一种用于真空化学气相沉积炉的配气装置的制作方法

文档序号:31172478发布日期:2022-08-17 09:38阅读:45来源:国知局
一种用于真空化学气相沉积炉的配气装置的制作方法

1.本实用新型涉及气相沉积炉技术领域,具体为一种用于真空化学气相沉积炉的配气装置。


背景技术:

2.伴随着石墨材料应用市场的越来越高端化,由化学气相沉积/渗透方法 (cvd/cvi)得到的石墨表面改性产品,如热解炭涂层石墨、碳化硅涂层石墨、碳化钽涂层石墨等因其优异的物理化学性能,加强了石墨材料本身的性能,更主要的是弥补了石墨材料本身存在的缺陷,因此备受高端市场的青睐,大大提升了产品的附加值。
3.利用化学气相沉积/渗透方法(cvd/cvi)对炭/炭复合材料进行致密处理,可以使其结构更加致密均匀,提高密度,材料性能稳定,生产的热解炭结构可控,因此针对高端领域、高端产品的致密处理还是以化学气相沉积为主。
4.化学气相沉积涂层/致密的均匀性是影响产品质量的关键指标之一,要保证产品涂层/致密的均匀性,真空化学气象沉积炉内沉积区的气氛均匀性是主要影响因素,因此工艺气体配气装置的设计合理性至关重要,供气结构布局的不足,不仅影响工艺过程的稳定性,还最严重影响产品品质。
5.目前沉积炉在进气时,气体会直接进入入炉反应,这样不仅会使炉内温度下降影响工艺的稳定性,而且气体温度较低会直接从炉内排出,造成反应气体的浪费。


技术实现要素:

6.本实用新型就是针对现有技术存在的上述不足,提供一种用于真空化学气相沉积炉的配气装置,气体经过配气装置实现了温度的提升,提高了气体利用率,确保了真空化学气相沉积炉内沉积区的气体均匀性和化学气相沉积工艺的稳定性,提高了化学气相沉积产品的质量。
7.为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
8.一种用于真空化学气相沉积炉的配气装置,包括进气管,所述进气管包括上进气管和下进气管,所述上进气管和下进气管之间通过配气盒连接,多根上进气管的上端通过载板固定,所述载板上设有与上进气管连通的预热腔。
9.优选的,所述载板的上端设有安装槽,所述安装槽内设有预热筒,所述上进气管的上端位于预热筒内,预热筒的上端设有气体扩散板,气体扩散板上均匀设有气孔,预热筒与气体扩散板组成预热腔。
10.优选的,所述预热筒与安装槽的底部之间设有石墨纸环,所述石墨纸环套在上进气管的外部。
11.优选的,所述上进气管的外侧设有与载板连接的密封环。
12.优选的,所述下进气管的下端设有进气管座,所述进气管座的进气口内设有密封圈。
13.优选的,所述配气盒下端设有支撑板,支撑板与载板之间连接有支撑柱,所述配气盒的侧壁上连接有导气管,所述导气管通过导气座与上进气管连接,所述导气座与支撑板固定。
14.优选的,所述下进气管的上端设有气体扩散帽,所述气体扩散帽的侧壁上均匀设有出气口。
15.与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
16.1、本实用新型气体经过配气装置实现了温度的提升,提高了气体利用率,确保了真空化学气相沉积炉内沉积区的气体均匀性和化学气相沉积工艺的稳定性,提高了化学气相沉积产品的质量。
17.2、本实用新型各部件之间密封良好,确保气体不会进入沉积区以外的区域,保证炉内洁净及设备安全使用。
18.3、本实用新型的预热筒采用可拆卸结构,底部设置了石墨纸环,不仅增加预热筒与载板之间的密封性,而且提高了清理沉降物的便利性。
附图说明
19.图1为本实用新型的立体结构示意图;
20.图2为本实用新型的主视图;
21.图3为本实用新型的剖视图;
22.图4为气体扩散帽的结构示意图。
23.图中:1-载板;101-气体扩散板;102-气孔;103-安装槽;104-预热筒; 105-石墨纸环;2-支撑板;3-配气盒;301-进气管座;302-下进气管;303-气体扩散帽;304-密封圈;305-导气管;306-导气座;307-上进气管;308-密封环;309-出气口;4-支撑柱。
具体实施方式
24.下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
25.如图1-2所示,一种用于真空化学气相沉积炉的配气装置,包括进气管,进气管包括上进气管307和下进气管302,上进气管307和下进气管302之间通过配气盒3连接,下进气管302为总的进气管,气体进入配气盒3以后均匀分配到多根上进气管307内,多根上进气管307的上端通过载板1固定,在载板1上设有与上进气管307连通的预热腔,气体经过预热腔预热以后再进入炉内反应。
26.为了形成预热腔,如图3所示,在载板1的上端设有安装槽103,安装槽 103内设有预热筒104,上进气管307的上端位于预热筒104内,预热筒104 的上端设有气体扩散板101,气体扩散板101上均匀设有气孔102,预热筒104 与气体扩散板101组成预热腔。
27.为了方便清理沉降物,预热筒104直接放置在安装槽103内,能够取下,在预热筒104与安装槽103的底部之间设有石墨纸环105,提高密封性,石墨纸环105套在上进气管307的外部,取下预热筒104,更换石墨纸环105即可。
28.在上进气管307的外侧设有与载板1连接的密封环308,实现上进气管307 和载板1之间的密封。
29.为了方便供气系统与下进气管302连接,在下进气管302的下端设有进气管座301,而且在进气管座301的进气口内设有密封圈304,确保连接时的密封性。
30.配气盒3的下端设有支撑板2,支撑板2与载板1之间连接有支撑柱4,配气盒的侧壁上连接有导气管305,导气管305通过导气座306与上进气管307 连接,所述导气座306与支撑板2固定,通过导气管305转向后再与上进气管 307连接,从而缩小了配气盒3的尺寸,节省了成本。
31.为了进一步提高气体的均匀性,在下进气管302的上端设有气体扩散帽 303,如图4所示,气体扩散帽303的侧壁上均匀设有出气口309。
32.气体从下进气管302进入配气盒3以后,被气体扩散帽303分散降速,降速分散的工艺气体均匀的分布于配气盒3中,此时气体在配气盒3内会被初次加热升温,气体通过导气管305、上进气管307进入到预热腔内,在预热筒104 内,气体会进一步被加热升温,以达到气相沉积需要的初步温度,气体经气体扩散板101均匀的进入到位于化学气相沉积炉壳内的沉积室,进行化学气相沉积反应。
33.显然,本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样,倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内,则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。


