专利名称：气体集成单元的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种具有气体单元和清扫气体单元的气体集成单元。
技术背景以往，在半导体制造装置中，向处理室的晶片上每次供给一定量 的作用气体，在晶片上进行成膜。晶片被供给多种作用气体，层叠成 膜。由于作用气体的流量影响成膜质量，因而半导体制造装置将用于 控制作用气体供给的搭载多个工艺气体单元而成的气体集成单元配置 在处理室的上游侧。为了使成膜质量良好，需要对供给晶片的作用气体的成分进行严格的管理。因此，气体集成单元，将清扫气体单元连接在各工艺气体单元上而使清扫气体汇合，并除去残留在工艺气体单元的流路内的作用气体。由此，气体集成单元可以将作用气体调整成规定成分并供给 曰ti*专利文献1日本专利公开平11-50257号公报但是，现有的气体集成单元中，清扫气体单元为了控制清扫气体 的供给而具有多个流体控制部件，由于该清扫气体单元并排设置在气 体单元的旁边，因而底座空间变大。发明内容本发明是为了解决上述问题点而做出的，目的在于提供一种可以 减小底座空间的气体集成单元。
本发明的气体集成单元，具有如下的构成。(1) 气体集成单元，设有第一气体单元，控制第一气体的供给； 第二气体单元，与上述第一气体单元连接，通过多个流体控制部件控 制汇合到上述第一气体单元的第二气体；和层叠块，叠置在上述第一 气体单元上，并且，将上述流体控制部件的一部分叠置在上述层叠块上。并且，流体控制部件的一部分，例如指质量流量控制器、质量流 量计、止回阀、节流孔、气动阀等控制气体的部件。流体控制部件的 一部分可以是一个流体控制部件，也可以是多个流体控制部件。(2) 在(1)所述的发明中，上述层叠块以覆盖上述第一气体单 元中所包含的配管的方式设置。(3) 在(1)所述的发明中，上述层叠块，具有用于固定载置有 上述流体控制部件的一部分的下部流路块的固定部、和与上述第一气 体单元抵接的保持槽，并安装有加热器。(4) 在(1)所述的发明中，上述流体控制部件是质量流量控制 器或者质量流量计。发明效果具有上述构成的本发明的气体集成单元，在控制第一气体供给的 第一气体单元上叠置层叠块，进而将构成第二气体单元的流体控制部件的一部分叠置在层叠块上。由此，构成第二气体单元的流体控制部 件的一部分与第一气体单元成为二段构造，因而气体集成单元的底座 空间减小了叠置在层叠块上的流量控制部件的底座空间的量。因此， 根据本发明的气体集成单元，可以减小底座空间。本发明的气体集成 单元，由于以覆盖第一气体单元中所包含的配管的方式配置层叠块， 因而可以以收敛在第一气体单元的宽度尺寸内的方式配置层叠块。 本发明的气体集成单元，相对固定在层叠块上的下部流路块固定 流体控制部件的一部分，并通过加热器加热层叠块。与层叠块的保持 槽抵接的第一气体单元，由于从层叠块传递加热器的热而被加热，例 如可以避免第一气体在第一气体单元的流路内聚集的不良情况。由此， 根据本发明的气体集成单元，可以兼具有在第一层叠块上固定下部流 路块的作用、和将加热器的热传递给第一气体单元的作用。本发明的气体集成单元，由于将底座空间较大的质量流量控制器 或者质量流量计叠置在层叠块上，因而可以有效地减小单元整体的底 座空间。
图1是气体集成单元的回路图。图2是将图1所示的回路具体化的本发明的实施方式中的气体集成单元的俯视图。图3是图2的A-A剖视图。图4是图2所示的层叠块的俯视图。图5是表示从图4中的箭头B方向观察到的层叠块的图。 图6是图4的C-C剖视图。图7是不使用层叠块而将图1所示的回路具体化了的气体集成单 元的图。
具体实施方式
接着，参照附图对本发明的气体集成单元的一个实施方式进行说明。(回路说明)图1是气体集成单元1的回路图。
