一种晶圆研磨抛光设备的制作方法

本公开涉及晶圆研磨抛光领域，尤其涉及一种晶圆研磨抛光设备。

背景技术：

1、研磨抛光机是一种集研磨和抛光为一体的设备，安装研磨盘可进行研磨作业，安装抛光盘可进行抛光作业。在晶圆的研磨抛光制程中，其工作原理是研磨抛光机上的电动机带动研磨(或抛光)盘高速旋转，由于海绵(或羊毛)和研磨液的共同作用，在晶圆表面产生摩擦，从而达到清除晶圆表面污染、浅划痕和氧化层的目的，并提高光亮度。

2、但是，由于离心力原因，研磨液容易被甩至研磨室四周的墙壁上，研磨液易结晶，结晶聚集后，设备在进行机械运动时，由于震动，研磨液结晶容易被震落，如掉落在研磨(或抛光)盘上，会对正在进行或即将研磨的晶圆造成机械划伤。

技术实现思路

1、本公开的主要目的在于提供一种晶圆研磨抛光设备，以至少解决现有技术中存在的以上技术问题。

2、为了实现上述目的，本公开提供了一种晶圆研磨抛光设备，包括：研磨室、研磨盘、研磨液添加机构与研磨液清洗机构；研磨盘设置在所述研磨室内，用于研磨晶圆；研磨液添加机构用于给所述研磨盘添加研磨液；研磨液清洗机构设置在所述研磨室的内壁上，用于清洁甩溅到所述研磨室内壁上的研磨液。

3、在一可实施方式中，所述研磨液清洗机构包括喷头、供水管路与气控管路，所述供水管路与所述喷头连接，所述气控管路连接在所述供水管路上。

4、在一可实施方式中，所述研磨液添加机构包括研磨液储存罐、气压控制阀与研磨液添加管路，所述研磨液添加管路与所述研磨液储存罐连接，所述气压控制阀设置在所述研磨液添加管路上，所述气控管路连接至所述气压控制阀。

5、在一可实施方式中，所述研磨液清洗机构包括用于固定所述喷头的支撑架，所述支撑架靠近所述研磨室的内壁设置。

6、在一可实施方式中，所述支撑架上设置有喷头调节机构，所述喷头调节机构包括调节电机、调节丝杆与丝杆滑板，所述调节丝杆与调节电机的输出轴相连，所述丝杆滑板螺旋设置在所述调节丝杆上，所述丝杆滑板与所述喷头固定连接。

7、在一可实施方式中，所述喷头调节机构还包括支撑滑柱，所述支撑滑柱从所述丝杆滑板远离所述调节丝杆的一端穿过，所述支撑滑柱平行于所述调节丝杆设置。

8、在一可实施方式中，所述调节丝杆延竖直方向设置，所述丝杆滑板在所述调节丝杆上可上下移动。

9、在一可实施方式中，在所述丝杆滑板上设置多个所述喷头。

10、在一可实施方式中，所述喷头的喷嘴朝向研磨室的内壁设置，且所述喷嘴的轴线与所述研磨室的内壁形成0-90°的夹角。

11、在一可实施方式中，在所述研磨室内壁的底部设置污水槽，所述污水槽用于收集被冲刷下的研磨液与水。

12、本公开的晶圆研磨抛光设备，在靠近研磨室内壁处设置研磨液清洗机构，以用于对被研磨盘甩至研磨室四周墙壁上的研磨液进行冲刷清洁，防止研磨液结晶，从而避免了在研磨盘运行过程中产生的机械振动，使研磨液结晶被震落，防止了因研磨液结晶掉落在研磨盘上，对正在进行或即将研磨的晶圆造成的机械划伤。

13、应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本公开的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本公开的范围。本公开的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。

技术特征：

1.一种晶圆研磨抛光设备，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的晶圆研磨抛光设备，其特征在于，所述研磨液清洗机构(4)包括喷头(41)、供水管路(42)与气控管路(43)，所述供水管路(42)与所述喷头(41)连接，所述气控管路(43)连接在所述供水管路(42)上。

3.根据权利要求2所述的晶圆研磨抛光设备，其特征在于，所述研磨液添加机构(3)包括研磨液储存罐(31)、气压控制阀(33)与研磨液添加管路(34)，所述研磨液添加管路(34)与所述研磨液储存罐(31)连接，所述气压控制阀(33)设置在所述研磨液添加管路(34)上，所述气控管路(43)连接至所述气压控制阀(33)。

4.根据权利要求2所述的晶圆研磨抛光设备，其特征在于，所述研磨液清洗机构(4)包括用于固定所述喷头(41)的支撑架(5)，所述支撑架(5)靠近所述研磨室(1)的内壁设置。

5.根据权利要求4所述的晶圆研磨抛光设备，其特征在于，所述支撑架(5)上设置有喷头调节机构(51)，所述喷头调节机构(51)包括调节电机(511)、调节丝杆(512)与丝杆滑板(513)，所述调节丝杆(512)与调节电机(511)的输出轴相连，所述丝杆滑板(513)螺旋设置在所述调节丝杆(512)上，所述丝杆滑板(513)与所述喷头(41)固定连接。

6.根据权利要求5所述的晶圆研磨抛光设备，其特征在于，所述喷头调节机构(51)还包括支撑滑柱(514)，所述支撑滑柱(514)从所述丝杆滑板(513)远离所述调节丝杆(512)的一端穿过，所述支撑滑柱(514)平行于所述调节丝杆(512)设置。

7.根据权利要求5所述的晶圆研磨抛光设备，其特征在于，所述调节丝杆(512)延竖直方向设置，所述丝杆滑板(513)在所述调节丝杆(512)上可上下移动。

8.根据权利要求5所述的晶圆研磨抛光设备，其特征在于，在所述丝杆滑板(513)上设置多个所述喷头(41)。

9.根据权利要求8所述的晶圆研磨抛光设备，其特征在于，所述喷头(41)的喷嘴朝向研磨室(1)的内壁设置，且所述喷嘴的轴线与所述研磨室(1)的内壁形成0-90°的夹角。

10.根据权利要求1所述的晶圆研磨抛光设备，其特征在于，在所述研磨室(1)内壁的底部设置污水槽，所述污水槽用于收集被冲刷下的研磨液与水。

技术总结
本公开提供了一种晶圆研磨抛光设备，包括：研磨室、研磨盘、研磨液添加机构与研磨液清洗机构；研磨盘设置在所述研磨室内，用于研磨晶圆；研磨液添加机构用于给所述研磨盘添加研磨液；研磨液清洗机构设置在所述研磨室的内壁上，用于清洁甩溅到所述研磨室内壁上的研磨液。本公开的晶圆研磨抛光设备，在靠近研磨室内壁处设置研磨液清洗机构，以用于对被研磨盘甩至研磨室四周墙壁上的研磨液进行冲刷清洁，防止研磨液结晶，从而避免了在研磨盘运行过程中产生的机械振动，使研磨液结晶被震落，防止了因研磨液结晶掉落在研磨盘上，对正在进行或即将研磨的晶圆造成的机械划伤。

技术研发人员：唐广安,解攀柱
受保护的技术使用者：杭州富芯半导体有限公司
技术研发日：20221230
技术公布日：2024/1/13