一种蓝玻璃精磨用的阻尼布及其制备工艺的制作方法

本发明属于阻尼布制备，具体涉及一种蓝玻璃精磨用的阻尼布及其制备工艺。

背景技术：

1、蓝玻璃是一种利用散布在玻璃材料中的光吸收物质控制入射光波长的光学件，能够吸收部分可见光(长波长侧)，允许从紫外到红外的很宽波段的其余光线通过。高端智能手机就是利用蓝玻璃红外接枝滤光片作为高端智能手机的核心光学器件，被放置在图像传感器之间，主要起滤除近红外光的作用，从而避免拍摄中出现的色彩不均以及鬼影等现象，但是该蓝玻璃红外接枝滤光片质量要求很高，表面要求零划伤，没有腐蚀坑、白点、白雾等，往往经过精密抛光得到。

2、目前蓝玻璃抛光常用阻尼布来完成，阻尼布一般由上至下设置有阻尼基材层、热熔胶层和固定磨料层，固定磨料层一般通过静电植砂手段吸附在热熔胶层上，通过热熔胶层的粘接性将磨料固定，得到固定磨料层，但是这种结合性弱，在蓝玻璃抛光过程中，受酸性或碱性抛光液的侵蚀，耐磨粒子发生松动或脱落，从而引起阻尼布的使用寿命缩短或蓝玻璃表面抛光质量下降，无论是上述哪一种缺陷，对工业生产都会很大弊端，因此，有必要提供一种性能更好的蓝玻璃精磨用的阻尼布。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种蓝玻璃精磨用的阻尼布及其制备工艺，以解决背景技术中的问题。

2、本发明的目的可以通过以下技术方案实现：

3、一种蓝玻璃精磨用的阻尼布，包括从上至下依次设置的阻尼布基材层、胶层和磨料层，阻尼布基材层的厚度为0.2-0.4mm，胶层厚度为0.03-0.06mm，磨料层的厚度为0.2-0.4mm。

4、该蓝玻璃精磨用的阻尼布的制备工艺，包括以下步骤：

5、将阻尼布基材表面涂覆聚氨酯乳液，在温度100-120℃下干燥30-60min，在阻尼布基材表面形成胶层，之后采用静电植砂法将表面处理耐磨粒子植入到胶层上，得到半成品阻尼布，将半成品阻尼布置于干燥箱中，55-60℃预干20-30min，再升温至80-85℃干燥60-80min，得到所述蓝玻璃精磨用的阻尼布。

6、作为本发明的进一步方案，聚氨酯乳液通过以下步骤制成：

7、将聚丙二醇在110-120℃减压脱水2h，2,2-二羟甲基丙酸在60℃真空干燥2h，控制温度80℃，向烧瓶中加入甲苯二异氰酸酯和聚丙二醇，反应1.5h后降温至75℃，加入1,4-丁二醇、2,2-二羟甲基丙酸和二月桂酸二丁基锡反应1h，再加入稳定组分搅拌反应1h，降温至35℃加入三乙胺，搅拌30min后加入乙二胺和去离子水，继续搅拌30min，得到聚氨酯预聚物；

8、其中，甲苯二异氰酸酯、聚丙二醇、1,4-丁二醇、2,2-二羟甲基丙酸、二月桂酸二丁基锡、稳定组分、三乙胺、乙二胺和去离子水的质量比为5-10：8-20：0.1-2：1-5：0.01-0.03：0.8-3：0.1：0.8-1.2：40-50。

9、作为本发明的进一步方案，稳定组分通过以下步骤制成：

10、将含氢硅油、甲苯、吩噻嗪和氯铂酸-异丙醇溶液依次加入反应釜中，氮气保护下，搅拌10-15min后，升温至85℃，缓慢滴加甲基丙烯酸六氟丁酯的甲苯溶液，滴加完毕后，再滴加甲基丙烯酸缩水甘油酯的甲苯溶液，滴加结束后，继续升温至130℃，恒温搅拌反应20h，反应结束后，减压蒸馏去除甲苯，用去离子水洗涤后，干燥，得到稳定组分。

11、作为本发明的进一步方案，含氢硅油、吩噻嗪、甲基丙烯酸六氟丁酯和甲基丙烯酸缩水甘油酯的用量比为100g：0.03g：0.09-0.12mol：0.09-0.12mol，氯铂酸-异丙醇溶液用量为含氢硅油质量的20-50ppm，含氢硅油的含氢量为0.18％，购买于克拉玛尔有限公司，氯铂酸-异丙醇溶液中氯铂酸浓度为0.8-1wt％，由氯铂酸和异丙醇混合得到，以含氢硅油、甲基丙烯酸六氟丁酯和甲基丙烯酸缩水甘油醚为原料，以氯铂酸-异丙醇溶液为催化剂，利用硅氢加成反应合成含有氟碳链和活性环氧基的改性硅油，即稳定组分。

12、作为本发明的进一步方案，表面处理耐磨粒子通过以下步骤制成：

13、步骤s1、将3-氨基丙基三乙氧基硅烷和去离子水加入烧瓶中，转速100-200r/min下搅拌10-20min后，利用浓盐酸调节ph为5，控制温度50-60℃，搅拌反应4-6h，反应结束后，旋蒸去除溶剂，真空干燥，得到端氨基超支化聚硅氧烷；

14、步骤s2、将耐磨粒子、去离子水和无水乙醇混合，用氢氧化钠溶液调节ph为9，加入端氨基超支化聚硅氧烷，控制温度75-85℃，搅拌反应8-10h，反应结束后，抽滤，滤饼用去离子水洗涤，干燥，得到表面处理耐磨粒子。

