一种真空卷绕有机物蒸镀防护装置的制作方法

文档序号:36031752发布日期:2023-11-17 16:09阅读:49来源:国知局
一种真空卷绕有机物蒸镀防护装置的制作方法

本申请涉及镀膜防护,具体而言,涉及一种真空卷绕有机物蒸镀防护装置。


背景技术:

1、卷绕式真空镀膜技术以其低成本、高生产效率等特点在氧化物高阻隔膜产业化制备中得到了广泛的应用。

2、在镀膜过程中,有机物会在沉积辊表面沉积,为满足沉积辊面连续长距离沉积成膜的需求,防止有机物液体对腔室内造成污染,需要在幅宽方向加装防护装置。

3、在现有技术中,虽然公开了在卷绕式镀膜端头设置保护装置,但是一般是对粉末和膜料进行防护的,无法对有机物分子进行防护,比如专利公开号为cn 202322970u中,虽然公开了一种热喷涂用辊体轴头保护套,能够防止陶瓷粉附着在辊体轴头上,但是无法对气态有机物形成有效的防护,容易对腔室内部造成污染。


技术实现思路

1、本申请提供了一种真空卷绕有机物蒸镀防护装置,通过在沉积辊区域边缘设置气帘与低温冷阱,从而可以减少对真空腔室与沉积辊的污染。

2、为了实现上述目的,本申请提供了一种真空卷绕有机物蒸镀防护装置,包括基膜、沉积辊、蒸发狭缝、气帘以及低温冷阱,其中:基膜紧贴覆盖在沉积辊上;蒸发狭缝设置在沉积辊的外侧,与加热腔连通;有机物通过加热腔,以气态分子形式从蒸发狭缝中喷出,与沉积辊上的基膜接触;气帘设置在蒸发狭缝的两侧,一端与蒸发狭缝连接,另一端与基膜之间形成第一缝隙;低温冷阱设置在气帘的外侧,一端与气帘连接,另一端与基膜之间形成第二缝隙。

3、进一步的,气帘由不与有机物发生反应的气体组成。

4、进一步的,低温冷阱与冷冻机连接,低温冷阱的下方设置有收集槽。

5、进一步的,低温冷阱的温度范围为-30℃-10℃。

6、进一步的,第一缝隙的宽度为1-3mm。

7、进一步的,第二缝隙的宽度<1mm。

8、本发明提供的一种真空卷绕有机物蒸镀防护装置,具有以下有益效果:

9、本申请通过在沉积辊区域边缘设置气帘与低温冷阱,将高温蒸发的有机物限制在沉积区以内,减少了对真空腔室与沉积辊的污染,解决了有机物蒸发对腔室内污染的难题,实现了有机物真空环境下的连续卷绕长距离沉积,提高了生产效率,具有较好的产业化前景。



技术特征:

1.一种真空卷绕有机物蒸镀防护装置,其特征在于,包括基膜、沉积辊、蒸发狭缝、气帘以及低温冷阱,其中:

2.根据权利要求1所述的真空卷绕有机物蒸镀防护装置,其特征在于,所述气帘由不与有机物发生反应的气体组成。

3.根据权利要求1所述的真空卷绕有机物蒸镀防护装置,其特征在于,所述低温冷阱与冷冻机连接,所述低温冷阱的下方设置有收集槽。

4.根据权利要求4所述的真空卷绕有机物蒸镀防护装置,其特征在于,所述低温冷阱的温度范围为-30℃-10℃。

5.根据权利要求1所述的真空卷绕有机物蒸镀防护装置,其特征在于,所述第一缝隙的宽度为1-3mm。

6.根据权利要求1所述的真空卷绕有机物蒸镀防护装置,其特征在于,所述第二缝隙的宽度<1mm。


技术总结
本申请涉及镀膜防护技术领域,具体而言,涉及一种真空卷绕有机物蒸镀防护装置,包括基膜、沉积辊、蒸发狭缝、气帘以及低温冷阱,其中:基膜紧贴覆盖在沉积辊上;蒸发狭缝设置在沉积辊的外侧,与加热腔连通;有机物通过加热腔,以气态分子形式从蒸发狭缝中喷出,与沉积辊上的基膜接触;气帘设置在蒸发狭缝的两侧,一端与蒸发狭缝连接,另一端与基膜之间形成第一缝隙;低温冷阱设置在气帘的外侧,一端与气帘连接,另一端与基膜之间形成第二缝隙。本申请通过在沉积辊区域边缘设置气帘与低温冷阱,将高温蒸发的有机物限制在沉积区以内,减少了对真空腔室与沉积辊的污染,解决了有机物蒸发对腔室内污染的难题。

技术研发人员:董茂进,冯煜东,王小军,秦丽丽,王冠,冯尔鹏,蔡宇宏,韩仙虎,王毅,马凤英
受保护的技术使用者:兰州空间技术物理研究所
技术研发日:
技术公布日:2024/1/16
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