气体集成单元1，设置在未图示的气体罐和未图示的处理室之间， 为了将未图示的气体罐的作用气体每次以一定量供给未图示的处理室，设有第一 第三工艺气体管线2A、 2B、 2C。此外，气体集成单元 1设有用于清扫第一 第三工艺气体管线2A、 2B、 2C的清扫气体管线 6。在第一 第三工艺气体管线2A、2B、2C中设有多个流体控制部件。 手动阀11A、 IIB、 IIC通过作用气体输入口 3A、 3B、 3C与未图示的 气体罐连接。手动阀11A、 UB、 11C通过过滤器12A、 12B、 12C、调 节器13A、 13B、 13C和压力计14A、 14B、 14C与第一工艺侧气动阀 15A、 15B、 15C连接。第一工艺侧气动阀15A、 15B、 15C通过工艺侧质量流量控制器 16A、 16B、 16C与第二工艺侧气动阀17A、 17B、 17C连接。第二工艺 侧气动阀17A、 17B、 17C通过过滤器18A、 18B、 18C与共同输出口 4A、 4B、 4C连接。共同输出口4A、 4B、 4C与未图示的处理室连接。而且，工艺侧质量流量控制器16A、 16B、 16C还与第三工艺侧气 动阀19A、 19B、 19C连接。第三工艺侧气动阀19A、 19B、 19C通过 工艺侧止回阀20A、 20B、 20C与排气口 5A、 5B、 5C连接。排气口 5A、 5B、 5C与未图示的排气流路连接。与此相对，清扫气体管线6还设有多个流体控制部件。手动阀31 通过清扫气体输入口 7与未图示的清扫气体罐连接。手动阀31通过过 滤器32、调节器33、压力计34与第一清扫侧气动阀35连接。第一清 扫侧气动阔35通过第一清扫侧质量流量控制器36、第二清扫侧气动阀 37与清扫气体排气口 8连接。清扫气体排气口 8与未图示的排气流路 连接。压力计34还与第二清扫侧质量流量控制器38A、 38B、 38C连接。 第二清扫侧质量流量控制器38A、 38B、 38C通过清扫侧止回阀39A、 39B、 39C和第三清扫侧气动阀40A、 40B、 40C连接在第一 第三工艺 气体管线2A、 2B、 2C的工艺侧质量流量控制器16A、 16B、 16C的上游侧。而且，压力计34还与第四清扫侧气动阀41A、 41B、 41C连接。 第四清扫侧气动阀41A、 41B、 41C通过第三清扫侧质量流量控制器 42A、 42B、 42C和第五清扫侧气动阀43A、 43B、 43C连接在第一 第 三工艺气体管线2A、 2B、 2C的过滤器18A、 18B、 18C的上游侧。(整体构成)图2是将图1所示的回路具体化的本发明的实施方式的气体集成 单元1的俯视图。气体集成单元1构成第一 第三工艺气体管线2A、 2B、 2C，控制 作为"第一气体"的一例的作用气体供给的第一 第三工艺气体单元 72A、 72B、 72C (相当于"第一气体单元")、和构成清扫气体管线6 并控制作为"第二气体"的一例的清扫气体供给的清扫气体单元73 (相 当于"第二气体单元")固定在安装板9上。第一 第三工艺气体单元 72A、 72B、 72C的构成相同，因而在此以第一工艺气体单元72A为例 说明构成。(工艺气体单元) 图3是图2的A-A剖视图。第一工艺气体单元72A，其手动阀IIA的输入端口与设在输入块 21上的作用气体输入口 3A连通，控制工艺气体的输入。手动阔11A， 其输出端口通过V形流路块22与过滤器12A的输入端口连接。过滤器12A通过V形流路块22与调节器13A的输入端口连接，
将除去颗粒后的作用气体供给调节器13A。调节器13A，其输出端口通 过V形流路块22与压力计14A的输入端口连接，调整作用气体的压力 以使压力计14A显示设定压力。
