包括排气管的衬底处理设备的制作方法

本发明总体涉及衬底处理设备。更具体地，本公开的示例性实施例涉及包括排气管的衬底处理设备。

背景技术：

1、需要排出衬底处理室中的气体，例如化学气相沉积(cvd)和原子层沉积(ald)操作。排气管设置在衬底处理室中。排气管通过前级管线流体联接到真空泵。

2、然而，由于排气管的未对准，衬底周围的气体排出有时是不对称的，这会导致不均匀的处理。因此，需要一种允许气体对称排出的解决方案，这可以带来更均匀的衬底处理。

3、本部分中阐述的任何讨论，包括对问题和解决方案的讨论，已被包括在本公开中，仅仅是为了提供本公开的背景，并且不应被认为是承认任何或所有的讨论在本发明被做出时是已知的，或者构成现有技术。

技术实现思路

1、提供本
技术实现要素：
是为了以简化的形式介绍一些概念。这些概念在以下公开的示例实施例的详细描述中被进一步详细描述。本发明内容不旨在标识所要求保护的主题的关键特征或必要特征，也不旨在用于限制所要求保护的主题的范围。

2、根据本公开的示例性实施例，提供了一种衬底处理设备。该衬底处理设备可以包括：设置有室壁的反应室；设置在反应室内以支撑衬底的基座；气体供应单元，用于向衬底供应气体；以及设置在反应室内的排气管，包括：包括第一内端和第二内端的内环；其中，第一内端可以配置为接触室壁的底部；以及设置有多个孔的外环，该外环包括第一外端和第二外端；其中第一外端可以配置为接触室壁的一侧，第二外端可以配置为与第二内端接合。

3、在各种实施例中，内环可以具有l形横截面。

4、在各种实施例中，第二内端可以具有倾斜表面。

5、在各种实施例中，第二外端可以具有倾斜表面，以可滑动地放置在第二内端上。

6、在各种实施例中，排气管可以包括铝、al2o3或aln。

7、在各种实施例中，每个孔可以是圆形的。

8、在各种实施例中，孔直径可以是1至30mm。

9、在各种实施例中，孔的数量可以是1到100。

10、在各种实施例中，衬底处理设备还可以包括排气口，其设置在室壁的底部，以流体联接到孔。

11、在各种实施例中，排气口可以通过前级管线流体联接到真空泵。

12、在各种实施例中，气体供应单元可以包括喷淋头，其设置有用于向衬底供应气体的多个孔。

13、在各种实施例中，一种衬底处理设备可以包括设置有室壁的反应室；设置在反应室内以支撑衬底的基座；气体供应单元，用于向衬底供应气体；以及设置在反应室内的排气管，包括：内环，该内环包括第一内端和第二内端，并且其中第一内端可以包括多个第一突起和一个第二突起；其中多个第一突起可以配置为接触室壁的底部；以及设置有多个孔的外环，该外环包括第一外端和第二外端；其中第一外端可以配置为接触室壁的一侧，第二外端配置为与第二内端接合。

14、在各种实施例中，第二内端可以具有倾斜表面。

15、在各种实施例中，第二外端可以具有倾斜表面，以可滑动地放置在第二内端上。

16、在各种实施例中，在第二突起和室壁的底部之间可以设置有间隙。

17、在各种实施例中，排气口可以设置在室壁的底部，以通过第一突起之间的空间流体联接到孔和间隙。

18、在各种实施例中，第一突起可以每隔120度设置。

技术特征：

1.一种衬底处理设备，包括：

2.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中，所述第一内端包括多个孔。

3.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中，所述第一内端包括位于端部的多个狭缝。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的衬底处理设备，其中，所述内环具有l形横截面。

5.根据权利要求4所述的衬底处理设备，其中，所述第二内端具有倾斜表面。

6.根据权利要求5所述的衬底处理设备，其中，所述第二外端具有倾斜表面，以可滑动地放置在所述第二内端上。

7.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中，所述排气管道包括铝、al2o3或aln。

8.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中，每个孔是圆形的。

9.根据权利要求8所述的衬底处理设备，其中，所述孔的直径为1至30mm。

10.根据权利要求9所述的衬底处理设备，其中，所述孔的数量为1至100。

11.根据权利要求1所述的衬底处理设备，还包括排气口，其设置在所述室壁的底部以流体联接到所述孔。

12.根据权利要求11所述的衬底处理设备，其中，所述排气口通过前级管线流体联接到真空泵。

13.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中，所述气体供应单元包括喷淋头，其设置有用于向衬底供应气体的多个孔。

14.一种衬底处理设备，包括：

15.根据权利要求14所述的衬底处理设备，其中，所述第二内端具有倾斜表面。

16.根据权利要求15所述的衬底处理设备，其中，所述第二外端具有倾斜表面，以可滑动地放置在所述第二内端上。

17.根据权利要求14所述的衬底处理设备，其中，在所述第二突起和所述室壁的底部之间设置有间隙。

18.根据权利要求17所述的衬底处理设备，还包括排气口，其设置在所述室壁的底部，以通过所述第一突起之间的空间流体联接到所述孔和所述间隙。

19.根据权利要求14所述的衬底处理设备，其中，所述第一突起每隔120度设置。

技术总结
公开了一种衬底处理设备。示例性衬底处理设备包括设置有室壁的反应室；设置在反应室内以支撑衬底的基座；气体供应单元，用于向衬底供应气体；以及设置在反应室内的排气管，包括：包括第一内端和第二内端的内环；其中第一内端配置为接触室壁的底部；以及设置有多个孔的外环，该外环包括第一外端和第二外端；其中第一外端配置为接触室壁的一侧，第二外端配置为与第二内端接合。

技术研发人员：任平
受保护的技术使用者：ASM IP私人控股有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15