本发明属于金属加工技术领域，具体涉及一种高锰平衡块生产工艺。
背景技术：
现有平衡块的生产成本较高，使用性能较低，延伸性不高，没有良好的无磁性，减振性低，不适用当下的制冷设备大量生产。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种高锰平衡块生产工艺，以解决上述背景技术中提出的现有平衡块的生产成本较高，使用性能较低，延伸性不高，没有良好的无磁性，减振性低，不适用当下的制冷设备大量生产。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种高锰平衡块生产工艺，由以下重量成分的原料制成：
氯丁橡胶8-13重量份、锰35-48重量份、铜3-7重量份、钙1-3重量份、硅2-10重量份、碳2-6重量份、铬3-7重量份、还原剂3-6重量份。
具体涂布工艺步骤如下：
步骤一：将氯丁橡胶、锰、铜、钙、硅、碳和铬进行高温熔炼成钢坯。
步骤二：将步骤一的钢坯通热轧机热轧成盘钢。
步骤三：将步骤二的盘钢通过酸洗加工进行除杂工作，增加其光泽度，且将其切割为制作平衡块规格所需的规格大小。
步骤四：将步骤三处理后的盘钢通过冲压机进行冲压制模工作，使其通过模压的挤压为平衡块所需的形状。
步骤五：将步骤四压模后的平衡块进行毛边修磨。
步骤六：将修磨后的平衡块进行氢气退火加工处理，已得到最后成品。
进一步地，所述在步骤一中加入钨。
进一步地，所述步骤一的冶炼温度达到2200℃-2500℃，且加热时间为2-3.5h。
进一步地，所述还原剂为铝或镁。
进一步地，所述步骤四中对需要冲压的平衡块进行1-3次的软化处理和皂化润滑处理。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：平衡块主要用于制冷设备，利用锰替换原来主要的铜材料，降低其材料成本，且提高其优越性，具有良好的电磁屏蔽能力，增强其延伸性降低其综合生产成品，提高平衡块的耐腐蚀性和耐高温性，降低其在空气中的氧化速度，提高其压铸性能和生产效率。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1
一种高锰平衡块生产工艺，由以下重量成分的原料制成：
氯丁橡胶8重量份、锰35重量份、铜3重量份、钙1重量份、硅2重量份、碳2重量份、铬3重量份、还原剂3重量份。
具体涂布工艺步骤如下：
步骤一：将氯丁橡胶、锰、铜、钙、硅、碳和铬进行高温熔炼成钢坯。
步骤二：将步骤一的钢坯通热轧机热轧成盘钢。
步骤三：将步骤二的盘钢通过酸洗加工进行除杂工作，增加其光泽度，且将其切割为制作平衡块规格所需的规格大小。
步骤四：将步骤三处理后的盘钢通过冲压机进行冲压制模工作，使其通过模压的挤压为平衡块所需的形状。
步骤五：将步骤四压模后的平衡块进行毛边修磨。
步骤六：将修磨后的平衡块进行氢气退火加工处理，已得到最后成品。
其中，所述在步骤一中加入钨。
其中，所述步骤一的冶炼温度达到2200℃左右，且加热时间为2h。
其中，所述还原剂为铝。
其中，所述步骤四中对需要冲压的平衡块进行1次的软化处理和皂化润滑处理。
本发明的工作原理：平衡块主要用于制冷设备，利用锰替换原来主要的铜材料，降低其材料成本，且提高其优越性，具有良好的电磁屏蔽能力，增强其延伸性降低其综合生产成品，提高平衡块的耐腐蚀性和耐高温性，降低其在空气中的氧化速度，提高其压铸性能和生产效率，且利用铝为还原剂，再次大大降低了平衡块的氧化效果。
实施例2
一种高锰平衡块生产工艺，由以下重量成分的原料制成：
氯丁橡胶13重量份、锰48重量份、铜7重量份、钙3重量份、硅10重量份、碳6重量份、铬7重量份、还原剂6重量份。
具体涂布工艺步骤如下：
步骤一：将氯丁橡胶、锰、铜、钙、硅、碳和铬进行高温熔炼成钢坯。
步骤二：将步骤一的钢坯通热轧机热轧成盘钢。
步骤三：将步骤二的盘钢通过酸洗加工进行除杂工作，增加其光泽度，且将其切割为制作平衡块规格所需的规格大小。
步骤四：将步骤三处理后的盘钢通过冲压机进行冲压制模工作，使其通过模压的挤压为平衡块所需的形状。
步骤五：将步骤四压模后的平衡块进行毛边修磨。
步骤六：将修磨后的平衡块进行氢气退火加工处理，已得到最后成品。
其中，所述在步骤一中加入钨。
其中，所述步骤一的冶炼温度达到2500℃左右，且加热时间为3.5h。
其中，所述还原剂为镁。
其中，所述步骤四中对需要冲压的平衡块进行3次的软化处理和皂化润滑处理。
本发明的工作原理：便于加工，降低了生产周期，有效降低了综合成本，通过增加平衡块的耐高温和耐腐蚀性，提平衡块的使用寿命，使平衡块具有重量轻、比强度高、减振性好、不易老化，电磁屏蔽能力强的性能，提高平衡块的使用性能。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。