专利名称：喷嘴与具有该喷嘴的炉管的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种喷嘴结构，特别是一种表面具有固定装置的喷嘴。
背景技术：
喷嘴结构已经广泛的应用到人们生活的各个方面，例如引擎散热的喷嘴、灭火机的喷嘴、浇花的喷嘴、洗涤的喷嘴等，这些都是通过改变液体的流速以使得所喷出的液体的流速加剧或呈雾状。请参考
图1，一种现有的直立式炉管10包含一内筒12、一外筒14、一晶舟16以及一供应气体的喷嘴18设于内筒12与晶舟16之间。内筒12与外筒14排列为同心圆的双重管构造，内筒12与外筒14间隔预定距离，且外筒14外围由设有加热器15以及隔热材17的加热炉19。此外,喷嘴18为一具光滑表面的空心管柱,喷嘴18的一端连接至一气体供应 系统20，且喷嘴18通过一高真空接头22固定于炉管10下端的一筒体24的管壁上。高真空接头22包含一第一套筒221、一第二套筒222以及一第三套筒223依序抓持喷嘴18，且第一套筒221与第二套筒222间设有一环型密封垫224用以确保第一套筒221、第二套筒222与喷嘴18间的密封性。由于CVD是利用化学反应来进行薄膜的沉积，在反应时通常会将炉管10内部的气压维持在低压或接近真空的状态，气体压力的变化使得喷嘴18会以被高真空接头22夹持的区段为轴心而偏转，造成喷嘴18位于内筒12与晶舟16之间的区段因偏转并斜倚在内管12的管壁内侧，使得歪斜的喷嘴18所喷散出的气体运行方向不再与晶舟上16上的晶圆平行，导致晶舟16上承载的晶圆表面薄膜沉积不全而被列为不良品报废。此外，在进行CVD时，生成物除了会沉积在晶舟16上，也会附着在内筒12的管壁内侧以及喷嘴18表面，当内筒12的管璧内侧表面累积一定厚度的生成物时，由于生成物与喷嘴18的热膨胀系数的差异，在受热时经常使得喷嘴18与内筒12的管壁接触的部分发生断裂而报废，即造成整体制程以及生产成本上莫大的损失。
实用新型内容有鉴于此，有必要提供一种具有固定装置的喷嘴，其能避免喷嘴偏转与炉管管壁接触而发生断裂的问题，以克服上述不足。本实用新型提供一种喷嘴，其包括相连接的一个第一管构件及一个第二管构件，该第一管构件的一个表面设有一固定装置，该固定装置为一粗糙表面。本实用新型还提供一种炉管，其包括一内筒；一设置在该内筒外侧的外筒；一设于该内筒以及该外筒下方的筒体，该筒体、该内筒与该外筒共同定义一反应室；一喷嘴，该喷嘴具有相连接的一个第一管构件及一个第二管构件，该第一管构件的一个表面设有一固定装置，该固定装置为一粗糙表面；以及一用于将该喷嘴固定于该筒体高真空接头，该高真空接头包含至少一环型密封垫，且该环型密封垫环绕并直接接触该喷嘴的固定装置。较佳地，该粗糙表面的粗糙度介于I毫米至3毫米之间。[0009]较佳地，该第一管构件垂直于该第二管构件。较佳地，该第一管构件与该第二管构件的夹角小于180度。在本实用新型提供的技术方案中，该固定装置可为一粗糙表面以增加喷嘴与环型密封垫之间的接触面积以及磨擦阻力，避免喷嘴与环型密封垫之间发生相对的转动，并且防止喷嘴接触炉管内壁在受热环境下因热膨胀系数差异而发生断裂的问题。上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本实用新型的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举实施例，并配合附图，详细说明如下。
以下结合附图描述本实用新型的实施例，其中 图I为一种现有的直立式炉管的局部示意图。图2为本实用新型提供的喷嘴的侧视图。图3为本实用新型提供的具有图2所示喷嘴的炉管的结构示意图。图4为图2所示喷嘴的一种变形结构的侧视图。图5为图2所示喷嘴的另一种变形结构的侧视图。
具体实施方式
以下基于附图对本实用新型的具体实施例进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅作为实施例，并不用于限定本实用新型的保护范围。请参阅图2至图5，本实用新型提供的喷嘴26为一空心管柱，其包括一第一管构件28以及一第二管构件30。第一管构件28包含一第一端281，第一端281连接至一气体供应系统42，第一管构件28的相对于第一端281的一第二端282连接于第二管构件30。第二管构件30上设有多个气体出口 32，自第一端281导入喷嘴26的气体将自气体出口 32排出，参与化学反应并形成生成物，该些生成物将沉积在预定的晶圆表面。