一种瓷砖磨块的制作方法

本技术涉及瓷砖磨块行业领域，特别涉及了一种瓷砖磨块。

背景技术：

1、目前，磨块为釉面抛光的主要模具，其安装在抛光机的磨头上，以用于对釉砖进行抛光。

2、现有的瓷砖抛光磨块，其磨削层主要由沿竖向、横向间隔布置的矩形齿状刀头瓷砖磨块组成，这使得磨削层形成横向和竖向的间隙，当抛光打磨块高速旋转磨抛时，被其抛光后的加工面上沿运动轨迹方向容易出现一道道的磨痕，从而影响磨抛的质量，并降低生产效率。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种瓷砖磨块，旨在解决现有技术中瓷砖抛光后的加工面上容易出现磨痕的问题。

2、为了达到上述的目的，本实用新型提供了一种瓷砖磨块，包括磨削组件，磨削组件包括有第一抛光部和第二抛光部，第一抛光部包括有两组，两组第一抛光部分别位于第二抛光部两侧，第一抛光部呈梯形结构，第二抛光部呈矩形结构，磨削组件上设置有打磨块，打磨块在磨削组件表面沿水平中轴线对称分布，第一抛光部包括有至少一行打磨块，第二抛光部包括有至少两行打磨块，打磨块呈三角形结构，相邻两打磨块之间设置有间隙，每行上相邻两打磨块的侧边相互平行，相邻两行打磨块之间设置有排屑槽。

3、通过采用上述技术方案，能够使该瓷砖磨块在抛光打磨瓷砖时打磨的更均匀，能够有效避免瓷砖上出现划痕，且该瓷砖磨块的形状结构在使用时能够有效避免抛光机上相邻的两瓷砖磨块发生碰撞形成干扰，梯形结构的第一抛光部适合抛光瓷砖边缘，矩形结构的第二抛光部可用于大面积的抛光打磨，能够提高该打磨块的利用率。

