一种柔性主动射流抛光工具的制作方法

文档序号:35981839发布日期:2023-11-10 01:45阅读:52来源:国知局
一种柔性主动射流抛光工具的制作方法

本公开一般涉及主动射流抛光工具,具体涉及一种柔性主动射流抛光工具。


背景技术:

1、主动射流(active fluid jet,afj)抛光技术是一种新型的抛光技术,它利用高速喷射的液体来去除材料表面凸凹不平的部分,从而达到抛光的效果。这种技术可以实现高精度的表面处理,而且处理速度比传统抛光技术快很多;主流射流抛光技术是高精度光学曲面抛光的重要方法之一,在提高面形精度,改善表面中高频误差和保形抛光后处理得到广泛应用。

2、在现有技术中,已经公开的主动射流抛光工具的抛光头大多数采用圆柱形设计,材料通常为单一材质的丁腈橡胶;当被加工表面曲率半径比较小时,为避免运动干涉,抛光头通常会设计成球形,此时,抛光头与待抛光的光学曲面之间的接触面积减小,在接触点附近应力会急剧升高,在铝合金、铜、不锈钢等金属和硫化锌等多晶陶瓷光学表面的抛光过程中,较大的接触应力容易产生微划痕,影响表面质量和疵病等级。


技术实现思路

1、鉴于现有技术中的上述缺陷或不足,期望提供可解决上述技术问题的一种柔性主动射流抛光工具。

2、本申请提供一种柔性主动射流抛光工具,包括:

3、抛光头,所述抛光头为柔性材质,所述抛光头为半球形;

4、抛光布,所述抛光布设置在所述抛光头弧形的一端,所述抛光布用于抛光和打磨;

5、连接杆,所述连接杆为刚性材质,所述连接杆和所述抛光头远离所述抛光布的一端连接;所述连接杆用于与抛光机连接,保证抛光工具在抛光过程中形状的稳定。

6、根据本申请提供的技术方案,所述抛光头采用邵氏硬度20ha的硅橡胶。

7、根据本申请提供的技术方案,所述连接杆采用邵氏硬度60-80ha的硅橡胶。

8、根据本申请提供的技术方案,所述抛光头和所述连接杆之间经过高温硫化结合。

9、根据本申请提供的技术方案,所述抛光头和所述连接杆之间设置有硫化剂,所述硫化剂在预设温度和预设压力下经预设时间形成硅胶密封条,所述硅胶密封条将所述抛光头和所述连接杆连接。

10、根据本申请提供的技术方案,所述预设温度为180℃,所述预设压力为15mpa,所述预设时间为15min。

11、根据本申请提供的技术方案,所述抛光布为聚氨酯纤维或绒布。

12、本申请的有益效果在于:

13、本申请提供一种柔性主动射流抛光工具,包括:抛光头、连接杆和抛光布,所述抛光头为柔性材质,所述抛光头的一端设置有抛光布,所述抛光头远离所述抛光布的一端设置有连接杆,所述连接杆为刚性材质;使用时,将所述连接杆与所述抛光机连接,所述连接杆采用刚性材质,用于保证所述抛光工具在抛光过程中形状的稳定;随后采用所述抛光布对高精度的光学表面抛光;通过上述结构使得,与现有技术的主动射流抛光工具相比,本申请的抛光头和连接杆采用不同硬度的材料制成,既能保证所述抛光工具与所述抛光机在抛光过程中连接的稳定,同时,所述抛光头采用柔性材质制作,当加工所述光学表面时,所述抛光工具与所述光学表面接触点之间的接触应力较小,能够提高所述光学表面的表面质量,减少所述光学表面的划痕,降低表面的粗糙度。



技术特征:

1.一种柔性主动射流抛光工具,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的一种柔性主动射流抛光工具,其特征在于,所述抛光头(2)采用邵氏硬度20ha的硅橡胶。

3.根据权利要求2所述的一种柔性主动射流抛光工具,其特征在于,所述连接杆(3)采用邵氏硬度60-80ha的硅橡胶。

4.根据权利要求3所述的一种柔性主动射流抛光工具,其特征在于,所述抛光头(2)和所述连接杆(3)之间经过高温硫化结合。

5.根据权利要求4所述的一种柔性主动射流抛光工具,其特征在于,所述抛光头(2)和所述连接杆(3)之间设置有硫化剂,所述硫化剂在预设温度和预设压力下经预设时间形成硅胶密封条,所述硅胶密封条将所述抛光头(2)和所述连接杆(3)连接。

6.根据权利要求5所述的一种柔性主动射流抛光工具,其特征在于,所述预设温度为180℃,所述预设压力为15mpa,所述预设时间为15min。

7.根据权利要求1所述的一种柔性主动射流抛光工具,其特征在于,所述抛光布(1)为聚氨酯纤维或绒布。


技术总结
本申请提供一种柔性主动射流抛光工具,包括:抛光头、连接杆和抛光布,抛光头为柔性材质,抛光头的形状为半球形,抛光头弧形的一端设置有抛光布,抛光头远离抛光布的一端设置有连接杆,连接杆为刚性材质;通过上述结构使得,与现有技术的主动射流抛光工具相比,本申请的抛光头和连接杆采用不同硬度的材料制成,既能保证抛光工具与抛光机在抛光过程中连接的稳定,同时,抛光头采用柔性材质制作,当加工光学表面时,抛光工具与光学表面接触点之间的接触应力较小,能够提高光学表面的表面质量,减少光学表面的划痕,降低表面的粗糙度。

技术研发人员:张昊,张洪顺
受保护的技术使用者:天津津航技术物理研究所
技术研发日:
技术公布日:2024/1/16
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