多弧及磁控复合溅射阴极的制作方法

本发明属于阴极溅射成膜领域，具体涉及多弧及磁控复合溅射阴极。

背景技术：

1、多弧溅射及磁控溅射在两种常用的物理气相沉积技术，有着广泛的生产应用。多弧溅射离化率高，附着力好，沉积速率快，但膜层表面较为粗造，而磁控溅射膜层更为细腻。实际生产中常常会有复合涂层同时会使用到多弧溅射及磁控溅射做不同的功能层(例如利用多弧附着力强来制备过渡层)。

2、目前多弧溅射膜层和磁控溅射膜层需要各自分开通过两套溅射阴极来单独成膜，导致设备成本高。

技术实现思路

1、本发明为解决上述技术问题，根据多弧阴极和磁控溅射阴极主要的区别就在于磁场设计、靶面磁场的强弱这一原理，提供了多弧及磁控复合溅射阴极。

2、本发明为实现其技术效果而采用的解决方案为：

3、多弧及磁控复合溅射阴极，包括安装架、升降装置、阴极磁板和靶面板；所述升降装置包括安装板、联轴器、升降轴和升降头；所述安装板设置在所述安装架的底部；所述联轴器设置在所述安装板的底部；所述升降轴与所述联轴器传动连接；所述升降头螺纹传动设置在所述升降轴的顶部；所述阴极磁板活动设置在所述安装架的顶部，并且所述阴极磁板安装在所述升降头的顶部；所述靶面板架设在所述安装架的顶部，并且所述靶面板位于所述阴极磁板的上方。

4、优选地，所述升降头包括轴套和升降块；所述轴套转动设置在所述升降轴的顶部；所述升降块螺纹传动设置在所述轴套内，并且所述升降块的顶部设置在所述阴极磁板的底部。

5、优选地，多弧及磁控复合溅射阴极还包括有溅射装置；所述溅射装置包括溅射接头、多弧溅射电源和磁控溅射电源；所述溅射接头设置在所述阴极磁板上；所述多弧溅射电源的输出端和磁控溅射电源的输出端分别与所述溅射接头的输入端电性连接。

6、优选地，所述溅射装置还包括有切换开关；所述切换开关的输入端分别与所述多弧溅射电源的输出端以及磁控溅射电源的输出端电性连接；所述切换开关的输出端与所述溅射接头的输入端电性连接。

7、优选地，所述安装架顶部设置有安装孔；所述靶面板外侧设置有支撑架；所述支撑架底部设置有定位柱；所述定位柱滑动插设在所述安装孔内。

8、本发明的有益效果为：设置有升降装置，可以通过升降装置调节阴极磁铁到靶面的距离，从而调节靶面磁场的强弱，可以在一个阴极靶上依次实现多弧溅射成膜及磁控溅射成膜的工艺，节约了设备使用的数量，从而降低了生产成本，并且膜片的生产更加灵活。

技术特征：

1.多弧及磁控复合溅射阴极，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的多弧及磁控复合溅射阴极，其特征在于：所述升降头包括轴套和升降块；所述轴套转动设置在所述升降轴的顶部；所述升降块螺纹传动设置在所述轴套内，并且所述升降块的顶部设置在所述阴极磁板的底部。

3.根据权利要求1所述的多弧及磁控复合溅射阴极，其特征在于：还包括有溅射装置；所述溅射装置包括溅射接头、多弧溅射电源和磁控溅射电源；所述溅射接头设置在所述阴极磁板上；所述多弧溅射电源的输出端和磁控溅射电源的输出端分别与所述溅射接头的输入端电性连接。

4.根据权利要求3所述的多弧及磁控复合溅射阴极，其特征在于：所述溅射装置还包括有切换开关；所述切换开关的输入端分别与所述多弧溅射电源的输出端以及磁控溅射电源的输出端电性连接；所述切换开关的输出端与所述溅射接头的输入端电性连接。

5.根据权利要求1所述的多弧及磁控复合溅射阴极，其特征在于：所述安装架顶部设置有安装孔；所述靶面板外侧设置有支撑架；所述支撑架底部设置有定位柱；所述定位柱滑动插设在所述安装孔内。

技术总结
本发明公开了本发明优选实施例中公开了多弧及磁控复合溅射阴极，包括安装架、升降装置、阴极磁板和靶面板；所述升降装置包括安装板、联轴器、升降轴和升降头；所述安装板设置在所述安装架的底部；所述联轴器设置在所述安装板的底部；所述升降轴与所述联轴器传动连接；所述升降头螺纹传动设置在所述升降轴的顶部；所述阴极磁板活动设置在所述安装架的顶部，并且所述阴极磁板安装在所述升降头的顶部；所述靶面板架设在所述安装架的顶部，并且所述靶面板位于所述阴极磁板的上方。本发明通过调节阴极磁铁到靶面的距离，可以在一个阴极靶上实现多弧溅射及磁控溅射的工艺。

技术研发人员：李细柳,杨江
受保护的技术使用者：东莞市科盛机电设备有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/12