一种具有清洗功能的玉石抛光装置的制作方法

1.本实用新型涉及玉石抛光领域，特别是涉及一种具有清洗功能的玉石抛光装置。


背景技术：

2.玉石抛光是玉石加工的一项重要的过程，可以提高玉石表面的光滑程度。
3.在进行玉石抛光的时候，需要使用到打磨装置，然而，目前的抛光过程需要操作者手持抛光装置，在抛光过程中会产生废屑，从而影响环境整洁，同时，在抛光时候，需要另一只手手持清洗装置，对玉石进行清洗。


技术实现要素：

4.本实用新型所要解决的技术问题是。
5.为解决上述技术问题，本实用新型采用的一个技术方案是：提供一种具有清洗功能的玉石抛光装置，包括抛光打磨转盘和上部防护罩，所述抛光打磨转盘转动设置在上部防护罩的内部，所述抛光打磨转盘的上侧设置有连接机构，所述连接机构的下端转动设置有环绕清洗机构，所述上部防护罩的下端设置有混合物收集部；
6.所述连接机构包括连接板，所述环绕清洗机构转动设置在连接板的下端；
7.所述环绕清洗机构包括储水箱和水管，所述水管连接在储水箱的下端与抛光打磨转盘的上侧位置处。
8.通过上述技术方案，储水箱内的水从水管内流出，对正在打磨的玉石进行清洗。
9.本实用新型进一步设置为：所述水管的出水端设置有水阀。
10.通过上述技术方案，水阀可以控制水管的出水量。
11.本实用新型进一步设置为：所述上部防护罩的内部设置有支撑台，所述支撑台的上端固定设置有第一电机，所述抛光打磨转盘的下端连接在第一电机的输出端上。
12.通过上述技术方案，第一电机驱动抛光打磨转盘旋转，进行玉石抛光。
13.本实用新型进一步设置为：所述上部防护罩的侧端竖直设置有竖直板，所述竖直板的上端与连接板的下端固定连接。
14.通过上述技术方案，竖直板和连接板对下端的装置进行支撑。
15.本实用新型进一步设置为：所述连接板的下端设置有第二电机，所述储水箱的上端连接在第二电机的输出端上。
16.通过上述技术方案，第二电机带动储水箱旋转，进行环绕喷水。
17.本实用新型进一步设置为：所述上部防护罩的表面竖直贯穿设置有混合物漏孔，所述上部防护罩的下表面开设有凹槽。
18.通过上述技术方案，上部防护罩内的混合物漏孔可以漏下水和杂屑。
19.本实用新型的有益效果如下：
20.1. 本实用新型通过设置了一个可以旋转的储水箱和水管，使得可以对正在抛光打磨转盘上打磨的玉石进行环绕式的清洗，使得清洗时无需操作者手持清洗设备；
21.2. 本实用新型通过在上部防护罩底端设置了混合物漏孔，可以漏下打磨时候的污水和废屑，无需再手动的清理，减小了操作者的劳动强度，保持了环境清洁。
附图说明
22.图1为一种具有清洗功能的玉石抛光装置的结构示意图；
23.图2为一种具有清洗功能的玉石抛光装置中竖直板的结构示意图；
24.图3为一种具有清洗功能的玉石抛光装置中混合物收集桶的结构示意图。
25.图中：1、抛光打磨转盘；2、上部防护罩；3、储水箱；4、水管；5、水阀；6、支撑台；7、第一电机；8、连接板；9、第二电机；10、混合物收集桶；11、混合物漏孔；12、凹槽；13、竖直板。
具体实施方式
26.下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。
27.请参阅图1-图3，一种具有清洗功能的玉石抛光装置，包括抛光打磨转盘1和上部防护罩2，抛光打磨转盘1转动设置在上部防护罩2的内部，抛光打磨转盘1的上侧设置有连接机构，连接机构的下端转动设置有环绕清洗机构，上部防护罩2的下端设置有混合物收集部,抛光打磨转盘1在转动的时候可以将玉石进行打磨，在进行打磨的时候，会产生一些碎屑粉末，由于设置了上部防护罩2，上部防护罩2可以将碎屑粉末进行遮挡，防止将操作的屋内弄脏，环绕清洗机构用于对玉石进行清洗，混合物收集部用于将水和粉末进行收集。
28.参阅图2，连接机构包括连接板8，环绕清洗机构转动设置在连接板8的下端，环绕清洗机构包括储水箱3和水管4，水管4连接在储水箱3的下端与抛光打磨转盘1的上侧位置处，水管4的出水端设置有水阀5，上部防护罩2的内部设置有支撑台6，支撑台6的上端固定设置有第一电机7，抛光打磨转盘1的下端连接在第一电机7的输出端上，上部防护罩2的侧端竖直设置有竖直板13，竖直板13的上端与连接板8的下端固定连接，连接板8的下端设置有第二电机9，储水箱3的上端连接在第二电机9的输出端上，当第一电机7驱动抛光打磨转盘1转动的时候，操作者可以将玉石在抛光打磨转盘1上进行精细打磨，在储水箱3的内部储存有大量的水，通过调节水阀5，可以调节出水量对玉石进行清洗，第二电机9可以带动储水箱3旋转，从而使得该装置实现了多角度的清洗，无需操作人员手动的一边打磨一边手持清洗装置进行清洗。
29.参阅图3，上部防护罩2的表面竖直贯穿设置有混合物漏孔11，上部防护罩2的下表面开设有凹槽12，由于在上部防护罩2的表面设置了混合物漏孔11，在清洗过程中产生的废水，以及打磨过程中产生的废屑，可以从混合物漏孔11内漏下去，漏入到下端的混合物收集桶10内部，从而使得该装置具有收集污水的功能，从而保持了操作环境的干净整洁，在上部防护罩2下端的凹槽12，可以使得上部防护罩2直接卡在混合物收集桶10的上端。
30.本实用新型在使用时，调节水阀5，可以调节出水量对玉石进行清洗，第二电机9可以带动储水箱3旋转，从而使得该装置实现了多角度的清洗，无需操作人员手动的一边打磨一边手持清洗装置进行清洗，在清洗过程中产生的废水，以及打磨过程中产生的废屑，可以从混合物漏孔11内漏下去。
31.以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。


