一种双面晶片抛光机的制作方法

文档序号:36635309发布日期:2024-01-06 23:22阅读:22来源:国知局
一种双面晶片抛光机的制作方法

本发明涉及双面抛光机,具体涉及一种双面晶片抛光机。


背景技术:

1、晶片是一种光学器件,通常用于选择性地透过或阻挡特定波长范围的光线,以满足特定的光学或光电应用需求。它们在许多领域中都有广泛的应用,包括成像、光谱分析、通信、激光技术和光学传感器等。而在晶片加工过程中需要通过成型、切割和抛光等多道工序进行加工,且抛光尤为重要,主要的作用保证晶片的清晰度,维保晶片加工效率,采用双面抛光机来进行抛光作业,不仅能够同时对双面进行抛光,而且抛光的效率显著提高。

2、申请号为cn201810996937.7的中国专利提供了一种双面抛光机与抛光方法。该双面抛光机包括机架、上抛光盘、下抛光盘、中心齿轮、外齿轮和驱动组件,上抛光盘、下抛光盘、中心齿轮、外齿轮分别独立地设置于机架上,中心齿轮设置于外齿轮的中心位置处,中心齿轮与外齿轮之间具有容纳空间,用于啮合放置晶片的游星轮,容纳空间位于上抛光盘与下抛光盘之间,驱动组件包括:第一驱动装置,设置于机架上并与上抛光盘连接,用于驱动上抛光盘转动;第二驱动装置,设置于机架上并与下抛光盘连接,用于驱动下抛光盘与上抛光盘同向转动;第三驱动装置,设置于机架上并与中心齿轮连接,用于驱动中心齿轮转动;第四驱动装置,设置于机架上并与外齿轮连接,用于驱动外齿轮转动。

3、双面抛光机中的磨盘在使用一段时间后会有磨损,会对晶片的抛光产生影响,导致晶片抛光不平,无法保证抛光运行时的稳定性。


技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种双面晶片抛光机,具备了可自动切换更换磨盘的优点,不仅提高了拆装更换时的效率,而且保证了抛光的精度以及运行时的稳定性,以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种双面晶片抛光机,包括箱体、转动机构、上下料机构、清理机构、辅助机构、定位机构、限位机构、顶升机构、防护机构和驱动机构,所述箱体的一端设置有对抛光盘以及清理时方向调节的转动机构,所述转动机构的一侧设置有对抛光盘取放时的上下料机构,所述转动机构的另一侧设置有清理机构,所述辅助机构设置于箱体顶部的一端,所述定位机构分别设置于辅助机构的两侧,所述限位机构设置于箱体的顶部,所述限位机构位于辅助机构的下方所述防护机构设置于箱体的顶部,所述驱动机构设置于箱体内腔的底部。

3、示例性的,所述转动机构包括底板、第一电机、电动滑台和顶板,所述底板安装于箱体一端的下部,所述第一电机安装于底板的顶部,所述电动滑台键连接于第一电机的输出轴,所述顶板安装于箱体一端的上部,所述电动滑台的顶端贯穿顶板,所述电动滑台与顶板之间转动连接。

4、示例性的,所述上下料机构包括第一连接架、第一电动推杆、载架、支撑杆和支撑座,所述第一连接架安装于电动滑台移动端的一侧,所述第一电动推杆固定贯穿安装于第一连接架的一侧,所述载架安装于第一电动推杆的输出端,所述支撑杆安装于载架的外侧,所述支撑座安装于支撑杆远离载架的一端。

5、示例性的,所述清理机构包括第二连接架、第二电动推杆、第二电机、横板、第三电机、固定架和毛刷板,所述第二连接架安装于电动滑台移动端的另一侧,所述第二电动推杆贯穿固定安装于第二连接架的一侧,所述第二电机安装于第二电动推杆的输出端,所述横板键连接于第二电机的输出轴,所述第三电机安装于横板的顶部,所述固定架键连接于第三电机的输出轴,所述毛刷板栓接于固定架的底部。

6、示例性的,所述辅助机构包括支柱、支板、第三电动推杆、连接座、上磨盘、连接块、插槽、集流盘和排液管;

7、所述支柱安装于箱体顶部的一端,所述支板安装于支柱的顶端,所述第三电动推杆安装于支板顶部的一端,所述连接座转动连接于第三电动推杆的输出端,所述插槽开设于上磨盘内侧壁,所述上磨盘通过插槽卡接于连接座的底部,所述连接块分别安装于上磨盘内壁的另外两侧,所述集流盘固定安装于连接座的上方,所述排液管贯穿连通于集流盘内腔的底部,所述排液管的底端贯穿连接座。

