通用型取样机构及真空处理系统的制作方法

本公开涉及真空设备，特别涉及一种通用型真空取样机构及真空处理系统。

背景技术：

1、在真空系统中，通过取样机构对样品进行传递和放置。例如，在真空镀膜工艺中，为了保证镀膜质量需要对巴条进行清洗钝化，目前采取的方式是将通过托盘将巴条送入真空处理腔内镀钝化膜，但是由于巴条正反面都需要镀钝化膜，因此需要对托盘进行翻转。大部分的传统机构无法完成翻转，需要将巴条取出翻转后再次送入，操作繁琐，且使得未完全镀膜的巴条暴露在大气中，影响后续镀膜质量。

技术实现思路

1、本公开提供了一种真空取样机构，其特征在于，包括：细长真空腔；取样组件，设置在细长真空腔外，取样组件包括第一取样爪和与第一取样爪相配合的第二取样爪，第一取样爪和第二取样爪能够张开或闭合以进行取样；以及取样驱动轴，取样驱动轴的近端设置在细长真空腔内，并且取样驱动轴的远端与取样组件连接，用于驱动第一取样爪和第二取样爪张开或闭合。

2、在一些实施例中，取样组件还包括：基托；第一滑动组件，第一滑动组件包括：第一滑座，设置在基托上；以及第一滑条，与第一滑座滑动连接，并且与第一取样爪固定连接；以及第二滑动组件，第二滑动组件包括：第二滑座，设置在基托上；以及第二滑条，与第二滑座滑动连接，并且与第二取样爪固定连接。

3、在一些实施例中，第一滑座包括第一滑槽以及设置在第一滑槽的至少一个内壁上的多个第一滚子，第一滑条设置在第一滑槽中并且与多个第一滚子滚动连接；以及第二滑座包括第二滑槽以及设置在第二滑槽的至少一个内壁上的多个第二滚子，第二滑条设置在第二滑槽中并且与多个第二滚子滚动连接。

4、在一些实施例中，第一滚子或第二滚子包括滚珠或滚轮；和/或第一滑槽或第二滑槽包括设置有多个第一滚子或多个第二滚子的四个内壁。

5、在一些实施例中，第一滑条包括第一齿条；第二滑条包括第二齿条，第一齿条和第二齿条相对设置；以及取样驱动轴还包括设置在远端的齿轮，齿轮与第一齿条和第二齿条啮合，用于驱动第一齿条和第二齿条向相反方向运动，带动第一滑条和第二滑条向相反方向运动，以驱动第一取样爪和第二取样爪张开或闭合。

6、在一些实施例中，第一取样爪包括至少一个第一取样指，第一取样指上设置有用于与样品托的第一定位结构配合的第一卡合结构；和/或第二取样爪包括至少一个第二取样指，第二取样指上设置有用于与样品托的第二定位结构配合的第二卡合结构。

7、在一些实施例中，真空取样机构还包括：取样驱动组件，与取样驱动轴耦合，用于驱动取样驱动轴旋转，以用于驱动第一取样爪和第二取样爪张开或闭合；翻转驱动轴，翻转驱动轴的近端设置在细长真空腔内，并且翻转驱动轴的远端与取样机构连接；以及翻转驱动组件，与翻转驱动轴耦合，用于驱动翻转驱动轴旋转，以带动取样机构翻转。

8、在一些实施例中，翻转驱动轴套设在取样驱动轴外，并且在取样驱动组件和翻转驱动组件协同驱动取样组件，使得取样组件翻转时，保持张开或闭合。

9、在一些实施例中，取样驱动轴的近端设置有取样传动磁组件，取样驱动组件包括取样电机和设置在细长真空腔外并与取样传动磁组件磁耦合的取样驱动磁组件，取样电机的输出端与取样驱动磁组件耦合并驱动取样驱动磁组件旋转，带动取样传动磁组件和取样驱动轴旋转，以驱动第一取样爪和第二取样爪张开或闭合；和/或翻转驱动轴的近端设置有翻转传动磁组件，翻转驱动组件包括翻转电机和设置在细长真空腔外并与翻转传动磁组件磁耦合的翻转驱动磁组件，翻转电机的输出端与翻转驱动磁组件耦合并在驱动翻转驱动磁组件旋转，带动翻转传动磁组件和翻转驱动轴旋转，以驱动取样组件翻转。

10、本公开提供了一种真空处理系统，包括：真空处理腔；根据本公开的一些实施例中的任意一项的真空取样机构，真空取样机构的细长真空腔与真空处理腔真空密封连接，真空取样机构的第一取样爪和第二取样爪用于对真空处理腔内的样品进行取样。

11、根据本公开一些实施例的真空取样机构能够带来有益的技术效果。例如，本公开一些实施例的真空取样机构能够解决常规技术中以下问题中的一项或多项：翻转操作繁琐、影响镀膜质量、镀膜效率低、无法大规模生产，能够实现简化翻转操作步骤、提高镀膜质量、提高镀膜效率、广泛适用于各种样品的技术效果。

12、根据本公开一些实施例的真空处理系统能够带来有益的技术效果。例如，本公开一些实施例的真空处理系统能够解决常规技术中以下问题中的一项或多项：镀膜操作复杂、镀膜质量低、镀膜效率低，能够实现简化镀膜操作、提高镀膜质量和镀膜效率、适用于生产的技术效果。

技术特征：

1.一种真空取样机构，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的真空取样机构，其特征在于，所述取样组件还包括：

3.根据权利要求2所述的真空取样机构，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的真空取样机构，其特征在于，

5.根据权利要求2所述的真空取样机构，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的真空取样机构，其特征在于，

7.根据权利要求1-6中任一项所述的真空取样机构，其特征在于，还包括：

8.根据权利要求7所述的真空取样机构，其特征在于，

9.根据权利要求7所述的真空取样机构，其特征在于，

10.一种真空处理系统，其特征在于，包括：

技术总结
本公开提供了一种真空取样机构及真空处理系统，真空取样机构包括：细长真空腔；取样组件，设置在细长真空腔外，取样组件包括第一取样爪和与第一取样爪相配合的第二取样爪，第一取样爪和第二取样爪能够张开或闭合以进行取样；以及取样驱动轴，取样驱动轴的近端设置在细长真空腔内，并且取样驱动轴的远端与取样组件连接，用于驱动第一取样爪和第二取样爪张开或闭合。

技术研发人员：谢斌平,陈飞,王天邻,陈志刚,张鹏
受保护的技术使用者：费勉仪器科技（上海）有限公司
技术研发日：20230104
技术公布日：2024/1/13