压力计14A的输出端口通过形成L形流路的流路块23、配管24、 流路块23、第一共同流路块25与第一工艺侧气动阀15A的第三端口 连接。第一工艺侧气动阀15A是三通阀，根据阀开度控制作用气体的 供给量。第一工艺侧气动阀15A的第二端口通过V形流路块22与工艺 侧质量流量控制器16A的输入端口连接。
工艺侧质量流量控制器16A，其输出端口通过V形流路块22与第 二工艺侧气动阀17A的第二端口连接，进行作用气体的流量调整。第 二工艺侧气动阀17A为三通阀，根据阀开度控制作用气体的供给量。 第二工艺侧气动阀17A，其第三端口通过第二共同流路块26、 V形流 路块22、汇合块27、 V形流路块22与过滤器18A的输入端口连接。 过滤器18A的输出端口与设在输出块28上的共同输出口 4A连通，并 输出除去颗粒等后的作用气体。
第一工艺气体单元72A，将下部流路块21、 22、 23、 28通过从上 方插通的未图示的螺栓固定在安装板9上。然后，上述手动阀IIA、 过滤器12A、调节器13A、压力计14A、第一共同流路块25、第一工 艺侧气动阔15A、工艺侧质量流量控制器16A、第二工艺侧气动阀17A、 第二共同流路块26、汇合块27、过滤器18A利用从上方插通的螺栓V 分别固定在下部流路块21、 22、 23、 28上。
配管24的两端焊接在流路块23、 23上，覆盖在后述的层叠块61 上。如图2所示，层叠块61使4根螺栓Vp、 Vp、 Vp、 Vp从上方贯通 四角而拧紧在安装板9上，由此固定。
(清扫气体单元)
与此相对，图2所示的清扫气体单元73，使手动阀31、过滤器32、 调节器33、压力计34与上述手动阀IIA、过滤器12A、调节器13A、 压力计14A同样地固定在安装板9上，相互连通。
压力计34通过配管44、分支块45与第一清扫侧气动阀35的输入 端口连接。第一清扫侧气动阀35的输入端口通过第一清扫侧质量流量 控制器36与第二清扫侧气动阀37的输入端口连接。第二清扫侧气动 阀37的输出端口与清扫气体排气口 8连接。因此，对于清扫气体，通 过第一清扫侧质量流量控制器36对通过第一清扫侧气动阀35后的清 扫气体进行流量调整后，通过第二清扫侧气动阀37从清扫气体排气口 8排出。
分支块45通过配管46与分流块47、 48连接。分流块47，以使连 接在上方的配管46与第四清扫侧气动阀41A、 41C的输入端口连接的 方式形成流路。另一方面，分流块48以使连接在上方的配管46与第 四清扫侧气动阀41B的输入端口连接的方式形成流路。进而，配管46 从分流块48的上方以L型绕回，连接在构成第一 第三工艺气体管线 2A、 2B、 2C (图1)的压力计14A、 14B、 14C旁边所设置的V形流 路块22、 22、 22的上面。
如图3所示，在后述的层叠块61A的上面，在2个V形流路块22、 22上设置第二清扫侧质量流量控制器38A。 V形流路块22、 22通过未 图示的螺栓固定在层叠块61A上。第二清扫侧质量流量控制器38A通 过从上方插通的4根螺栓V、 V、 V、 V固定在V形流路块22、 22上。
与第二清扫侧质量流量控制器38A的输入端口连通的V形流路块 22，从上方利用2根螺栓Vs、 Vs与配管46连接。与第二清扫侧质量 流量控制器38A的输出端口连通的V形流路块22,从上方利用2根螺 栓Vs、 Vs固定有配管49。配管49连接在39A的上面，防止清扫气体 的倒流。
清扫侧止回阀39A、 39B、 39C与第三清扫侧气动阀40A、 40B、 40C —同安装在第一共同流路块25、25、25的上面。清扫侧止回阀39A、 39B、 39C的输出端口与第三清扫侧气动阀40A、 40B、 40C的输入端 口连接。第三清扫侧气动阀40A、 40B、 40C，其输出端口与第一工艺 侧气动阀15A的第一端口连接，控制对第一 第三工艺气体管线2A、 2B、 2C (参照图1)的清扫气体供给。
