本技术涉及抛光机的游星轮的,具体涉及一种6寸晶片双面抛光游星轮。
背景技术:
1、大型抛光机台是半导体行业的新型设备,主要针对于6寸及以上尺寸晶片的大批量生产,按照传统设计理念设计出的6寸晶片的游星轮,晶片加工过程中抛光药液利用率低,影响晶片的平整度、成品率以及生产效率;目前,行业内并没有与大型抛光机台完全相匹配的6寸晶片游星轮。
技术实现思路
1、为了解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案:
2、一种6寸晶片双面抛光游星轮,包括本体,所述本体外周设置有若干齿轮;所述本体上开设有均匀分布的若干晶片孔和若干第一通孔,其中,所述晶片孔和所述第一通孔位依次交替设置。
3、进一步地,所述晶片孔的直径大于所述第一通孔的直径。
4、进一步地,若干所述晶片孔的圆心所在的分度圆直径小于若干所述第一通孔的圆心所在的分度圆直径。
5、进一步地,若干所述晶片孔的圆心所在的分度圆、若干所述第一通孔的圆心所在的分度圆与所述本体同心。
6、进一步地,所述晶片孔为6个,6个所述晶片孔均匀分布在所述本体上。
7、进一步地,所述晶片孔的直径为150.3mm。
8、进一步地,所述第一通孔为6个,6个所述第一通孔均匀分布在所述本体上。
9、进一步地,所述本体的圆心处设置有一第二通孔。
10、进一步地,所述第一通孔的直径为40mm,所述第二通孔的直径为80mm。
11、有益效果:
12、此外,本实用新型设计了一种6寸晶片双面抛光游星轮,专门为6寸晶片而设计,在同样的掉量速率情况下,6寸新型游星轮的生产效率提高了1.5倍。
1.一种6寸晶片双面抛光游星轮,包括本体,所述本体外周设置有若干齿轮;所述本体上开设有均匀分布的若干晶片孔和若干第一通孔,其中,所述晶片孔和所述第一通孔位依次交替设置;
2.如权利要求1所述的一种6寸晶片双面抛光游星轮,其特征在于,所述第一通孔为6个,6个所述第一通孔均匀分布在所述本体上。
3.如权利要求2所述的一种6寸晶片双面抛光游星轮,其特征在于,所述本体的圆心处设置有一第二通孔。
4.如权利要求3所述的一种6寸晶片双面抛光游星轮,其特征在于,所述第一通孔的直径为40mm,所述第二通孔的直径为80mm。