一种减薄机用清洗机构的制作方法

文档序号:34632175发布日期:2023-06-29 15:02阅读:40来源:国知局
一种减薄机用清洗机构的制作方法

本技术涉及晶圆清洗,更具体地说,涉及一种减薄机用清洗机构。


背景技术:

1、晶圆减薄,是在制作集成电路中对晶圆减少厚度,晶圆的制造工艺通常包括光刻、离子注入、刻蚀、热处理、气相沉积、减薄、划片等诸多工序。在进行相关工序之后,例如对晶圆进行减薄之后,需要对晶圆进行清洗,以去除晶圆表面上的杂质;同时对承载晶圆的台面进行清洗抛光。若对晶圆清洗不充分,使得晶圆表面残留杂质,则在下一工序中,就可能损坏晶圆,导致晶圆报废;若对台面清洗不充分,台面表面残留的杂质会损坏下一片减薄的晶圆。

2、所以,本申请提出一种减薄机用清洗机构,来改善上述存在的不足,以保证对晶圆和台面进行充分有效地清洗。


技术实现思路

1、为了解决上述问题,本申请提供一种减薄机用清洗机构。

2、本申请提供的一种减薄机用清洗机构采用如下的技术方案:

3、一种减薄机用清洗机构,包括:

4、固定板,所述固定板上活动设置有移动板;

5、清洗装置与抛光装置,所述清洗装置与所述抛光装置上均包括安装框架并通过所述安装框架活动设置在所述移动板上。

6、通过上述技术方案,清洗装置与抛光装置通过移动板和固定板多个活动项的设置,能够从多个方位对晶圆和台面进行清洗,以保证两者的清洁。

7、进一步的,所述固定板上设置有横向气缸,所述气缸为磁偶式无杆气缸,所述移动板通过所述横向气缸与所述固定板活动连接。

8、通过上述技术方案,横向气缸能够带动移动板实现横向移动,从而带动清洗装置与抛光装置反复移动从多个方位对晶圆和台面进行清洗,且磁偶式无杆气缸占用空间小,尤其是其没有动密封件无外部泄露,能够尽可能减少清洗环节出现杂物的可能。

9、进一步的,所述移动板上对称固定设置有纵向气缸,所述清洗装置与所述抛光装置均通过所述安装框架与所述纵向气缸的活动块固定连接。

10、通过上述技术方案,纵向气缸的设置能够使清洗装置与抛光装置实现纵向的活动方向,针对不同厚度的晶圆和台面进行清洗,同时便于放置晶圆。

11、进一步的,所述清洗装置与所述抛光装置内均设置有旋转电机与转轴,所述旋转电机的输出轴连接有减速器,所述减速器的底部连接有联轴器,所述联轴器与所述转轴固定连接。

12、通过上述技术方案,将电机、减速器、联轴器均设置在安装框架内避免走线妨碍清洗,设置减速器能够有效地对转轴的转速进行控制,进而针对性地对晶圆和台面进行清洗,使清洗工序更加科学合理;联轴器能够有效地减少旋转电机所产生的振动,以保证清洗效果。

13、进一步的,所述清洗装置上的所述转轴底部固定连接有毛刷,所述抛光装置上的所述转轴底部固定连接有油石。

14、通过上述技术方案,毛刷的设置能够对晶圆表面进行清洗,油石可以对台面进行打磨抛光,以保证晶圆和台面的清洗效果。

15、进一步的,所述安装框架的底部固定设置有防护罩。

16、通过上述技术方案,防护罩的设置能够避免外界有物体阻碍清洗流程,同时避免清洗过程中产生的杂物四处飞溅不便于清理。

17、综上所述,本申请包括以下至少一个有益技术效果:

18、(1)为了保证对晶圆和台面的清洗效果,清洗装置与抛光装置通过移动板和固定板多个活动项的设置,能够从多个方位对晶圆和台面进行清洗,以保证清洗效果;

19、(2)为了进一步保证清洗效果,分别设置清洗装置与抛光装置,对晶圆进行清洗,对台面进行抛光打磨,以保证清洗效果。



技术特征:

1.一种减薄机用清洗机构,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的一种减薄机用清洗机构,其特征在于:所述固定板(1)上设置有横向气缸(6),所述气缸为磁偶式无杆气缸,所述移动板(2)通过所述横向气缸(6)与所述固定板(1)活动连接。

3.根据权利要求1所述的一种减薄机用清洗机构,其特征在于:所述移动板(2)上对称固定设置有纵向气缸(7),所述清洗装置(3)与所述抛光装置(4)均通过所述安装框架(5)与所述纵向气缸(7)的活动块固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种减薄机用清洗机构,其特征在于:所述清洗装置(3)与所述抛光装置(4)内均设置有旋转电机(8)与转轴(9),所述旋转电机(8)的输出轴连接有减速器(10),所述减速器(10)的底部连接有联轴器(11),所述联轴器(11)与所述转轴(9)固定连接。

5.根据权利要求4所述的一种减薄机用清洗机构,其特征在于:所述清洗装置(3)上的所述转轴(9)底部固定连接有毛刷(12),所述抛光装置(4)上的所述转轴(9)底部固定连接有油石(13)。

6.根据权利要求1所述的一种减薄机用清洗机构,其特征在于:所述安装框架(5)的底部固定设置有防护罩(14)。


技术总结
本技术属于晶圆减薄技术领域,公开了一种减薄机用清洗机构,固定板,固定板上活动设置有移动板;清洗装置与抛光装置,清洗装置与抛光装置上均包括安装框架并通过安装框架活动设置在移动板上;为了保证对晶圆以及台面的清洗效果,清洗装置与抛光装置通过移动板和固定板多个活动项的设置,能够从多个方位对晶圆和台面进行清洗,以保证清洗效果;同时分别设置清洗装置与抛光装置,对晶圆进行清洗以及对台面进行抛光打磨,以保证台面和晶圆的清洁;本申请结构巧妙,不仅能够有效地对晶圆进行清洗,还能对台面进行清洗,双清洗设备的设置能够能大大提高减薄机生产效率,保证产品质量。

技术研发人员:胡丽君,彭名君
受保护的技术使用者:海南千鼎信息科技有限公司
技术研发日:20221228
技术公布日:2024/1/12
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