另一方面，图2所示的第四清扫侧气动阀41A、 41B、 41C，其输 入端口与分流块47、 48连接，输出端口与第三清扫侧质量流量控制器 42A、 42B、 42C的输入端口连接。由于分流块47逆向输出清扫气体， 因而第四清扫侧气动阀41A、 41C隔着分流块47逆向设置。
第四清扫侧气动阀41A、 41B、 41C的输出端口通过第三清扫侧质 量流量控制器42A、 42B、 42C与第五清扫侧气动阀43A、 43B、 43C 的输入端口连接，调整清扫气体的流量。第五清扫侧气动阀43A、 43B、 43C,其输出端口通过配管50、 51、 52分别连接在工艺侧止回阀20A、 20B、 20C和过滤器18A、 18B、 18C之间设置的汇合块27、 27、 27的 上面，控制清扫气体供给。
清扫气体单元73，通过未图示的螺栓将V形流路块22、分支块 45、分流块47、 48等配置在流体控制部件和安装板9之间的下部流路 块固定在安装板9上。上述第四清扫侧气动阓41A、 41B、 41C、第三 清扫侧质量流量控制器42A、42B、42C和第五清扫侧气动阀43A、43B、 43C,通过将从上方插通的螺栓V连接在V形流路块22上而固定。
(层叠块)
接着，对上述层叠块61A、 61B、 61C进行说明。层叠块61A、 61B、 61C为相同的构成，因而在此说明层叠块61A的构成时省略层叠块 61B、 61C的说明。
图4是层叠块61A的俯视图。图5是表示从图4中的箭头B方向 观察到的层叠块61A的图。图6是图4的C-C剖视图。
层叠块61A将金属(例如铝等)或者树脂材料(例如四氟乙烯树 脂(PTFE)等)成形为长方体形状而成。在一侧面上以拱状形成有保 持槽62A，该保持槽62A用于可靠嵌合配管24A (参照图2、图3)而 保持配管24A。在层叠块61A的两端，隔着保持槽62A分别形成固定 孔63A、 63A，该固定孔63A、 63A为了固定V形流路块22、 22而在 内周面形成内螺纹。而且，在层叠块61A的两端，在固定孔63A、 63A 的外侧隔着保持槽62A形成有用于插通螺栓Vp的插通孔64A、 64A， 该螺栓Vp用于将层叠块61A固定在安装板9上。在固定孔63A的外 侧形成插通孔64A的理由在于，可以连同第二清扫侧质量流量控制器 38A—起对层叠块61A进行操作，从而使操作性、维护性良好。
层叠块61A例如在安装加热器71、 71 (参照图2)时，可以选择 导热率高的铝材等，以使加热器71、 71的热容易通过层叠块61A传递 至气体流经的配管24A。另一方面，层叠块61A在不使用加热器71、 71的情况下，为了减小作用气体的温度变化，可以选择导热率低的不 锈钢、含氟树脂等作为层叠块61A的材料。
(动作说明)
接着，对具有上述构成的气体集成单元1的动作进行说明。
气体集成单元l例如在从第一工艺气体管线2A向未图示的处理室 供给作用气体时，使第一工艺侧气动阀15A和第三工艺侧气动阀19A 成为打开状态，第一工艺侧气动阀15B、 15C、第二工艺侧气动阀第二 工艺侧气动阔17A、 17B、 17C、第三工艺侧气动阀19B、 19C、第三清 扫侧气动阀40A、 40B、 40C、第四清扫侧气动阀41A、 41B、 41C和第 五清扫侧气动阀43A、 43B、 43C成为关闭状态。