8、示例性的,所述定位机构包括竖板、第四电动推杆、传动架、横杆、第一弹簧、挡板、插块和加固架,所述竖板分别固定安装于连接座的两侧,所述第四电动推杆固定安装于竖板内侧的上部,所述传动架固定安装于第四电动推杆的输出端,所述第一弹簧安装于连接座的内侧壁,所述挡板与第一弹簧并且远离连接座内侧壁的一端连接,所述插块安装于挡板的底端,所述横杆安装于传动架内侧的一端,所述横杆活动穿过连接座以及第一弹簧的内部并且与挡板固定连接,所述插块插于插槽的内部。

9、示例性的,所述加固架的一端安装于挡板和插块的夹角连接处,所述加固架的另一端活动穿过连接座并且与传动架固定连接。

10、示例性的,所述限位机构包括限位块、下磨盘和限位槽,所述限位块分别安装于箱体凹陷处内腔底部的四周,所述下磨盘放置于限位块的顶部,所述限位槽开设于下磨盘底部的四周,所述限位块位于限位槽的内部。

11、示例性的,所述顶升机构包括载板、第五电动推杆和推块,所述载板设置于驱动机构的外侧,所述第五电动推杆分别安装于载板顶部的两端,所述推块安装于第五电动推杆的输出端。

12、示例性的,所述防护机构包括第二弹簧、顶块、防护圈和凹槽,所述第二弹簧分别安装于箱体顶部凹陷处的两侧,所述顶块安装于第二弹簧的顶端,所述防护圈底部的两侧均开设有凹槽,所述顶块位于凹槽的内部。

13、与现有技术相比,本发明的有益效果是:

14、1、本发明通过转动机构的设置,可用于对自动切换更换时实现方向以及高度位置的调节作业,而上下料机构则利于对更换时对盘体进行支撑载放,同时方便进行取放作业,第一电机起到方向调整的作用,电动滑台可调节所需的高度位置,第一电动推杆起到位置延伸调节的作用,载架、支撑杆和支撑座则对盘体完成支撑,从而方便进行上下料工作。

15、2、本发明经清理机构的设置,可用于对两组盘体进行清理作业,以避免造成盘底磨面槽口处堵塞,保证抛光时不受影响,利用第二电动推杆起到位置延伸调节的通,第二电机可对毛刷板完成正反面的调节工作,且第三电机配合毛刷板直接对盘体的磨面进行清理。

16、3、本发明经定位机构的设置,起到了对上部位置的盘体进行支撑固定,以保证其转动抛光时的稳定性,同时可辅助其提高拆装时的效率,第四电动推杆可用于使其施加推力解除夹持固定,传动架、横杆、第一弹簧、挡板和插块的配合则利于实现对上部的盘体进行弹性夹持固定。



技术特征:

1.一种双面晶片抛光机,其特征在于:包括箱体(1)、转动机构(2)、上下料机构(3)、清理机构(4)、辅助机构(5)、定位机构(6)、限位机构(7)、顶升机构(8)、防护机构(9)和驱动机构(10),所述箱体(1)的一端设置有对抛光盘以及清理时方向调节的转动机构(2),所述转动机构(2)的一侧设置有对抛光盘取放时的上下料机构(3),所述转动机构(2)的另一侧设置有清理机构(4),所述辅助机构(5)设置于箱体(1)顶部的一端,所述定位机构(6)分别设置于辅助机构(5)的两侧,所述限位机构(7)设置于箱体(1)的顶部,所述限位机构(7)位于辅助机构(5)的下方,所述防护机构(9)设置于箱体(1)的顶部,所述驱动机构(10)设置于箱体(1)内腔的底部;

2.根据权利要求1所述的一种双面晶片抛光机,其特征在于:所述转动机构(2)包括底板(21)、第一电机(22)、电动滑台(23)和顶板(24),所述底板(21)安装于箱体(1)一端的下部,所述第一电机(22)安装于底板(21)的顶部,所述电动滑台(23)键连接于第一电机(22)的输出轴,所述顶板(24)安装于箱体(1)一端的上部,所述电动滑台(23)的顶端贯穿顶板(24),所述电动滑台(23)与顶板(24)之间转动连接。

