一种晶圆研磨生产中的虑砂设备的制作方法

本发明涉及一种半导体基材生产制造，特别是关于一种晶圆研磨生产中的虑砂设备。

背景技术：

1、随着半导体行业的迅速发展，国内对晶圆的需求不断的增加；晶圆作为半导体的基材是不可或缺的一部分。晶圆制造工艺中最重要的一环是研磨工艺，目前在研磨过程中使用的介质主要为研磨砂，而且研磨砂主要依赖于进口。随着电子工业的迅猛发展，以单晶硅为衬底的ic集成度越来越高，单晶硅（晶圆）的研磨是保证衬底的平行度、平整度的基础，在研磨中研磨砂的性能是保证晶圆的质量与效率的基础，所有国内外对研磨砂性能的研究越来越受到广泛关注。

2、现有研磨砂的订购周期变长，价格一直上涨，对国内晶圆制造企业在成本、产能上都产生了很大影响。而且研磨砂的生产制作工艺复杂、难度大、产能低，目前国内涉及研磨砂研发、生产的厂家甚少。现有晶圆研磨中每次研磨后的研磨砂采用直排，废物处理，这样造成很大的浪费。

技术实现思路

1、针对上述问题，本发明的目的是提供一种晶圆研磨生产中的虑砂设备，其能实现研磨砂的回收，同时防止研磨砂的凝固，过滤杂质的排出，并能冲洗滤网防止滤网堵孔。

2、为实现上述目的，本发明采取以下技术方案：一种晶圆研磨生产中的虑砂设备，其包括：密封舱，其顶部设置有研磨砂输入口；滤砂机构，设置在密封舱内，位于研磨砂输入口下方，并由驱动机构带动滤砂机构进行转动，以对输入的研磨砂进行高效过滤；研磨砂回收机构，设置在密封舱内，位于滤砂机构的中部，用于接收经滤砂机构过滤后的研磨砂；清洗机构，设置在密封舱内，用于对滤砂机构进行清洗。

3、进一步，密封舱的顶部设置有顶舱盖，顶舱盖与密封舱的顶部之间为密封连接；研磨砂输入口设置在顶舱盖上。在密封舱的顶部还设置有液位计。

4、进一步，密封舱的两侧还分别设置有加强板，用于安装研磨砂回收机构、驱动机构和清洗机构。

5、进一步，滤砂机构包括主动轴、从动轴、同步带和滤网；

6、主动轴和两根从动轴穿设在密封舱内，主动轴和从动轴的端部均穿设在密封舱的两侧加强板上，且主动轴与两根从动轴在加强板上呈三角形布置；主动轴的两端分别同轴设置有主动轮，每根从动轴的两端分别同轴设置有从动轮，且主动轮和从动轮均位于加强板的内侧壁处；并在每侧加强板的主动轮和两从动轮上设置有同步带，由同步带进行同步传动连接；位于两侧的同步带之间设置有滤网，滤网随同步带进行转动，将落入的研磨砂进行过滤。

7、进一步，主动轴位于从动轴下方，且两根从动轴位于同一水平线上，以保证运动至顶部的滤网一直呈一水平面，该水平面位于研磨砂输入口的正下方。

8、进一步，研磨砂回收机构包括斜盘和过滤研磨砂排出口；斜盘设置在密封舱内，斜盘的两端位于同步带构成的三角形空间内，并固定在密封舱的侧壁上；斜盘位于滤网的正下方，用于承接经顶部滤网过滤后的研磨砂；位于密封舱的一侧侧壁上设置有与斜盘连通的过滤研磨砂排出口，通过过滤研磨砂排出口将斜盘内的研磨砂流出至外部的搅拌接砂桶。

9、进一步，斜盘的截面从呈v形结构，且由密封舱的一侧向设置有过滤研磨砂排出口的一侧倾斜。

10、进一步，清洗机构包括喷淋管和清洗滤网喷淋水输入口；喷淋管设置在密封舱内，喷淋管的两端位于同步带构成的三角形空间内，并固定在密封舱的侧壁上；喷淋管位于斜盘的下方，且喷淋管的一端与设置在密封舱1侧壁上的清洗滤网喷淋水输入口连通。

