因此它们的尺寸巨大，重量也 大。
由于这个原因，需要庞大的起重设施来提升该顶板和底板，因此制造成本也变高。而且，由于顶板和底板的尺寸仍然巨大，所以当以成品或组装前产 品的状态将真空室运送到安装位时，需要专用的大尺寸拖车等。
发明内容
于是，本发明的目的为提供一种用于真空 处理装置的真空室，其大小和 形状在制造后可以容易地改变。
安装后的尺寸 很大。
为了达到上述目的，本发明的特征在于在一种由真空处S^J/fM的 真空室中，该真空室可以被自由拆分为才緣状的多边形室主体；具有开口、且 牢固而又可拆卸iiki^接到具有开口的室主体的至少一侧的多边形侧面机架；连 接到室主#具有开口的侧面4几架的^^顶面上的^^顶板；连接到室主体和具有
开口的侧面机架的各底面上的各;yi。
另外，本发明的特棘于在室主体中安装一个基片自动传錄置，其 将基片^A设于其夕Mp的多个真空处理室中和将基片从其中取出。
图1为说明本发明第一个实施方案的真空室的逸现图； 图2为说明本发明第一个实施方案的真空室的示意逸现图； 图3为说明本发明第^实施方案的真空室的制iiit程的图； 图4为说明本发明第三个实施方案的真空室的制造过程的图； 图5为说明本发明第四个实^r案的真空室的形状的图； 图6为说明本发明第五个实施方案的真空室的形状的图； 图7为说明本发明第六个实施方案的真空室的形状的图； 图8为说明常规实施例中多室真空处^^置的示意平面图；和 图9为说明常规实施例中多室真空处S^置的示意平面图。 附图才科i说明
1， 13， 15, 17, 20， 22 真空室
2， 2a， 2b， 2c 室主体
3a， 3b， 12a， 12b， 14a， 14b, 14c， 14d， 16， 18， 19， 21a, 21b， 21c, 21d 侧面机架
5， 8 顶板
6 基片自动传ill^置
7， 9 綠 M实施方式
以下，将基于所示实施方案说明本发明。 (实施方案1)
图1为说明本发明第一个实施方案的真空室的逸现图，图2为其冷解透 视图。例如，可以使用本实施方案中的用于真空处S^置的真空室(以下称为 真空室)作为传送室，该传送室具有^4拥有六个处理室的多室单基片型濺射 J5t^P泉置(以下称为J5L^P濃置)的中心*的基片自动传ili^置。
如图1所示，通錄其两侧甜的滅面形成矩形空间的中央室主体2 与每个冲M面形t角形空间的侧面机架3a和3b连接，本发明第一个实施方 案的真空室l形成六边形。在室主体2和侧面机架3a和3b的每个侧面(共六 个面)上形賴于^tA^取出基片("示)的开口 4。室主体2和侧面机架 3a和3b由诸如铝和不辦岡这样的金属制成。
^f匡架状矩形室主体2的顶面和底面上分别形成连接有顶板5和底板7 的开口，其中，在絲7上安絲基片自动传ia^置6。另外，錄室主体2 ^iiiLi^有侧面机架3a和3b的两个侧面上形成开口。而且，在室主体2Mii 的两^H!摘上形^1于;^A^取出基片(^示)的开口4。
另外，^f医架^角形侧面机架3a和3b的顶面和底面上分别形^i^接 有顶板8和底板9的开口。而且，在侧面机架3a和3b的M的两个侧面上形 ^it接到室主体2的侧面上的开口。进一步，在侧面机架3a和3b^iii的两个 侧面上形賴于ifcA^出基片(纽示)的开口4。
下面，说明上述本实施方案的真空室1的制ii^r法。
用螺松(未显示)通过O形环(未显示)将底板7连到室主体2的M 上，并用螺松(未显示)通过O形环(未显示)将;yi 9分别连到侧面机架3a 和3b的M上。然后，用螺栓lla和llb通过O形环10a和10b将这些侧面 机架3a和3b分别连到室主体2的两个侧面的*开口上。
然后，M片自动^id^置6安^i^惶主体2的條7上，jtL^用 螺栓llc通过O形环10c把顶板5连到室主体2的顶部。然后，用螺栓lld和 lie通过O形环10d和10e将顶板8分别连到侧面机架3a和3b的每个顶部而 制造图1所示的六边形真空室1。
