一种间隔上料的晶圆片抛光装置的制作方法

1.本实用新型涉及一种抛光装置，尤其涉及一种间隔上料的晶圆片抛光装置。


背景技术：

2.晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片，由于其形状为圆形，故称为晶圆，在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构，由于晶圆的使用范围广，晶圆片成为有特定电性功能的集成电路产品，在晶圆片的制作成型步骤中，最后一步是采用化学机械的抛光工艺，使得晶圆片的一面光滑如镜，目前大部分对晶圆片进行抛光的方式都是工作人员，一个一个将晶圆片放在抛光机下，将晶圆片对准抛光片，启动抛光机对晶圆片进行抛光，这样的抛光方式，耗费大量的人力，工作效率低。
3.因此很有必要研发一种能够不间断对晶圆体进行抛光，无需人工对准的间隔上料的晶圆片抛光装置。


技术实现要素：

4.本实用新型为了克服现有技术中需要人工将晶圆片和抛光片进行对准，工作效率低的缺点，本实用新型要解决的技术问题是提供一种能够不间断对晶圆体进行抛光，无需人工对准的间隔上料的晶圆片抛光装置。
5.为了解决上述技术问题，本实用新型提供了这样一种间隔上料的晶圆片抛光装置，包括有底座、转板、支架、电机、抛光片和限位机构，底座上转动式连接有转板，转板上开有放料槽，转板的中心位置上固接有支架，支架上连接有电机，电机的输出轴上通过键连接有抛光片，底座和转板之间连接有限位机构。
6.优选地，限位机构包括有滑杆、弧形板、弹簧和固定杆，底座上滑动式连接有滑杆，两个滑杆为一组，每组滑杆的位置与放料槽的位置相对应，滑杆上固接有弧形板，弧形板的和底座之间连接有弹簧，转板底部连接有均匀间隔固定杆，固定杆与弧形板配合固定转板。
7.优选地，还包括有限位块，每个放料槽外围固接有限位块。
8.优选地，转板上开有至少两个放料槽。
9.优选地，限位块为贴合晶圆片的弧形。
10.优选地，每个放料槽外围的限位块至少为两块。
11.本实用新型通过设置的转板，可以不间断的对晶圆片进行抛光，工作效率高，固定杆和弧形板能够对转板进行限位，使得抛光片在对晶圆片进行抛光时，晶圆片固定，保证抛光效果，同时在转板上对不同位置的晶圆片进行抛光时，无需人工将晶圆片和抛光片进行对准，限位块可以对工作的抛光片进行限位，进一步保证抛光效果。
附图说明
12.图1为本实用新型的立体结构示意图。
13.图2为本实用新型底座、转板和放料槽等的立体结构示意图。
14.图3为本实用新型弧形板、弹簧和固定杆等的立体剖视结构示意图。
15.图4为本实用新型的a处放大图。
16.附图中的标记为：1-底座，2-转板，3-放料槽，4-限位块，5-支架，6-电机，7-抛光片，8-滑杆，9-弧形板，10-弹簧，11-固定杆。
具体实施方式
17.下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的说明。
18.实施例1
19.一种间隔上料的晶圆片抛光装置，如图1-图4所示，包括有底座1、转板2、支架5、电机6、抛光片7和限位机构，底座1上转动式连接有转板2，转板2上开有放料槽3，转板2上开有四个放料槽3，放料槽3用于放置需要打磨的晶圆片，转板2的中心位置上通过螺栓连接有支架5，支架5上连接有电机6，电机6的输出轴上通过键连接有抛光片7，底座1和转板2之间连接有限位机构。
20.如图4所示，限位机构包括有滑杆8、弧形板9、弹簧10和固定杆11，底座1上滑动式连接有滑杆8，两个滑杆8为一组，每组滑杆8的位置与放料槽3的位置相对应，滑杆8上固接有弧形板9，弧形板9的和底座1之间连接有弹簧10，转板2底部连接有均匀间隔固定杆11，固定杆11与弧形板9配合固定转板2。
21.当需要使用本装置对单晶圆片进行抛光时，将需要进行抛光的晶圆片放置在放置槽上，将晶圆片放置完成后，将需要抛光的晶圆片对准抛光片7，启动电机6，带动抛光片7转动，对晶圆片表面进行抛光，当一个晶圆片抛光完成后，手动转动转板2，使得下一个放料槽3内的晶圆片对准抛光片7进行抛光，此时可以将抛光完成的晶圆片取下，放入新的需要抛光的晶圆片，如此抛光片7可以不间断的对晶圆片进行抛光，工作效率高，固定杆11和弧形板9可以对转板2进行限位，确保抛光片7在对晶圆片进行抛光时，转板2不会转动，晶圆片保持固定，当需要移动转板2时，手动转动转板2，弹簧10压缩，滑杆8向内移动，弧形板9解除对固定杆11的限制，当固定杆11移动至下一组滑杆8之间时，弹簧10压缩，松开转动转板2的手，在弹簧10的复位作用下，弧形板9将固定杆11卡住，进而将转板2固定，在固定转板2的同时，放料槽3上的晶圆片刚好转动至抛光片7下面，如此无需人工将晶圆片和抛光片7进行对准。
22.实施例2
23.在实施例1的基础之上，如图3所示，还包括有限位块4，每个放料槽3外围固接有限位块4，限位块4为贴合晶圆片的弧形，每个放料槽3外围的限位块4至少为两块。
24.通过设置的限位块4，可以对工作的抛光片7进行限位，对晶圆片的固定的位置进行打磨，保证晶圆片的抛光效果。
25.以上所述实施例仅表达了本实用新型的优选实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形、改进及替代，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。