3.根据权利要求2所述的一种双面晶片抛光机,其特征在于:所述上下料机构(3)包括第一连接架(31)、第一电动推杆(32)、载架(33)、支撑杆(34)和支撑座(35),所述第一连接架(31)安装于电动滑台(23)移动端的一侧,所述第一电动推杆(32)固定贯穿安装于第一连接架(31)的一侧,所述载架(33)安装于第一电动推杆(32)的输出端,所述支撑杆(34)安装于载架(33)的外侧,所述支撑座(35)安装于支撑杆(34)远离载架(33)的一端。

4.根据权利要求2所述的一种双面晶片抛光机,其特征在于:所述清理机构(4)包括第二连接架(41)、第二电动推杆(42)、第二电机(43)、横板(44)、第三电机(45)、固定架(46)和毛刷板(47),所述第二连接架(41)安装于电动滑台(23)移动端的另一侧,所述第二电动推杆(42)贯穿固定安装于第二连接架(41)的一侧,所述第二电机(43)安装于第二电动推杆(42)的输出端,所述横板(44)键连接于第二电机(43)的输出轴,所述第三电机(45)安装于横板(44)的顶部,所述固定架(46)键连接于第三电机(45)的输出轴,所述毛刷板(47)栓接于固定架(46)的底部。

5.根据权利要求1所述的一种双面晶片抛光机,其特征在于:所述定位机构(6)包括竖板(61)、第四电动推杆(62)、传动架(63)、横杆(64)、第一弹簧(65)、挡板(66)、插块(67)和加固架(68),所述竖板(61)分别固定安装于连接座(54)的两侧,所述第四电动推杆(62)固定安装于竖板(61)内侧的上部,所述传动架(63)固定安装于第四电动推杆(62)的输出端,所述第一弹簧(65)安装于连接座(54)的内侧壁,所述挡板(66)与第一弹簧(65)并且远离连接座(54)内侧壁的一端连接,所述插块(67)安装于挡板(66)的底端,所述横杆(64)安装于传动架(63)内侧的一端,所述横杆(64)活动穿过连接座(54)以及第一弹簧(65)的内部并且与挡板(66)固定连接,所述插块(67)插于插槽(57)的内部。

6.根据权利要求5所述的一种双面晶片抛光机,其特征在于:所述加固架(68)的一端安装于挡板(66)和插块(67)的夹角连接处,所述加固架(68)的另一端活动穿过连接座(54)并且与传动架(63)固定连接。

7.根据权利要求1所述的一种双面晶片抛光机,其特征在于:所述限位机构(7)包括限位块(71)、下磨盘(72)和限位槽(73),所述限位块(71)分别安装于箱体(1)凹陷处内腔底部的四周,所述下磨盘(72)放置于限位块(71)的顶部,所述限位槽(73)开设于下磨盘(72)底部的四周,所述限位块(71)位于限位槽(73)的内部。

8.根据权利要求1所述的一种双面晶片抛光机,其特征在于:所述顶升机构(8)包括载板(81)、第五电动推杆(82)和推块(83),所述载板(81)设置于驱动机构(10)的外侧,所述第五电动推杆(82)分别安装于载板(81)顶部的两端,所述推块(83)安装于第五电动推杆(82)的输出端。

9.根据权利要求1所述的一种双面晶片抛光机,其特征在于:所述防护机构(9)包括第二弹簧(91)、顶块(92)、防护圈(93)和凹槽(94),所述第二弹簧(91)分别安装于箱体(1)顶部凹陷处的两侧,所述顶块(92)安装于第二弹簧(91)的顶端,所述防护圈(93)底部的两侧均开设有凹槽(94),所述顶块(92)位于凹槽(94)的内部。


技术总结
本发明公开了一种双面晶片抛光机,包括箱体、转动机构、上下料机构、清理机构、辅助机构、定位机构、限位机构、顶升机构、防护机构和驱动机构,所述箱体的一端设置有对抛光盘以及清理时方向调节的转动机构,所述转动机构的一侧设置有对抛光盘取放时的上下料机构;本发明通过转动机构的设置,可用于对自动切换更换时实现方向以及高度位置的调节作业,而上下料机构则利于对更换时对盘体进行支撑载放,同时方便进行取放作业,第一电机起到方向调整的作用,电动滑台可调节所需的高度位置,第一电动推杆起到位置延伸调节的作用,载架、支撑杆和支撑座则对盘体完成支撑,从而方便进行上下料工作。

技术研发人员:奂微微,郭军,顾德进,刘媛,杨锋
受保护的技术使用者:湖北五方晶体有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/5
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