把如上制造的真空室1安^t六个处理室的^^濃置的中央，作为装 备有基片自动传ili^置6的传送室。通过闸阀(^示)将未显示的六个处理 室(，卸载室、预热室、膜形成室、基片#室等)安^M"空室1侧面的 "^*口4的周围。
这样，在本实施方案中，通过螺^i^接^^分别分为三组的组件(其中 絲基片自动传iH^置的室主体2，及其两边的侧面才/U^3a和3b)而制得真空 室。因此，例如，即使当安装制得的真空室l后基片上的^^it程等;^i变化， 仍然能够#1^处理室的增大/减小，通过打开螺松lla和llb，从室主体2上移 去三角形侧面^ 3a和3b,而容易iiye^角形侧面机架3a和3b调^;其它 形状的侧面机架来^该真空室(传送室)的形状。因此，能够灵活地响应使 用者的特定需求。
另外，由于能斷^I其中絲基片自动传錄置6的室主体2作为还可 用作其它真空室的室主体的通用组件，所以能够预先实现大批量生产，因此能
够实 ^1氐。
另外，林实施方案中，通iiis^分别分为^且的组件(其中絲基片 自动传iH^置的室主体2，及其两侧的侧面机架3a和3b)而制得真空室l。于 是，即使当制造^^;UC寸基片的;U^寸真空室时，仍然能^#^!"的室主 体2和侧面才條3a和3b的尺寸很小。因此，由于能够通过常M4M^而不用大 尺寸的定做的 ^易地制造^^寸的真空室，所以能够实现A^低。
而且，即使当制造^^W寸基片的;UC寸真空室时，仍然能够压缩连 到新的室主体2的顶板5的尺寸。于是，食巨够减轻顶板5的重量，^ii一步 能够容易地由金属#工顶板5。
另外，林实施方案中，通过拆分为^a^a件(其中絲基片自动传送
装置的室主体2，及其两侧的侧面机架3a和3b)而制得真空室l。于是，即使
当制造^^^A寸基片的^C寸真空室时，仍然能Wt^Ha件(室主体2
和侧面机架3a和3b)的尺寸很小。因此，能够容易舰过"^t解等^^个
这些M的组^:输到安装位置，并能够在安装位置容易iikiJ^它们。
(实施方案2)
在第一个实施方案中，真空室具有这样的结构通过螺^r^^fe三角形 的侧面机架3a和3b连接到作为中心(核心)的矩形室主体2的两侧而细L^ 六边形的真空室。但是，林实施方案中，如图3所示，真空室具有这样的结 构通过螺^t^C^形的侧面机架12a和12b连接到作为中心(核心)的矩 形室主体2的两侧而^^正方形的真空室13。由于这个真空室除了^^I矩形 的侧面机架12a和12b以外与第一个实施方案的相同，所以将省略重复的描t
本实施方案中的正方形真空室13在^M^面Ji^开口 ，围着这些开口 可以安装悉共四个处理室(未昆示)。 (实施方案3)
在第二个实施方案中，正方形的真空室具有这样的结构通过螺^^接 :^E形的侧面机架12a和12b连接到作为中心(核心)的矩形室主体2的两侧 而纽^Ai方形的真空室。#实施方案中，如图4所示，真空室具有这样的 结构通过螺^bi^vfc三角形的侧面机架14a、 14b、 14c和14d连接到第二个 实施方案中获得的正方形真空室13的各个面而细L^/Vii形的真空室15。
本实施方案中的Aii^真空室15在^H!'J面Ji^开口 ，围着这些开口
可以安装悉共八个处理室(^示)。 (实施方案4)
上述每个实施方案中，真空室嘲俱有矩形室主体2作为中心(核心)的 结构。但是，在如图5所示的本实施方案中，五边形的真空室17具有这样的结 构通过螺^r^^e^角形的侧面机架16连接到作为中心(核心)的梯形室主 体2a的"H^ii上而组^iL边形真空室。
本实施方案中的五边形的真空室17在^H^面Ji^"开口 ，围着这些开 口可以安装悉共五个处理室(未显示)。 (实施方案5)