技术特征：
1.一种间隔上料的晶圆片抛光装置，包括有支架(5)、电机(6)和抛光片(7)，支架(5)上连接有电机(6)，电机(6)的输出轴上通过键连接有抛光片(7)，其特征在于，还包括有底座(1)、转板(2)和限位机构，底座(1)上转动式连接有转板(2)，转板(2)上开有放料槽(3)，转板(2)的中心位置上固接有支架(5)，底座(1)和转板(2)之间连接有限位机构。2.根据权利要求1所述的一种间隔上料的晶圆片抛光装置，其特征在于，限位机构包括有滑杆(8)、弧形板(9)、弹簧(10)和固定杆(11)，底座(1)上滑动式连接有滑杆(8)，两个滑杆(8)为一组，每组滑杆(8)的位置与放料槽(3)的位置相对应，滑杆(8)上固接有弧形板(9)，弧形板(9)的和底座(1)之间连接有弹簧(10)，转板(2)底部连接有均匀间隔固定杆(11)，固定杆(11)与弧形板(9)配合固定转板(2)。3.根据权利要求2所述的一种间隔上料的晶圆片抛光装置，其特征在于，还包括有限位块(4)，每个放料槽(3)外围固接有限位块(4)。4.根据权利要求3所述的一种间隔上料的晶圆片抛光装置，其特征在于，转板(2)上开有至少两个放料槽(3)。5.根据权利要求4所述的一种间隔上料的晶圆片抛光装置，其特征在于，限位块(4)为贴合晶圆片的弧形。6.根据权利要求5所述的一种间隔上料的晶圆片抛光装置，其特征在于，每个放料槽(3)外围的限位块(4)至少为两块。

技术总结
本实用新型涉及一种抛光装置，尤其涉及一种间隔上料的晶圆片抛光装置。本实用新型要解决的技术问题是提供一种能够不间断对晶圆体进行抛光，无需人工对准的间隔上料的晶圆片抛光装置。一种间隔上料的晶圆片抛光装置，包括有底座、转板和支架等；底座上转动式连接有转板，转板上开有放料槽，转板的中心位置上固接有支架。本实用新型通过设置的转板，可以不间断的对晶圆片进行抛光，工作效率高，固定杆和弧形板能够对转板进行限位，使得抛光片在对晶圆片进行抛光时，晶圆片固定，保证抛光效果，同时在转板上对不同位置的晶圆片进行抛光时，无需人工将晶圆片和抛光片进行对准。需人工将晶圆片和抛光片进行对准。需人工将晶圆片和抛光片进行对准。


技术研发人员：吴智强
受保护的技术使用者：吴智强
技术研发日：2022.10.04
技术公布日：2023/3/13