驱动装置及化学气相沉积设备的制作方法

本技术涉及半导体晶体处理，更为具体地，涉及一种驱动装置及化学气相沉积设备。

背景技术：

1、pecvd(plasma enhanced chemical vapor deposition)设备是利用指等离子体增强化学的气相沉积设备，该设备借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，进而在基片上沉积出所期望的薄膜。其中，为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种cvd称为等离子体增强化学气相沉积(pecvd)。

2、目前，半导体晶圆通常是在振动盘中进行反应，而振动盘则通过驱动装置进行振动驱动，为了确保操作人员的操作安全，防止手部被误夹伤，通常会在驱动装置外侧设置保护罩，但是该保护罩的安装不便于操作人员及时的观察驱动装置的内部情况，便捷性不能满足需求。

3、因此，目前亟需一种驱动装置能够在确保安全的状态下，便于操作人员及时的了解驱动装置内部的动作状态。

技术实现思路

1、鉴于上述问题，本实用新型的目的是提供一种驱动装置及化学气相沉积设备，以解决现有方案中需要拆除防护罩才能够确认驱动装置内部状态，导致便捷性差的问题。

2、本实用新型提供的驱动装置，包括支撑体、设置在支撑体内部的驱动组件；其中，在支撑体之间设置有至少一个透明盖板；透明盖体用于查看驱动组件的动作和状态。

3、此外，可选的结构特征是，支撑体设置有三个，在相邻两支撑体之间分别设置有防护壳；其中，位于驱动装置的正面的防护壳采用透明盖板。

4、此外，可选的结构特征是，驱动组件包括驱动器、连接在驱动器端部的驱动轴，以及套设在驱动轴外部的波纹管；其中，波纹管可在驱动轴的作用下进行伸展或收缩。

5、此外，可选的结构特征是，在支撑体的侧壁上设置有第一固定孔，在透明盖板的两侧设置有与第一固定孔位置对应的第二固定孔；透明盖板和支撑体之间通过穿过第二固定孔和第一固定孔的螺栓固定连接。

6、此外，可选的结构特征是，透明盖板为玻璃板或pc板。

7、此外，可选的结构特征是，防护壳为金属板。

8、此外，可选的结构特征是，防护壳的内侧壁设置为镜面结构。

9、此外，可选的结构特征是，还包括设置在支撑体顶部的顶板；其中，在顶板上设置有轴孔，驱动轴自轴孔内穿出并与外界振动盘连接。

10、另一方面，本实用新型还提供一种化学气相沉积设备，包括上述任一项驱动装置。

11、利用上述驱动装置及化学气相沉积设备，设置支撑体和位于支撑体内部的驱动组件；其中，在支撑体之间设置有至少一个透明盖板，透明盖体能够在确保操作人员手部安全的同时，便于查看驱动组件的内部动作和状态，无需进行壳体的拆除和安装，结构简单且便捷性强。

12、为了实现上述以及相关目的，本实用新型的一个或多个方面包括后面将详细说明的特征。下面的说明以及附图详细说明了本实用新型的某些示例性方面。然而，这些方面指示的仅仅是可使用本实用新型的原理的各种方式中的一些方式。此外，本实用新型旨在包括所有这些方面以及它们的等同物。

技术特征：

1.一种驱动装置，其特征在于，包括支撑体、设置在所述支撑体内部的驱动组件；其中，

2.如权利要求1所述的驱动装置，其特征在于，

3.如权利要求1所述的驱动装置，其特征在于，

4.如权利要求1所述的驱动装置，其特征在于，

5.如权利要求1所述的驱动装置，其特征在于，

6.如权利要求2所述的驱动装置，其特征在于，

7.如权利要求2所述的驱动装置，其特征在于，

8.如权利要求3所述的驱动装置，其特征在于，还包括设置在所述支撑体顶部的顶板；其中，

9.一种化学气相沉积设备，其特征在于，包括如权利要求1至8任一项所述的驱动装置。

技术总结
本技术提供一种驱动装置及化学气相沉积设备，其中的装置包括支撑体、设置在支撑体内部的驱动组件；其中，在支撑体之间设置有至少一个透明盖板；透明盖体用于查看驱动组件的动作和状态。利用上述技术能够在不打开壳体的情况下，实时观察驱动组件的当前动作和工作状态。

技术研发人员：郑盈箕,崔键洙,罗载文,金洙千,柳相晩,尹仁相,金在勋,李吉荣,崔煐来,吉炯昱,沈常圭,罗正钦,玄暻
受保护的技术使用者：盛吉盛（韩国）半导体科技有限公司
技术研发日：20221230
技术公布日：2024/1/13