第一管构件28与第二管构件30的夹角小于180度，且第一管构件28与第二管构件30的夹角大小可视机台的需要而调整。喷嘴26还包含一固定装置34，其设于第一管构件28自第一端281到连接第二管构件30的一端281之间的表面。固定装置34具有一粗糙表面，且该粗糙表面可以利用化学方法，如蚀刻制程；或物理制程。该粗糙表面的粗糙度小于5毫米(μ m)，优选介于I毫米至3毫米之间。请参考图3，本实用新型提供的炉管36包含一喷嘴26、一内筒38、一外筒40、一晶舟42、一气体供应系统44以及一筒体48。炉管36还包含加热器15、隔热材17等加热炉19设备，这些与现有的直立式炉管相似，再此不再重复描述。炉管36的内筒38、外筒40以及筒体48共同定义出进行CVD时的一反应室49。此外，喷嘴26通过一高真空接头46套设在喷嘴26的第一管构件28，则可将喷嘴固定于炉管36下端的一筒体48的管壁上，并将喷嘴26的第二管构件30固定在反应室49内且设于内筒38与晶舟42之间的空间。高真空接头46包含一第一套筒461、一第二套筒462以及一第三套筒463沿着第二端282往第一端281的方向依序抓持喷嘴26的第一管构件28，且第一套筒461与第二套筒462间设有一环型密封垫50，环绕在固定装置34的外围，并与固定装置34紧密接触，由于固定装置34为粗糙表面，因此环型密封垫50与固定装置34的接触面会有一定的磨擦阻力，使得喷嘴26得以更稳定地固定在高真空接头46内部，在进行CVD前抽真空的过程中，环型密封垫50与固定装置34之间的磨擦阻力可确保喷嘴26不致发生偏转，因此可避免第二管构件30接触炉管36内壁。上述较佳实施例所示的固定装置34对第一管构件26的一部表面均匀地加工，使得该部分表面为皆为粗糙化的表面。固定装置34也可为图4及图5所不，图4所不的喷嘴26的固定装置34为一具有横纹的图案化的粗糖表面341,而图5所示的喷嘴26的固定装置34具有直条纹的图案化的粗糙表面342。本创作揭露一种具有固定装置设于管壁表面的喷嘴，该固定装置可为一粗糙表面或一螺纹表面，以增加喷嘴与环型密封垫之间的接触面积以及磨擦阻力，避免喷嘴与环型密封垫之间发生相对的转动，并且防止喷嘴接触炉管内壁在受热环境下因热膨胀系数差异而发生断裂的问题。以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本 实用新型的精神和原则的内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围内。
权利要求1.一种喷嘴，其包括相连接的一个第一管构件及一个第二管构件，该第一管构件的一个表面设有一固定装置，其特征在于该固定装置为一粗糙表面。
2.根据权利要求I所述的喷嘴，其特征在于该粗糙表面的粗糙度介于I毫米至3毫米之间。
3.根据权利要求I所述的喷嘴，其特征在于该第一管构件垂直于该第二管构件。
4.根据权利要求I所述的喷嘴，其特征在于该第一管构件与该第二管构件的夹角小于180度。
5.一种炉管，其包括一内筒；一设置在该内筒外侧的外筒；一设于该内筒以及该外筒下方的筒体，该筒体、该内筒与该外筒共同定义一反应室，其特征在于还包括一喷嘴，该喷嘴具有相连接的一个第一管构件及一个第二管构件，该第一管构件的一个表面设有一固定装置，该固定装置为一粗糙表面；以及一用于将该喷嘴固定于该筒体高真空接头，该高真空接头包含至少一环型密封垫，且该环型密封垫环绕并直接接触该喷嘴的固定装置。
6.根据权利要求5所述的炉管，其特征在于该第一管构件与该第二管构件的夹角小于180度。
7.根据权利要求5所述的炉管，其特征在于该粗糙表面的粗糙度介于I毫米至3毫米之间。
专利摘要本实用新型提供了一种具有固定装置且能避免喷嘴偏转与炉管管壁接触的喷嘴，其包括相连接的一个第一管构件及一个第二管构件，该第一管构件的一个表面设有一固定装置，该固定装置为一粗糙表面。本实用新型还提供了一种具有上述喷嘴的炉管，其包括一内筒；一设置在该内筒外侧的外筒；一设于该内筒以及该外筒下方的筒体，该筒体、该内筒与该外筒共同定义一反应室；一喷嘴，该喷嘴具有相连接的一个第一管构件及一个第二管构件，该第一管构件的一个表面设有一固定装置，该固定装置为一粗糙表面；以及一用于将该喷嘴固定于该筒体高真空接头，该高真空接头包含至少一环型密封垫，且该环型密封垫环绕并直接接触该喷嘴的固定装置。
文档编号C23C16/455GK202465865SQ20122009333
公开日2012年10月3日 申请日期2012年3月13日 优先权日2012年3月13日
发明者谢玲艳 申请人:余姚市士森铜材厂