4、优选的，第一抛光部设置有两组，两组第一抛光部分别位于第二抛光部两侧。

5、通过采用上述技术方案，瓷砖磨块两侧均可以抛光瓷砖边缘，能减少抛光机的磨盘伸出砖面外的部分，进一步的，提高该打磨块的利用率。

6、优选的，每行打磨块分别设置有至少三个，该三个打磨块呈拼接结构，以使磨削组件上形成至少三种倾斜角度的间隙。

7、通过采用上述技术方案，使得该瓷砖磨块整个磨削面的磨痕更均匀，并且能使该瓷砖磨块具有一定的保水量，进而能避免其过热，影响该瓷砖磨块的使用寿命。

8、优选的，第二抛光部上打磨块的面积大于第一抛光部上打磨块的面积，第二抛光部上打磨块分布的密度小于第一抛光部上打磨块分布的密度。

9、通过采用上述技术方案，得第一抛光部和第二抛光部能够同步消耗，能够有效保证该瓷砖磨块打磨时的平稳性，并且能够有效避免瓷砖上出现划痕。

10、优选的，打磨块设置为梯形体结构，打磨块上朝向磨削组件一侧的截面面积大于其远离磨削组件一侧的截面面积。

11、通过采用上述技术方案，能够有效保持打磨块的锋利度，抛光效果更好。

12、优选的，位于第一抛光部上的打磨块设置有缓冲部，缓冲部设置为倾斜结构，倾斜方向为沿打磨块底部远离第二抛光部方向上倾斜向上。

13、通过采用上述技术方案，能够有效避免瓷砖上出现划痕，并且能够降低该瓷砖磨块上打磨块因直向撞击瓷砖所产生的非正常消耗，进而延长该瓷砖磨块使用寿命。

14、优选的，还包括夹持头、缓冲垫，缓冲垫固定于夹持头与磨削组件之间，缓冲垫分别与夹持头、磨削组件粘接连接。

15、通过采用上述技术方案，满足该瓷砖磨块的实用性。

16、优选的，缓冲垫分别与夹持头、磨削组件粘接连接，缓冲垫设置有至少两个，排屑槽位于相邻两缓冲垫之间。

17、通过采用上述技术方案，能够有效避免因缓冲垫弹性回缩出现漏抛的现象，并且能使该瓷砖磨块具有一定的保水量，进而能避免其过热。

18、本实用新型所提供的一种瓷砖磨块，能够使该瓷砖磨块在抛光打磨瓷砖时打磨的更均匀，能够有效避免瓷砖上出现划痕，且该瓷砖磨块的形状结构在使用时能够有效避免抛光机上相邻的两瓷砖磨块发生碰撞形成干扰，该瓷砖磨块对于瓷砖边缘和瓷砖面板都能很好的抛光打磨，能够有效提高该打磨块的利用率。

技术特征：

1.一种瓷砖磨块，其特征在于：包括磨削组件(1)，磨削组件(1)包括有第一抛光部(11)和第二抛光部(12)，第一抛光部(11)包括有两组，两组第一抛光部(11)分别位于第二抛光部(12)两侧，第一抛光部(11)呈梯形结构，第二抛光部(12)呈矩形结构，磨削组件(1)上设置有打磨块(13)，打磨块(13)在磨削组件(1)表面沿水平中轴线对称分布，第一抛光部(11)包括有至少一行打磨块(13)，第二抛光部(12)包括有至少两行打磨块(13)，打磨块(13)呈三角形结构，相邻两打磨块(13)之间设置有间隙，每行上相邻两打磨块(13)的侧边相互平行，相邻两行打磨块(13)之间设置有排屑槽(14)。

2.根据权利要求1所述的一种瓷砖磨块，其特征在于：每行打磨块(13)分别设置有至少三个，该三个打磨块(13)呈拼接结构，以使磨削组件(1)上形成至少三种倾斜角度的间隙。

3.根据权利要求1所述的一种瓷砖磨块，其特征在于：第二抛光部(12)上打磨块(13)的面积大于第一抛光部(11)上打磨块(13)的面积，第二抛光部(12)上打磨块(13)分布的密度小于第一抛光部(11)上打磨块(13)分布的密度。

4.根据权利要求1所述的一种瓷砖磨块，其特征在于：打磨块(13)设置为梯形体结构，打磨块(13)上朝向磨削组件(1)一侧的截面面积大于其远离磨削组件(1)一侧的截面面积。

5.根据权利要求1所述的一种瓷砖磨块，其特征在于：位于第一抛光部(11)上的打磨块(13)设置有缓冲部(15)，缓冲部(15)设置为倾斜结构，倾斜方向为沿打磨块(13)底部远离第二抛光部(12)方向上倾斜向上。

6.根据权利要求1所述的一种瓷砖磨块，其特征在于：还包括夹持头(2)、缓冲垫(3)，缓冲垫(3)固定于夹持头(2)与磨削组件(1)之间，缓冲垫(3)分别与夹持头(2)、磨削组件(1)粘接连接。

7.根据权利要求6所述的一种瓷砖磨块，其特征在于：缓冲垫(3)设置有至少两个，排屑槽(14)位于相邻两缓冲垫(3)之间。

技术总结
本技术涉及瓷砖磨块领域，具体公开了一种瓷砖磨块，包括磨削组件，磨削组件包括有第一抛光部和第二抛光部，第一抛光部呈梯形结构，第二抛光部呈矩形结构，磨削组件上设置有打磨块，打磨块在磨削组件上沿水平中轴线对称分布，第一抛光部包括有至少一行打磨块，第二抛光部包括有至少两行打磨块，打磨块呈三角形结构，相邻两打磨块之间设置有间隙，每行上相邻两打磨块的侧边相互平行，相邻两行打磨块之间设置有排屑槽，能够使该瓷砖磨块在抛光打磨瓷砖时打磨的更均匀，能够有效避免瓷砖上出现划痕。

技术研发人员：沈福林
受保护的技术使用者：佛山市盛科新材料有限公司
技术研发日：20230114
技术公布日：2024/1/12