本实施方案中，如图6所示，七边形的真空室20具有这样的结构通过 螺^ri^^e^形的侧面机架18 (形状小于室主体2b的形状)连接到作为中心 (核心)的室主体2b的一个M上，^it过螺^i^"^te三角形的侧面机架19
连接到其另一^iiiJi而^^七边形真空室20。
本实施方案中的七边形真空室20在M侧面Ji^有开口，围着这些开口 可以安装悉^b个处理室(^示)。 (实施方案6)
本实施方案中，如图7所示，八边形的真空室22具有这样的结构通过 螺^i^^&三角形的侧面机架21a、 21b、 21c和21d连接到作为中心(核心) 的正方形室主体2c的各侧面而纽^Aii形真空室22。
本实施方案中的八边形真空室22在^侧面Ji^有开口，围着这些开口 可以安装悉共八个处理室(^示)。
对于图3-7所示的第二到第六个实施方案，即^^安装真空室以后，也 可以才M^ft^者的需求，换正方形或三角形的侧面机架，该侧面机^it过螺 ^ri^接与作为中心(核心)的四边形(矩形、正方形、梯形等)室主体2、 2a、 2b和2c连接，其中室主体中絲基片自动传i^^置。因此，能够容易 2^空 室改变为任意多边形的形状。
j^卜，特别是对于图4所示的第三个实施方案，可以通过螺^S^fc许 多侧面机架12a、 12b、 14a、 14b、 14c和14d连接到其中絲基片自动传錄 置的四边形(矩形)室主体2的侧面上而获得更大的真空室。因此，也能够容 易地响应更大的基片。
如上所述，本发明的真空室可以被自由拆分为框架状的多边形室主体； 具有开口、且牢固而又可拆卸iik^接到具有开口的室主体的至少一侧的多边形 侧面机架；连接到室主体和具有开口的侧面机架的各顶面上的各顶板；连接到 室主体和具有开口的侧面机架的各底面上的各皿。于是，^空室^^并安 装后，由于能够才Wf吏用者的需求等，通it^易^側面机架调换为其它多边 形侧面机架而妙真空室的形状，所以能够灵活地响应^U者的特定要求胁。
另外，才娥本发明，能够通i^l^衬的室主体、侧面机架、顶^ 底 板而获得真空室。因此，即4吏当制造^^;UC寸基片的;^寸真空室时，仍然 能够##每个组件既小又轻，因为室主体、侧面机架、顶;fel^ysbi各自^f 的。于是，由于可以通过常M^床而不^^J;U^寸的定^^^容易地制造大 尺寸的真空室，所以能够实现^W低。
而且，即使当制造^^;U^寸基片的;U^寸真空室时，仍然能Wt每个组件既小又轻，由于室主体、侧面机架、顶W^;ysbi各自^f的。于是， 能够通过"fit^4等容易^e^个这些分开的组^^r到安装位置，并且能够 在安装位置容易^Ma^它们。
权利要求
1.一种用于真空处理装置的真空室，其中真空室可以被自由地拆分为框架状的多边形室主体；具有开口、且牢固而又可拆卸地连接到具有开口的室主体的至少一侧的多边形侧面机架；连接到室主体和具有开口的侧面机架的各顶面上的各顶板；连接到室主体和具有开口的侧面机架的各底面上的各底板。
2. 根据权利要求1的真空室，其中在室主体中安装一个基片自动传送 装置，该自动传送装置将基片放入设于其外部的多个真空处理室中并将基片从 其中取出。
全文摘要
一种用于真空处理装置的真空室(1)，其具有能够被自由拆分为以下组件的结构矩形室主体(2)，通过螺栓连接可拆卸而又牢固地连接到室主体(2)的两个侧表面上的三角形侧面机架(3a、3b)，连接到室主体(2)和具有开口的侧面机架(3a、3b)的各顶面上的顶板(5、8)，和连接到室主体(2)和具有开口的侧面机架(3a、3b)的各底面上的底板(7、9)。于是，能够根据使用者的需要等，容易地改变真空室的形状和大小，即使在真空室安装之后仍能够改变真空室的形状和大小。
文档编号C23C16/44GK101359579SQ200710139929
公开日2009年2月4日 申请日期2004年5月8日 优先权日2003年5月8日
发明者咲本泰, 浜田安雄 申请人:株式会社爱发科