11、进一步，还包括杂质回收机构，杂质回收机构包括杂质排出口和回收桶；杂质排出口设置在密封舱的底部，回收桶位于杂质排出口的底部。

12、进一步，密封舱的下方设置有支撑框架。

13、本发明由于采取以上技术方案，其具有以下优点：

14、1、本发明过滤研磨后的研磨砂，经过二次配比后可以再次使用，降低晶圆研磨生产的成本，提高研磨效率。

15、2、本发明能有效减少排污量，并能有效过滤杂质进行集中处理。

技术特征：

1.一种晶圆研磨生产中的虑砂设备，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述晶圆研磨生产中的虑砂设备，其特征在于，密封舱的顶部设置有顶舱盖，顶舱盖与密封舱的顶部之间为密封连接；研磨砂输入口设置在顶舱盖上。在密封舱的顶部还设置有液位计。

3.如权利要求2所述晶圆研磨生产中的虑砂设备，其特征在于，密封舱的两侧还分别设置有加强板，用于安装研磨砂回收机构、驱动机构和清洗机构。

4.如权利要求1所述晶圆研磨生产中的虑砂设备，其特征在于，滤砂机构包括主动轴、从动轴、同步带和滤网；

5.如权利要求4所述晶圆研磨生产中的虑砂设备，其特征在于，主动轴位于从动轴下方，且两根从动轴位于同一水平线上，以保证运动至顶部的滤网一直呈一水平面，该水平面位于研磨砂输入口的正下方。

6.如权利要求4所述晶圆研磨生产中的虑砂设备，其特征在于，研磨砂回收机构包括斜盘和过滤研磨砂排出口；斜盘设置在密封舱内，斜盘的两端位于同步带构成的三角形空间内，并固定在密封舱的侧壁上；斜盘位于滤网的正下方，用于承接经顶部滤网过滤后的研磨砂；位于密封舱的一侧侧壁上设置有与斜盘连通的过滤研磨砂排出口，通过过滤研磨砂排出口将斜盘内的研磨砂流出至外部的搅拌接砂桶。

7.如权利要求6所述晶圆研磨生产中的虑砂设备，其特征在于，斜盘的截面从呈v形结构，且由密封舱的一侧向设置有过滤研磨砂排出口的一侧倾斜。

8.如权利要求4所述晶圆研磨生产中的虑砂设备，其特征在于，清洗机构包括喷淋管和清洗滤网喷淋水输入口；喷淋管设置在密封舱内，喷淋管的两端位于同步带构成的三角形空间内，并固定在密封舱的侧壁上；喷淋管位于斜盘的下方，且喷淋管的一端与设置在密封舱1侧壁上的清洗滤网喷淋水输入口连通。

9.如权利要求1所述晶圆研磨生产中的虑砂设备，其特征在于，还包括杂质回收机构，杂质回收机构包括杂质排出口和回收桶；杂质排出口设置在密封舱的底部，回收桶位于杂质排出口的底部。

10.如权利要求1所述晶圆研磨生产中的虑砂设备，其特征在于，密封舱的下方设置有支撑框架。

技术总结
本发明涉及一种晶圆研磨生产中的虑砂设备，其包括：密封舱，其顶部设置有研磨砂输入口；滤砂机构，设置在密封舱内，位于研磨砂输入口下方，并由驱动机构带动滤砂机构进行转动，以对输入的研磨砂进行高效过滤；研磨砂回收机构，设置在密封舱内，位于滤砂机构的中部，用于接收经滤砂机构过滤后的研磨砂；清洗机构，设置在密封舱内，用于对滤砂机构进行清洗。本发明能实现研磨砂的回收，同时防止研磨砂的凝固，过滤杂质的排出，并能冲洗滤网防止滤网堵孔。

技术研发人员：杨海波,杨海扣
受保护的技术使用者：无锡扣华科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15