一种高致密度的银靶材的制备方法与流程

本发明涉及银靶材，具体涉及一种高致密度的银靶材的制备方法。

背景技术：

1、靶材是磁控溅射过程中的基本耗材，不仅使用量大，而且靶材质量的好坏对薄膜的性能起着至关重要的决定作用。靶材应用领域比较广泛，主要包括光学靶材、显示薄膜用靶材、半导体领域用靶材、记录介质用靶材、超导靶材等。其中半导体领域用靶材、显示用靶材和记录介质用靶材是当前使用最为广泛的三大靶材。

2、现有技术中制备的靶材密度性能差，耐磨性能差，密度性、耐磨性很难协调改进，以及产品在酸腐条件下，性能稳定性低，限制了产品的使用效率。

技术实现思路

1、针对现有技术的缺陷，本发明的目的是提供一种高致密度的银靶材的制备方法，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、本发明解决技术问题采用如下技术方案：

3、本发明提供了一种高致密度的银靶材的制备方法，包括以下步骤：

4、步骤一：将10-15份硅灰石加入到35-45份质量分数6％的壳聚糖水溶液中，然后加入3-5份羧甲基纤维素、1-5份硝酸钇溶液，搅拌均匀，得到改性调节剂；

5、步骤二：将银原料中加入银原料总量10-15％的改性调节剂，然后球磨改性处理，球磨改性的转速为1000-1500r/min，球磨时间为1-2h，球磨结束，水洗、干燥，得到球磨剂；

6、步骤三：将球磨剂热改进处理，处理结束，得到热改进料；

7、步骤四：随后将热改进料进行均细化变性处理，处理结束，即可得到本发明的银靶材。

8、优选地，所述硝酸钇溶液的质量分数为5-9％。

9、优选地，所述热改进处理的具体操作步骤为：

10、s01：将球磨剂送入到140-150℃下热处理1-2h；然后以1-3℃/min的速率升温至210-220℃；

11、s02：然后将s01产物以3-5℃/min的速率冷却至45-50℃，保温，备用；

12、s03：s02产物再浸润到盐浴剂中盐浴改进处理，处理结束，水洗、干燥。

13、优选地，所述盐浴剂为质量分数5-7％的氯化镧溶液、十二烷基硫酸钠液按照重量比2:5配制而成。

14、优选地，所述十二烷基硫酸钠液的质量分数为10-15％。

15、优选地，所述盐浴改进处理的方法为：盐浴改进处理为110-115a/dm2的电流密度、210-215v的电压进行电离处理，处理2-5min。

16、优选地，所述均细化变性处理的具体操作步骤为：

17、s11：将2-5份硼酸铝晶须加入到15-20份质量分数2％的盐酸溶液中，随后再加入1-4份海藻酸钠水溶液、2-5份硅烷偶联剂kh560，搅拌均匀，得到硼酸铝晶须剂；

18、s12：将热改进料置于210-230℃下热处理10-20min，然后以1-3℃/min的速率冷却至45℃，喷涂硼酸铝晶须剂浸润处理，处理结束；

19、s13：将s12产物再置于热压条件下处理，处理结束、水洗、干燥，即可。

20、优选地，所述海藻酸钠水溶液的质量分数为8-12％。

21、优选地，所述热压条件为10-15mpa、85-95℃下处理40-50min。

22、优选地，所述喷涂硼酸铝晶须剂浸润处理采用硼酸铝晶须剂浸润冷却至45℃的热改进料表面至浸润完全。

23、与现有技术相比，本发明具有如下的有益效果：

24、本发明的银靶材采用改性调节剂进行球磨改性，得到球磨剂，再配合热改进处理，最后再均细化变性处理，得到靶材料，改性调节剂采用硅灰石经过壳聚糖水溶液配合，经过硝酸钇、羧甲基纤维素调节制备，通过硅灰石经过优化，球磨调节银原料，提高原料产品的致密度，同时再经过热改进处理，产品的致密度得到进一步的提高，配合均细化变性处理，通过热改进料置于210-230℃下热处理10-20min，然后以1-3℃/min的速率冷却至45℃，喷涂硼酸铝晶须剂浸润处理，将硼酸铝晶须调节改进产品，从而产品的耐磨性得到改进，优化的产品可实现耐磨、致密度协调改进，同时产品的耐酸腐性能得到进一步的改进。

技术特征：

1.一种高致密度的银靶材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种高致密度的银靶材的制备方法，其特征在于，所述硝酸钇溶液的质量分数为5-9％。

3.根据权利要求1所述的一种高致密度的银靶材的制备方法，其特征在于，所述热改进处理的具体操作步骤为：

4.根据权利要求3所述的一种高致密度的银靶材的制备方法，其特征在于，所述盐浴剂为质量分数5-7％的氯化镧溶液、十二烷基硫酸钠液按照重量比2:5配制而成。

5.根据权利要求4所述的一种高致密度的银靶材的制备方法，其特征在于，所述十二烷基硫酸钠液的质量分数为10-15％。

6.根据权利要求3所述的一种高致密度的银靶材的制备方法，其特征在于，所述盐浴改进处理的方法为：盐浴改进处理为110-115a/dm2的电流密度、210-215v的电压进行电离处理，处理2-5min。

7.根据权利要求1所述的一种高致密度的银靶材的制备方法，其特征在于，所述均细化变性处理的具体操作步骤为：

8.根据权利要求7所述的一种高致密度的银靶材的制备方法，其特征在于，所述海藻酸钠水溶液的质量分数为8-12％。

9.根据权利要求7所述的一种高致密度的银靶材的制备方法，其特征在于，所述热压条件为10-15mpa、85-95℃下处理40-50min。

10.根据权利要求1所述的一种高致密度的银靶材的制备方法，其特征在于，所述喷涂硼酸铝晶须剂浸润处理采用硼酸铝晶须剂浸润冷却至45℃的热改进料表面至浸润完全。

技术总结
本发明公开了一种高致密度的银靶材的制备方法，包括以下步骤：将球磨剂热改进处理，处理结束，得到热改进料；随后将热改进料进行均细化变性处理，处理结束，即可得到本发明的银靶材。本发明银靶材采用改性调节剂进行球磨改性，得到球磨剂，再配合热改进处理，最后再均细化变性处理，得到靶材料，改性调节剂采用硅灰石经过壳聚糖水溶液配合，经过硝酸钇、羧甲基纤维素调节制备，通过硅灰石经过优化，球磨调节银原料，提高原料产品的致密度。

技术研发人员：唐安泰,唐智勇,程波
受保护的技术使用者：株洲火炬安泰新材料有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15