技术特征:
1.一种用于真空化学气相沉积炉的配气装置,包括进气管,其特征在于:所述进气管包括上进气管和下进气管,所述上进气管和下进气管之间通过配气盒连接,多根上进气管的上端通过载板固定,所述载板上设有与上进气管连通的预热腔。2.如权利要求1所述的一种用于真空化学气相沉积炉的配气装置,其特征在于:所述载板的上端设有安装槽,所述安装槽内设有预热筒,所述上进气管的上端位于预热筒内,预热筒的上端设有气体扩散板,气体扩散板上均匀设有气孔,预热筒与气体扩散板组成预热腔。3.如权利要求2所述的一种用于真空化学气相沉积炉的配气装置,其特征在于:所述预热筒与安装槽的底部之间设有石墨纸环,所述石墨纸环套在上进气管的外部。4.如权利要求2所述的一种用于真空化学气相沉积炉的配气装置,其特征在于:所述上进气管的外侧设有与载板连接的密封环。5.如权利要求1所述的一种用于真空化学气相沉积炉的配气装置,其特征在于:所述下进气管的下端设有进气管座,所述进气管座的进气口内设有密封圈。6.如权利要求2所述的一种用于真空化学气相沉积炉的配气装置,其特征在于:所述配气盒下端设有支撑板,支撑板与载板之间连接有支撑柱,所述配气盒的侧壁上连接有导气管,所述导气管通过导气座与上进气管连接,所述导气座与支撑板固定。7.如权利要求1所述的一种用于真空化学气相沉积炉的配气装置,其特征在于:所述下进气管的上端设有气体扩散帽,所述气体扩散帽的侧壁上均匀设有出气口。

技术总结
本实用新型公开了一种用于真空化学气相沉积炉的配气装置,包括进气管,所述进气管包括上进气管和下进气管,所述上进气管和下进气管之间通过配气盒连接,多根上进气管的上端通过载板固定,所述载板上设有与上进气管连通的预热腔。气体经过配气装置实现了温度的提升,提高了气体利用率,确保了真空化学气相沉积炉内沉积区的气体均匀性和化学气相沉积工艺的稳定性,提高了化学气相沉积产品的质量。提高了化学气相沉积产品的质量。提高了化学气相沉积产品的质量。


技术研发人员:薛雁凯 王吉祥 吕雷英
受保护的技术使用者:山东伟基炭科技有限公司
技术研发日:2022.03.18
技术公布日:2022/8/16
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1