本发明属于材料处理，具体涉及一种铝合金制品及其制备方法与应用。
背景技术：
1、随着时代进步，电子产品轻薄化成为主流趋势。由于铝材具备质轻的特质，其受到广泛的应用，在实际应用中对铝材表面装饰性的要求逐渐提高。目前改善铝合金表面的装饰性，主要采用阳极氧化的方法，但是采用阳极氧化法制得的铝合金，其表面的高亮效果不能满足市场的最新需求。
2、为了达到更好的表面装饰效果，通常采用金属pvd装饰工艺。目前，常规的铝合金pvd工艺有：a、在铝合金上直接镀pvd；b、先对铝合金表面进行电镀处理，然后在电镀层表面镀pvd；c、先在铝合金上做普通阳极氧化处理，该处理过程中材料未作封孔处理，然后在阳极氧化层表面镀pvd。
3、工艺a中，pvd与铝合金之间的附着力较差，pvd层容易脱落、且耐腐蚀性差。工艺b中，电镀层与铝合金结合力有限，pvd层不但容易被腐蚀，而且易脱落。工艺c中，普通阳极膜未做封孔处理，局部会有微裂纹，与pvd的镀层结合后，部分pvd中的金属与铝合金直接接触，容易造成电位差，材料在盐雾、人工汗等腐蚀性测试时易被腐蚀。
4、因此，急需提供一种耐腐蚀、层间结合力高的铝合金制品。
技术实现思路
1、本发明的目的在于克服现有铝合金制品存在的耐腐蚀性差的问题，以及铝合金制品的层间结合力低导致的pvd层容易脱落的问题。提供一种铝合金制品及其制备方法与应用。相较于现有技术中的铝合金制品，本发明中的铝合金制品各层之间的层间结合力明显的提高，并且其耐腐蚀性能优异。
2、为了实现上述目的，本发明第一方面提供一种铝合金制品，其中，所述铝合金制品包括：铝合金基材和依次包覆于所述铝合金基材的表面的氧化层和装饰复合层，以及位于所述氧化层的微孔内和/或位于所述氧化层的表面的封孔物；所述装饰复合层由内至外依次包括打底层、过渡层和装饰层；其中，所述打底层的材质为金属氧化物。
3、本发明第二方面提供一种铝合金制品的制备方法，其中，该方法包括：
4、(1)将铝合金基材进行氧化处理，得到氧化处理件；
5、(2)将所述氧化处理件进行封孔处理，得到封孔件；
6、(3)将所述封孔件进行抛光处理，得到抛光封孔件；
7、(4)对所述抛光封孔件进行镀层，在所述抛光封孔件表面由内至外依次形成打底层、过渡层和装饰层。
8、本发明第三方面提供一种第二方面的方法制得的铝合金制品。
9、本发明第四方面提供一种第一方面或第三方面所述的铝合金制品在手机、手表、平板和笔记本中的应用。
10、通过上述技术方案，本发明提供的一种铝合金制品及其制备方法与应用获得以下有益的效果：
11、相较于现有技术中的铝合金制品，本发明中的铝合金制品各层之间的层间结合力明显的提高，并且其耐腐蚀性能优异。
12、本发明中通过对铝合金基材进行氧化处理，并配合封孔抛光处理，对抛光后的封孔件进行镀层，在抛光封孔件表面由内至外依次形成打底层、过渡层和装饰层。经封孔处理，能够有效减少封孔件上的微裂纹，避免后续镀pvd装饰膜后，装饰复合层与铝合金基材直接接触发生原电池腐蚀。本发明提供的铝合金制品的耐腐蚀和耐磨损性能优异，层间结合力强，致密性好。
1.一种铝合金制品，其特征在于，所述铝合金制品包括：铝合金基材和依次包覆于所述铝合金基材的表面的氧化层和装饰复合层，以及位于所述氧化层的微孔内和/或位于所述氧化层的表面的封孔物；所述装饰复合层由内至外依次包括打底层、过渡层和装饰层；
2.根据权利要求1所述的铝合金制品，其中，所述过渡层和所述装饰层的材质各自独立的选自金属单质、金属氧化物和碳氮化物中的至少一种。
3.根据权利要求1或2所述的铝合金制品，其中，所述打底层的材质选自氧化铝、氧化钛和氧化铌中的至少一种；
4.根据权利要求1-3中任意一项所述的铝合金制品，其中，所述装饰复合层的厚度为0.5-4μm；
5.根据权利要求1-4中任意一项所述的铝合金制品，其中，所述氧化层为普通阳极氧化层、硬质阳极氧化层和瓷质阳极氧化层中的一种；
6.根据权利要求1-5中任意一项所述的铝合金制品，所述氧化层的单位面积上所述封孔物的含量≥2wt％；
7.根据权利要求1-6中任意一项所述的铝合金制品，其中，所述铝合金制品还包括设置在所述装饰复合层的外表面上的防指纹保护层；
8.一种铝合金制品的制备方法，其特征在于，该方法包括：
9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述氧化处理件中氧化层的硬度为150-500hv；
10.根据权利要求8或9所述的方法，其中，所述氧化处理的方式为阳极氧化；
11.根据权利要求8-10中任意一项所述的方法，其中，所述封孔处理的条件包括：封孔处理使用的封孔剂的浓度为5-15g/l，封孔处理的温度为85-95℃，封孔处理的时间为20-60min。
12.根据权利要求8-11中任意一项所述的方法，其中，经所述抛光处理后，所述封孔件与所述抛光封孔件的厚度差为1-3μm；
13.根据权利要求8-12中任意一项所述的方法，其中，所述打底层、所述过渡层和所述装饰层的总厚度为0.5-4μm；
14.根据权利要求8-13中任意一项所述的方法，其中，进行所述镀层采用pvd处理工艺；
15.根据权利要求8-14中任意一项所述的方法，其中，所述铝合金基材的表面粗糙度为0.02-0.08μm；
16.根据权利要求8-15所述的方法，其中，所述方法还包括：对步骤(4)得到的产品进行喷覆处理；
17.一种权利要求8-16中任意一项所述的方法制得的铝合金制品。
18.权利要求1-7或权利要求17中任意一项所述的铝合金制品在手机、手表、平板和笔记本中的应用。