一种重型双面研磨机及其工作方法与流程

本发明涉及高精密机械设备的，尤其涉及一种重型双面研磨机，以及这种重型双面研磨机的工作方法。

背景技术：

1、研磨是超精密加工中一种重要加工方法，其优点是加工精度高，加工材料范围广，主要适用于石英晶片、光学晶体、玻璃、硅片、蓝宝石减薄、半导体、铌酸锂、硬质合金、陶瓷片等薄脆金属或非金属的双面磨削、研磨和抛光。但传统的研磨机上盘装置多为固定不可旋转，而且靠气缸施加压力进行研磨，不能有效地控制好研磨压力，进而影响研磨质量，这使得传统研磨机的应用受到了一定限制。

技术实现思路

1、为克服现有技术的缺陷，本发明要解决的技术问题是提供了一种 maxxmill系统重型双面研磨机，主要部件的模块化设计、最新的精密控制系统、驱动系统和测量技术提供了工艺的可靠性，其能够实现精度要求高的双面研磨，并且上盘装置可以转动。

2、本发明的技术方案是：这种重型双面研磨机，其包括机架(ⅰ)、下盘装置(ⅱ)、上盘装置(ⅲ)、旋转机构(ⅳ)、机架(ⅴ)、杠杆臂(ⅵ)；

3、电机(1)驱动下盘装置绕中心转动，电机(4)驱动柱销太阳轮(8)

4、绕中心转动；外柱销(11)等距均布在外齿圈(12)上，且外柱销 (11)始终保持静止不动；内柱销(9)等距均布在太阳轮(8)上，游行轮(10)上的齿始终保持与内柱销(9)以及外柱销(11)啮合，通过内柱销(9)带动游行轮(10)绕中心做行星运动；

5、电机(16)通过主轴(14)驱动上盘装置(ⅲ)转动；

6、气缸(22)通过伸缩带动旋转定位座(23)旋转，从而实现将整个上盘装置(ⅲ)转动，当上盘装置(ⅲ)转动到与下盘装置(ⅱ)

7、同心位置时，气缸(21)驱动限位块(18)卡住定位座(24)从而使上盘装置(ⅲ)工作时保持固定。

8、本发明通过电机驱动下盘装置绕中心转动，电机驱动柱销太阳轮绕中心转动；外柱销等距均布在外齿圈上，且外柱销始终保持静止不动；内柱销等距均布在太阳轮上，游行轮上的齿始终保持与内柱销以及外柱销啮合，通过内柱销带动游行轮绕中心做行星运动，电机通过主轴驱动上盘装置转动；气缸通过伸缩带动旋转定位座旋转，从而实现将整个上盘装置转动，当上盘装置转动到与下盘装置同心位置时，气缸驱动限位块卡住定位座从而使上盘装置工作时保持固定实现自动更换工位；因此能够实现精度要求高的双面研磨，并且上盘装置可以转动。

9、还提供了一种重型双面研磨机的工作方法，其包括以下步骤：

10、(i)人工将待研磨产品放入游行轮(10)中，电机(4)驱动柱销太阳轮(8)绕中心自转，柱销太阳轮(8)带动游行轮(10)绕中心做行星运动；

11、(ii)电机(1)驱动下盘装置绕中心转动；

12、(iii)电机(15)通过主轴(14)驱动上盘装置转动；

13、(iv)通过杠杆臂(26)对上盘装置施加压力，使得上盘装置与下盘装置将待加工件紧紧的压在二者之间，同时通过上盘装置、下盘装置与游行轮(10)之间产生的相对运动来实现对待加工件的研磨，如此往复循环。

技术特征：

1.一种重型双面研磨机，其特征在于：其包括机架(ⅰ)、下盘装置(ⅱ)、上盘装置(ⅲ)、旋转机构(ⅳ)、机架(ⅴ)、杠杆臂(ⅵ)；

2.根据权利要求1所述的重型双面研磨机，其特征在于：气囊(25)通过吸气与放气从而驱动杠杆臂(26)绕杠杆轴(30)转动，杠杆臂(26)通过轴承(15)带动主轴(14)升降，从而实现上盘装置的整体升降，同时气囊(25)中间还安装有压力传感器(34)，通过压力传感器(34)的反馈精确控制杠杆臂(26)对上盘装置的下压压力。

3.根据权利要求2所述的重型双面研磨机，其特征在于：上横梁(31)通过交叉滚针轴承(32)与交叉滚针轴承(35)柔性固定在旋转主轴(33)上。

4.根据权利要求3所述的重型双面研磨机，其特征在于：电机(1)驱动同步带轮(2)转动，同步带轮(2)通过同步带(3)驱动下盘装置绕中心转动。

5.根据权利要求4所述的重型双面研磨机，其特征在于：电机(4)驱动同步带轮(6)转动，同步带轮(6)通过同步带(5)驱动柱销太阳轮(8)绕中心自转。

6.一种重型双面研磨机的工作方法，其特征在于：其包括以下步骤：

技术总结
公开一种重型双面研磨机及工作方法，电机(1)驱动下盘装置绕中心转动，电机(4)驱动柱销太阳轮(8)绕中心转动；外柱销(11)等距均布在外齿圈(12)上，且外柱销(11)始终保持静止不动；内柱销(9)等距均布在太阳轮(8)上，游行轮(10)上的齿始终保持与内柱销以及外柱销啮合，通过内柱销(9)带动游行轮(10)绕中心做行星运动；电机(16)通过主轴(14)驱动上盘装置(Ⅲ)转动；气缸(22)通过伸缩带动旋转定位座(23)旋转，从而实现将整个上盘装置(Ⅲ)转动，当上盘装置(Ⅲ)转动到与下盘装置(Ⅱ)同心位置时，气缸(21)驱动限位块(18)卡住定位座(24)从而使上盘装置(Ⅲ)工作时保持固定。

技术研发人员：郭胜安,雷立猛,柳茂
受保护的技术使用者：湖南金岭机床股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/13