供给于作用气体输入口 3A的作用气体，通过手动阀IIA、过滤器 12A、调节器13A、压力计14A进行压力调整后，流向配管24、第一 共同流路块25、第一工艺侧气动阀15A、工艺侧质量流量控制器16A， 进行流量调整。作用气体从工艺侧质量流量控制器16A通过第二工艺 侧气动阀17A、第三工艺侧气动阀19A、工艺侧止回阀20A向排气流 路排出。作用气体的压力和流量稳定于规定值后，将第二工艺侧气动阀 17A从关闭状态切换至打开状态，并将第三工艺侧气动阀19A从打开 状态切换至关闭状态。由此，作用气体从第二工艺侧气动阀17A经过 汇合块27供给到过滤器18A而除去杂质后，从共同输出口 4A供给到 未图示的处理室。其后，在对第一工艺气体管线2A进行清扫的情况下，将第一工艺 侧气动阀15A和第二工艺侧气动阀17A保持在打开状态地使第三工艺 侧气动阀19A、第三清扫侧气动阀40A、第四清扫侧气动阀41A、第五 清扫侧气动阀43A从关闭状态切换到打开状态。向清扫气体输入口 7供给的清扫气体，通过手动阀31、过滤器32、 调节器33、压力计34进行压力调整后，经过配管44、分支块45、配 管46、 V形流路块22供给至第二清扫侧质量流量控制器38A，进行流 量调整。其后，清扫气体经过清扫侧止回阀39A、第三清扫侧气动阀 40A供给至第一工艺侧气动阀15A，供给至作用气体流经的流路。清扫 气体从第一工艺侧气动阀15A经由工艺侧质量流量控制器16A供给至 第二工艺侧气动阀17A。清扫气体，其一部分从第二工艺侧气动阀17A经过第三工艺侧气 动阀19A、工艺侧止回阀20A，并从排气口 5A排出到未图示的排气流 路。剩余的清扫气体从第二工艺侧气动阀17A经过第二共同流路块26、
汇合块27、过滤器18A、共同输出口 4A输出到未图示的处理室。通过上述的清扫动作，清扫第一工艺侧气动阀15A的下游侧的流路。此时，如果比较第二清扫侧质量流量控制器38A和工艺侧质量流 量控制器16A的流量，则可以检测出工艺侧质量流量控制器16A的异 常。与上述清扫动作同时地，清扫气体从分流块47经过第四清扫侧气 动阀41A、第三清扫侧质量流量控制器42A、第五清扫侧气动阀43A、 配管50供给至汇合块27,从汇合块27经过过滤器18A，并从共同输 出口 4A输出到未图示的处理室。由此可以清扫配管50内。此时，通 过测定第三清扫侧质量流量控制器42A的流量，可以检测过滤器18A 的网眼堵塞。使作用气体或者清扫气体流入第二、第三工艺气体管线2B、 2C 的动作，与使作用气体或者清扫气体流入上述第一工艺气体管线2A的 动作同样，因而省略说明。(作用效果)接着，对具有上述构成的气体集成单元1的作用效果进行说明。 图7是表示不使用层叠块61A、 61B、 61C而将图l所示的回路具体化 了的气体集成单元100的图。如图7所示，在不使用层叠块61A、 61B、 61C的情况下，将第二 清扫侧质量流量控制器38A、 38B、 38C配置在设于配管24A、 24B、 24C侧方的区域P11上。这种情况下，为了抑制底座空间，第二清扫 侧质量流量控制器38A、 38B、 38C以与第三清扫侧质量流量控制器 42A、 42B、 42C分别位于同列的方式连接在分流块47、 47、 47上。第
二清扫侧质量流量控制器38A、 38B、 38C与第三清扫侧质量流量控制 器42A、 42B、 42C控制从配管101供给的清扫气体的流量。与此相对，如图2所示，在使用层叠块61A、 61B、 61C的情况下， 在叠置于配管24A、 24B、 24C上的层叠块61A、 61B、 61C上，叠置 第二清扫侧质量流量控制器38A、 38B、 38C。由此，第二清扫侧质量 流量控制器38A、 38B、 38C与配管24A、 24B、 24C形成二段构造。由此，在不使用层叠块61A、 61B、 61C的情况下，如图7所示， 需要用于配置第二清扫侧质量流量控制器38A、 38B、 38C的区域P11， 但是通过使用层叠块61A、 61B、 61C，如图2所示，可以在用于配置 配管24A、24B、24C的区域Pl内设置第二清扫侧质量流量控制器38A、 38B、 38C。因此，根据本实施方式的气体集成单元1，可以消除用于 配置第二清扫侧质量流量控制器38A、 38B、 38C的区域11，以减小底 座空间。