化学机械抛光中的绝缘流体线路的制作方法

本公开涉及化学机械抛光(cmp)，且更具体地涉及在cmp中的流体传输。

背景技术：

1、集成电路通常通过在半导体晶片上顺序地沉积导电、半导或绝缘层而形成在基板上。各种制作工艺需要在基板上平坦化层。例如，一个制作步骤涉及在非平坦表面上沉积填充层，以及平坦化填充层。对于某些应用，平坦化填充层，直到暴露图案化层的顶表面，或直到在下卧层上留下材料的预定厚度。

2、化学机械抛光(cmp)是一中可接受的平坦化方法。此平坦化方法通常需要将基板安装在承载头上。基板的暴露表面通常放置为抵靠旋转抛光垫。承载头在基板上提供可控制的负载以将其推靠抛光垫。具有研磨粒子的抛光液通常供应至抛光垫的表面。例如去离子水的清洁流体可喷涂至抛光垫上，以从抛光工艺移除碎屑。

技术实现思路

1、在一个方面中，抛光组件包括：化学机械抛光系统、流体源、以及将流体从流体源承载至化学机械抛光系统中的流体传输导管。化学机械抛光系统包括：用于支撑抛光垫的平台、用于支撑基板并使基板与抛光垫接触的承载头、以及用于导致平台与承载头之间的相对运动的电机。流体传输导管包括：电气绝缘管；导电缠绕件，所述导电缠绕件从管的第一端至管的第二端围绕管的外部直径缠绕，所述导电缠绕件被配置成使静电放电流动；以及导电线，所述导电线附接至导电缠绕件第一端，所述导电线被配置成使静电放电从导电缠绕件传导至接地源。

2、在另一方面中，电气绝缘管被配置成将流体流动至化学机械抛光系统中，包括：导电缠绕件，所述导电缠绕件从管的第一端至管的第二端围绕管的外部直径缠绕，所述导电缠绕件被配置成传导静电电荷；以及导电线，所述导电线附接至导电缠绕件，所述导电线被配置成使静电电荷从导电缠绕件传导至共同接地源。

3、在另一方面中，一种制造流体导管的方法，包括：将导电缠绕件缠绕在管的周围，以及将导电线耦合至导电缠绕件。管被配置成将流体流动至化学机械抛光组件中，并且导电缠绕件被配置成形成用于传导静电电荷的静电放电保护组件。

4、实施方式可包括以下特征中的一者或多者。流体源可包括用于保持清洁液体的贮槽。流体可流动通过静电放电保护组件。响应于将流体流动通过静电放电保护组件，可在管上产生静电电荷。静电电荷可从管通过导电缠绕件至导电线至共同接地源而放电。

5、可能的优点可包括但不限于以下中的一者或多者。

6、可降低来自流体传输线路的静电放电的危险，并且因此降低流体传输线路或化学机械抛光系统中的其他部件的损坏。绝缘管可容易地且以低成本制造。流动通过管的流体并无污染的额外风险。

7、在附图和以下描述中阐述了一个或多个实施方式的细节在。其他方面、特征和优点将从描述和附图以及从权利要求书而为显而易见的。

技术特征：

1.一种化学机械抛光组件，包括：

2.如权利要求1所述的组件，其中所述流体源包括用于保持抛光流体的贮槽，所述系统包括用于将所述抛光流体传输至所述抛光垫的分配器，并且所述流体传输导管将所述贮槽耦合至所述分配器。

3.如权利要求1所述的组件，其中所述流体源包括清洁流体的源，所述系统包括用于将所述清洁流体传输至所述抛光垫的分配器、调节头或所述承载头，并且所述流体传输导管将所述流体源耦合至所述分配器。

4.如权利要求3所述的组件，其中所述流体源包括用于产生蒸气的锅炉。

5.如权利要求1所述的组件，其中所述流体源包括温度控制流体的源，所述系统包括用于将所述温度控制流体传输至所述抛光垫的分配器，并且所述流体传输导管将所述流体源耦合至所述分配器。

6.如权利要求5所述的组件，其中所述流体源包括用于产生蒸气的锅炉。

7.如权利要求1所述的组件，其中所述流体源包括压力线路，其中所述承载头包括一个或多个可加压腔室，并且所述流体传输导管将所述压力线路耦合至所述承载头。

8.如权利要求1所述的组件，其中所述流体源包括压力线路，其中所述调节头包括一个或多个可加压腔室，并且所述流体传输导管将所述压力线路耦合至所述调节头。

9.如权利要求1所述的组件，包括耦合至所述导电层的接地线。

10.一种流体导管，包括：

11.如权利要求10所述的流体导管，其中所述导电缠绕件为金属线。

12.如权利要求11所述的流体导管，其中所述金属线为金属丝网。

13.如权利要求10所述的流体导管，其中所述导电缠绕件为导电或半导电聚合物胶带。

14.如权利要求10所述的流体导管，进一步包括环绕所述管和所述导电缠绕件的热收缩管。

15.如权利要求10所述的流体导管，进一步包括环绕所述管和所述导电缠绕件的绝缘层。

16.一种制作流体导管的方法，所述方法包括：

17.如权利要求16所述的方法，进一步包括：在化学机械抛光组件上安装所述静电放电保护组件。

18.如权利要求17所述的方法，其中安装所述静电放电保护组件进一步包括：从流体源流体耦合所述静电放电保护组件，以将流体从所述流体源流动至所述化学机械抛光组件。

19.如权利要求17所述的方法，其中安装所述静电放电保护组件进一步包括：将所述导电线耦合至共同接地源。

技术总结
一种抛光组件包括化学机械抛光系统、流体源、以及将流体从流体源承载至化学机械抛光系统中的流体传输导管。化学机械抛光系统包括：用于支撑抛光垫的平台，用于支撑基板并使基板与抛光垫接触的承载头，以及用于导致平台与承载头之间的相对运动的电机。流体传输导管包括：电气绝缘管，从管的第一端至管的第二端围绕管的外部直径缠绕的导电缠绕件，以及附接至导电缠绕件第一端的导电线。导电缠绕件被配置成传导静电放电，并且导电线被配置成使静电放电从导电缠绕件传导至接地源。

技术研发人员：C·波拉德,H·桑达拉拉贾恩,P·D·巴特菲尔德,张寿松,吴昊晟,C·李,B·C·加嘎纳坦
受保护的技术使用者：应用材料公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15