技术特征：
1.一种具有清洗功能的玉石抛光装置，其特征在于：包括抛光打磨转盘(1)和上部防护罩(2)，所述抛光打磨转盘(1)转动设置在上部防护罩(2)的内部，所述抛光打磨转盘(1)的上侧设置有连接机构，所述连接机构的下端转动设置有环绕清洗机构，所述上部防护罩(2)的下端设置有混合物收集部；所述连接机构包括连接板(8)，所述环绕清洗机构转动设置在连接板(8)的下端；所述环绕清洗机构包括储水箱(3)和水管(4)，所述水管(4)连接在储水箱(3)的下端与抛光打磨转盘(1)的上侧位置处；所述混合物收集部包括混合物收集桶(10)，所述混合物收集桶(10)设置在上部防护罩(2)的下端。2.根据权利要求1所述的一种具有清洗功能的玉石抛光装置，其特征在于：所述水管(4)的出水端设置有水阀(5)。3.根据权利要求1所述的一种具有清洗功能的玉石抛光装置，其特征在于：所述上部防护罩(2)的内部设置有支撑台(6)，所述支撑台(6)的上端固定设置有第一电机(7)，所述抛光打磨转盘(1)的下端连接在第一电机(7)的输出端上。4.根据权利要求1所述的一种具有清洗功能的玉石抛光装置，其特征在于：所述上部防护罩(2)的侧端竖直设置有竖直板(13)，所述竖直板(13)的上端与连接板(8)的下端固定连接。5.根据权利要求1所述的一种具有清洗功能的玉石抛光装置，其特征在于：所述连接板(8)的下端设置有第二电机(9)，所述储水箱(3)的上端连接在第二电机(9)的输出端上。6.根据权利要求1所述的一种具有清洗功能的玉石抛光装置，其特征在于：所述上部防护罩(2)的表面竖直贯穿设置有混合物漏孔(11)，所述上部防护罩(2)的下表面开设有凹槽(12)。

技术总结
本实用新型公开了一种具有清洗功能的玉石抛光装置，包括抛光打磨转盘和上部防护罩，抛光打磨转盘转动设置在上部防护罩的内部，抛光打磨转盘的上侧设置有连接机构，连接机构的下端转动设置有环绕清洗机构，上部防护罩的下端设置有混合物收集部，连接机构包括连接板，环绕清洗机构转动设置在连接板的下端。本实用新型通过调节水阀，可以调节出水量对玉石进行清洗，第二电机可以带动储水箱旋转，从而使得该装置实现了多角度的清洗，无需操作人员手动的一边打磨一边手持清洗装置进行清洗，在清洗过程中产生的废水，以及打磨过程中产生的废屑，可以从混合物漏孔内漏下去。可以从混合物漏孔内漏下去。可以从混合物漏孔内漏下去。


技术研发人员：郭志鹏 胡凡
受保护的技术使用者：郭志鹏
技术研发日：2022.07.06
技术公布日：2022/12/13