并且，通过使第二清扫侧质量流量控制器38A、 38B、 38C与配管 24A、 24B、 24C形成二段构造，可以使图7所示的区域Pll空出。如 图2所示，利用分流块47反向配置第四清扫侧气动阀41A、第三清扫 侧质量流量控制器42A、第五清扫侧气动阀43A。由此，图7所示的区 域P21向图2所示的区域P2移动，可以将气体集成单元1的宽度尺寸 减小l条管线的量。一般地，在半导体制造装置中，由于所使用的流体控制部件的数 量较多、难以縮短全长，因此期望可以减小宽度尺寸。因此，如上所 述将配管24A、 24B、 24C与第二清扫侧质量流量控制器38A、 38B、 38C设成二段构造以形成空闲空间，在该空闲空间中设置构成清扫气体 管线6的第四清扫侧气动阀41A、第三清扫侧质量流量控制器42A、第 五清扫侧气动阀43A而减小气体集成单元1的宽度尺寸，是非常有益 的。 — 除此之外，在如图7所示不使用层叠块61A、 61B、 61C的情况下， 第二清扫侧质量流量控制器38A、38B、38C，为了向清扫侧止回阀39A、 39B、 39C供给调整流量后的清扫气体，使配管102、 103、 104以单独 连接在清扫侧止回阀39A、 39B、 39C的上面的方式绕回。而且，第五 清扫侧气动阀43A、 43B、 43C使配管105、 106、 107以L形绕回，并 分别连接在第一 第三工艺气体单元72A、 72B、 72C的汇合块27、 27、 27上。与此相对，如图2所示，在使用层叠块61A、 61B、 61C的情况下， 由于不需要对清扫气体的供给量进行严格的管理，因而使配管46与第 二清扫侧质量流量控制器38A、 38B、 38C的输入端口连接，并使第二 清扫侧质量流量控制器38A、 38B、 38C的输出端口经过较短的配管49、 49、 49与清扫侧止回阀39A、 39B、 39C连接。而且，以通过形成于气 体单元之间的间隙的方式将配管50绕回，从而将与第五清扫侧气动阔 43B、 43C逆向设置的第五清扫侧气动阀43A连接在第一工艺气体单元 72A的汇合块27上。对于第五清扫侧气体操作43B、 43C，将配管51、 53绕回配置成L形。因此，如图2、图3所示，通过使用层叠块61A、 61B、 61C而将 第一 第三工艺气体单元72A、 72B、 72C构成二段构造，从第二清扫 侧质量流量控制器38A、 38B、 38C到清扫侧止回阀39A、 39B、 39C 的配管长度变短，可以减少流路调整后的清扫气体的损失而控制清扫 气体。而且，如图2所示的气体集成单元1，由于将如图7所示的配管 102、 103、 104汇集成1根配管46，因而与图7所示的气体集成单元 100相比可以削减配管空间。并且，由于利用气体单元的间隙将配管 50绕回，因而不需要另行设置配管50用的配管空间，不会导致单元尺 寸的大型化。而且，本实施方式的气体集成单元1，如图2和图3所示/由于以 覆盖配管24A、 24B、 24C的方式配置层叠块61A、 61B、 61C，因而可 以以收敛于第一 第三工艺气体单元72A、 72B、 72C的宽度尺寸内的 方式配置层叠块61A、 61B、 61C。而且，本实施方式的气体集成单元l,如图2所示，利用插通在插 通孔64A中的螺栓Vp将层叠块61A、 61B、 61C固定在安装板9上， V形流路块22通过未图示的螺栓分别固定在层叠块61A、 61B、 61C 的固定孔63A中，进而第二清扫侧质量流量控制器38A、 38B、 38C利 用螺栓V分别固定在V形流路块22上。例如在加热第三工艺气体单元72C的情况下，在手动阀IIC、过 滤器12C、调节器13C、压力计14C、层叠块61C、第一共同流路块25、 第一工艺侧气动阀15C、工艺侧质量流量控制器16C、第二工艺侧气动 阀17C、第二共同流路块26、汇合块27、过滤器18C的两侧安装带状 的加热器71、 71。