15、作为本发明的进一步方案，步骤s1中3-氨基丙基三乙氧基硅烷和去离子水的质量比为30-40：60-80，浓盐酸质量分数为37％。

16、作为本发明的进一步方案，步骤s2中耐磨粒子、去离子水、无水乙醇和端氨基超支化聚硅氧烷的用量比为8-10g：40-60ml：40-60ml：0.5-1g，氢氧化钠溶液的质量分数为40％，耐磨粒子由亚微米氧化铈、氧化锆、氧化铬、稀土、二氧化硅和钴按照质量比50-60：2-5：2-10：10-15：5-10：25-30组成。

17、作为本发明的进一步方案，阻尼布基材为无纺布或编织布，密度为300-900克重，选自聚酯、聚酰胺、聚烯烃、聚苯硫醚的无纺布或编织布。

18、本发明的有益效果：

19、本发明在胶层中引入自制的稳定组分，该稳定组分为含有氟碳链和活性环氧基的改性硅油，将其引入聚氨酯乳液中，环氧基发生开环反应后形成新的羟基，与乳液中异氰酸酸酯基反应，在体系中引入-si-o-si-柔性长链，提高胶层的韧性，当磨料层与蓝玻璃接触并进行打磨时，能够起到缓冲作用，减少不必要的划痕出现，且基于氟、硅原子低表面能特点，能够赋予胶层良好的耐腐蚀性，抵抗抛光液的侵蚀，保证耐磨粒子的稳定性；

20、本发明通过化学手段对耐磨粒子进行表面修饰处理，具体是用端氨基超支化聚硅氧烷，利用端氨基超支化聚硅氧烷对耐磨粒子处理，一方面是赋予耐磨粒子交联特性，使耐磨粒子通过化学键“锚定”于胶层内部(表面氨基与胶层中异氰酸酯基反应)，提高耐磨粒子的稳定性，另一方面是在耐磨粒子和胶层之间形成超支化聚合物连接的过渡层，减少界面缺陷，加强界面作用力，当磨料层对蓝玻璃进行打磨使，能够有效分散应力，进一步地起到缓冲作用，减少划痕的出现；

21、综上，本发明通过对增强胶层韧性以及提高磨粒与胶层的粘接性，得到了品质优良的阻尼布，适用于蓝玻璃的精抛。

技术特征：

1.一种蓝玻璃精磨用的阻尼布，其特征在于，包括从上至下依次设置的阻尼布基材层、胶层和磨料层，阻尼布基材层的厚度为0.2-0.4mm，胶层厚度为0.03-0.06mm，磨料层的厚度为0.2-0.4mm。

2.根据权利要求1所述的一种蓝玻璃精磨用的阻尼布的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：

3.根据权利要求2所述的一种蓝玻璃精磨用的阻尼布的制备工艺，其特征在于，聚氨酯乳液通过以下步骤制成：

4.根据权利要求3所述的一种蓝玻璃精磨用的阻尼布的制备工艺，其特征在于，甲苯二异氰酸酯、聚丙二醇、1,4-丁二醇、2,2-二羟甲基丙酸、二月桂酸二丁基锡、稳定组分、三乙胺、乙二胺和去离子水的质量比为5-10：8-20：0.1-2：1-5：0.01-0.03：0.8-3：0.1：0.8-1.2：40-50。

5.根据权利要求3所述的一种蓝玻璃精磨用的阻尼布的制备工艺，其特征在于，稳定组分通过以下步骤制成：

6.根据权利要求5所述的一种蓝玻璃精磨用的阻尼布的制备工艺，其特征在于，含氢硅油、吩噻嗪、甲基丙烯酸六氟丁酯和甲基丙烯酸缩水甘油酯的用量比为100g：0.03g：0.09-0.12mol：0.09-0.12mol，氯铂酸-异丙醇溶液用量为含氢硅油质量的20-50ppm。

7.根据权利要求2所述的一种蓝玻璃精磨用的阻尼布的制备工艺，其特征在于，表面处理耐磨粒子通过以下步骤制成：

8.根据权利要求7所述的一种蓝玻璃精磨用的阻尼布的制备工艺，其特征在于，步骤s1中3-氨基丙基三乙氧基硅烷和去离子水的质量比为30-40：60-80，浓盐酸质量分数为37％。

9.根据权利要求7所述的一种蓝玻璃精磨用的阻尼布的制备工艺，其特征在于，步骤s2中耐磨粒子、去离子水、无水乙醇和端氨基超支化聚硅氧烷的用量比为8-10g：40-60ml：40-60ml：0.5-1g，氢氧化钠溶液的质量分数为40％，耐磨粒子由亚微米氧化铈、氧化锆、氧化铬、稀土、二氧化硅和钴按照质量比50-60：2-5：2-10：10-15：5-10：25-30组成。

技术总结
本发明公开了一种蓝玻璃精磨用的阻尼布及其制备工艺，属于阻尼布制备技术领域，包括从上至下依次设置的阻尼布基材层、胶层和磨料层，制备工艺如下：将阻尼布基材表面涂覆聚氨酯乳液，在温度100‑120℃下干燥30‑60min，之后采用静电植砂法将表面处理耐磨粒子植入到胶层上，得到半成品阻尼布，将半成品阻尼布置于干燥箱中，55‑60℃预干20‑30min，再升温至80‑85℃干燥60‑80min，即得所述蓝玻璃精磨用的阻尼布，本发明通过对增强胶层韧性以及提高磨粒与胶层的粘接性，得到了品质优良的阻尼布，适用于蓝玻璃的精抛。

技术研发人员：李加海,杨惠明,李元祥
受保护的技术使用者：安徽禾臣新材料有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/14