可调节工件位置的真空镀膜设备、镀膜方法与流程

本申请涉及真空镀膜，特别是涉及一种可调节工件位置的真空镀膜设备、镀膜方法。

背景技术：

1、真空镀膜技术通常是将待镀膜的基板置入工艺腔以完成镀膜。在镀膜过程中，承载基板的基板架(carrier)处于工艺腔，基板与基板架的支撑部分难以避免地相互接触，以致基板局部被遮挡，被遮挡区域显然难以完成镀膜。

2、常规处理方式是在基板完成初次镀膜后，将基板和基板架共同送出真空环境的工艺腔，离开真空环境后调整基板与基板架的相对位置关系，以暴露初次镀膜时基板的被遮挡区域，然而送入工艺腔进行二次镀膜。

3、上述技术方案中，完成真空镀膜的工艺腔，在完成初始镀膜后需要解除真空，才能送出基板架和基板；并且在二次镀膜前，还需要重新制造真空环境。也就是说，表面来看是完成了两次镀膜，但实际上还增加了解除真空和制造真空的操作时间，导致生产节拍大幅增加。

技术实现思路

1、基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种可调节工件位置的真空镀膜设备。

2、本申请可调节工件位置的真空镀膜设备，包括：

3、工艺腔，用于真空镀膜；

4、过渡腔，邻接所述工艺腔设置；

5、工件架，用于承载待镀膜的工件，可在工艺腔和过渡腔之间移动；

6、推动件，活动设置在所述工件架上，具有第一位置和第二位置，用于推动所述工件在工件架上移动；

7、第一动力装置，设置于所述过渡腔内，用于驱动所述推动件。

8、以下还提供了若干可选方式，但并不作为对上述总体方案的额外限定，仅仅是进一步的增补或优选，在没有技术或逻辑矛盾的前提下，各可选方式可单独针对上述总体方案进行组合，还可以是多个可选方式之间进行组合。

9、可选的，所述工件架为立式结构；

10、所述真空镀膜设备包括阻挡件，所述阻挡件活动设置在所述工件架上，具有容许所述推动件从第一位置移动到第二位置的释放状态，以及阻止所述推动件从所述第二位置返回所述第一位置的阻挡状态。

11、可选的，所述阻挡件转动设置在所述工件架上。

12、可选的，所述阻挡件仅可单向转动。

13、可选的，所述阻挡件的自然状态为释放状态，所述阻挡件依靠所述工件自重保持于阻挡状态；

14、所述过渡腔内设置有驱动所述阻挡件从释放状态切换为阻挡状态的第二动力装置。

15、可选的，所述阻挡件的自然状态为阻挡状态，由所述推动件推动切换为释放状态。

16、可选的，所述阻挡件依靠重力复位。

17、可选的，包括高于所述第一位置、用于承载所述工件的承托件。

18、本申请提供一种真空镀膜设备的镀膜方法，包括：

19、将工件装载于工件架上，在工艺腔内进行第一次镀膜；

20、工件架带动工件进入过渡腔，推动所述工件在工件架上发生移位；

21、工件架连同工件返回工艺腔，进行第二次镀膜。

22、可选的，所述镀膜方法包括：在过渡腔内对所述工件进行降温处理。

23、本申请可调节工件位置的真空镀膜设备、镀膜方法至少具有以下技术效果：

24、本申请可调节工件位置的真空镀膜设备，可在过渡腔内利用第一动力装置驱动推动件完成位置切换，推动件位置切换并带动工件相对于工件架的进行位置调节，从而暴露出位置调节前的遮挡区域，以进行遮挡区域在工艺腔内的镀膜。

25、本申请真空镀膜设备的镀膜方法中，工件受到工件架的装载，二者之间存在接触区域。在工件进行第一次镀膜时，接触区域被工件架遮挡无法镀膜。本申请将工件架移入过渡腔进行工件的移位，改变工件和工件架的接触区域，保持返回工艺腔进行第二次镀膜，使得在第一次镀膜时被遮挡的未镀膜区域实现镀膜，最终工件的所有表面全部完成镀膜。本申请进一步在过渡腔内对工件进行降温处理，即在移位的过程中降低工件温度。

技术特征：

1.可调节工件位置的真空镀膜设备，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述工件架为立式结构；

3.如权利要求2所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述阻挡件转动设置在所述工件架上。

4.如权利要求3所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述阻挡件仅可单向转动。

5.如权利要求4所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述阻挡件的自然状态为释放状态，所述阻挡件依靠所述工件自重保持于阻挡状态；

6.如权利要求4所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述阻挡件的自然状态为阻挡状态，由所述推动件推动切换为释放状态。

7.如权利要求5或6任一项所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述阻挡件依靠重力复位。

8.如权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，包括高于所述第一位置、用于承载所述工件的承托件。

9.真空镀膜设备的镀膜方法，其特征在于，包括：

10.如权利要求9所述的镀膜方法，其特征在于，包括：在过渡腔内对所述工件进行降温处理。

技术总结
本申请公开了一种可调节工件位置的真空镀膜设备、镀膜方法，可调节工件位置的真空镀膜设备包括：工艺腔，用于真空镀膜；过渡腔，邻接工艺腔设置；工件架，用于承载待镀膜的工件，可在工艺腔和过渡腔之间移动；推动件，活动设置在工件架上，具有第一位置和第二位置，用于推动工件在工件架上移动；第一动力装置，设置于过渡腔内，用于驱动推动件。镀膜方法包括：将工件装载于工件架上，在工艺腔内进行第一次镀膜；工件架带动工件进入过渡腔，推动工件在工件架上发生移位；工件架连同工件返回工艺腔，进行第二次镀膜。本申请在过渡腔内驱动推动件位置切换，带动工件相对工件架进行位置调节，从而暴露出位置调节前的遮挡区域，完成遮挡区域的镀膜。

技术研发人员：蔡明慧,娄国明,徐建柱,沈纬徵,郑博鸿
受保护的技术使用者：安徽越好电子装备有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15