由此，各流体控制部件以及配置在它们下面的下部 流路块被加热，作用气体不会聚集在流路内。此时，层叠块61C被紧 贴在两侧面上的加热器71、 71加热，该热传递至与保持槽62C的内壁 接触的配管24C，配管24C被加热。因此，在配管24C内流动的作用 气体不会在配管24C内聚集。由此，根据本实施方式的气体集成单元1，可以兼具有在1个层叠 块61上固定第二清扫侧质量流量控制器38及配置在其下部的V形流 路块22、 22的作用、和将加热器71、 71的热传递至配管24A、 24B、 24C的作用。换言之，如图7所示，在不使用层叠块61C的情况下对工艺气体 单元进行加热时，虽然以覆盖配管24C的方式将加热块110固定在安 装板9上，但是不能有效利用加热块110上部。与此相对，如图2和 图3所示，通过使层叠块61具有加热配管24的作用之外，还使其具 有固定V形流路块22、 22的作用，可以有效利用层叠块61上部，可
以减小底座空间。而且，本实施方式的气体集成单元1，如图2和图3所示，由于将 底座空间较大的第二清扫侧质量流量控制器38A、 38B、 38C叠置在层 叠块61A、 61B、 61C上，因而可以有效减小单元整体的底座空间。本发明不限于上述实施方式，可以有各种应用。(1) 例如，在上述实施方式中，作为"第一气体单元"的一例而 列举了作用气体流经的第一 第三工艺气体单元72A、 72B、 72C，作为"第二气体单元"的一例而列举了清扫气体单元73。与此相对，例如 也可以将控制作用气体供给的气体单元作为"第一、第二气体单元"。(2) 例如，在上述实施方式中，使层叠块61的保持槽62形成拱 状，但是只要是可以与配管24的外周面接触而进行热传递的形状即可， 还可以是矩形或者三角形等。(3) 例如，在上述实施方式中，层叠块61叠置在配管24上，但 是也可以叠置在流路块等上。(4) 例如，在上述实施方式中，将第三清扫侧质量流量控制器38 配置在层叠块61的上方，但是也可以将阀或传感器等其他种类的流体 控制部件配置在层叠块61的上方。
权利要求
1.一种气体集成单元，其特征在于，设有第一气体单元，控制第一气体的供给；第二气体单元，与所述第一气体单元连接，通过多个流体控制部件控制汇合到所述第一气体单元的第二气体；和层叠块，叠置在所述第一气体单元上，并且，将所述流体控制部件的一部分叠置在所述层叠块上。
2. 如权利要求1所述的气体集成单元，其特征在于，所述层叠块 以覆盖所述第一气体单元中所包含的配管的方式设置。
3. 如权利要求1所述的气体集成单元，其特征在于，所述层叠块，具有用于固定载置有所述流体控制部件的一部分的下部流路块的固定 部、和与所述第一气体单元抵接的保持槽，并安装有加热器。
4. 如权利要求1所述的气体集成单元，其特征在于，所述流体控制部件的一部分是质量流量控制器或者质量流量计。
全文摘要
本发明提供一种可以减小底座空间的气体集成单元。在气体集成单元中，设有第一气体单元(72A、72B、72C)，控制第一气体的供给；第二气体单元(73)，与第一气体单元(72A、72B、72C)连接并通过多个流体控制部件(31～34、38A～43A、38B～43B、38C～43C)控制汇合至第一气体单元(72A、72B、72C)的清扫气体；和层叠块(61A、61B、61C)，叠置在第一气体单元(72A、72B、72C)上，并且，将流体控制部件的一部分(38A、38B、38C)叠置在层叠块(61A、61B、61C)上。
文档编号C23C16/44GK101210317SQ20071019407
公开日2008年7月2日 申请日期2007年11月30日 优先权日2006年12月25日
发明者井上贵史, 稻垣竹矢, 荻原立典 申请人:喜开理株式会社