一种改良遮挡板的线源蒸镀设备的制作方法

文档序号:35032777发布日期:2023-08-05 19:28阅读:26来源:国知局
一种改良遮挡板的线源蒸镀设备的制作方法

本技术属于蒸镀设备的,具体涉及一种改良遮挡板的线源蒸镀设备。


背景技术:

1、有机发光二级管(organiclightemittingdiode,oled)因具有响应速度快、高对比度、可柔性化、低功耗、宽视角、广色域、超轻薄等特点,在高性能的显示区域,作为自主发光的器件发展越来越迅速。

2、目前oled器件采用的主流制备方式可分为两种,蒸镀和喷墨打印,蒸镀由于其技术成熟,良率高,至今仍为主要的制备方法。一般蒸镀机根据蒸镀源的分类,可分为点源、线源、面源。其中点源主要用于中小型尺寸的面板,线源和面源用于中型和大型面板的生产。蒸镀法是一种属于物理气相沉积的真空镀膜技术,其原理为将蒸镀的材料置于真空蒸发源装置的坩埚内,通过对坩埚加热,使材料从固态转化为气态的原子、原子团或分子,然后凝聚到待镀膜的基板表面形成薄膜。

3、线源蒸镀设备(例如日本真空技术株式会社生产的蒸镀机,型号zelda750)的线性蒸发源会设计成几个独立隔开的结构,目的是为了放置坩埚,充分利用空间。在每个线性蒸发源的上方增加对应的线性蒸发源遮挡板(如图1所示),起到控制蒸镀过程中使用到不同的坩埚进行蒸镀成膜。由于线性蒸发源遮挡板是置于线性蒸发源的上方,在蒸镀时,会受到相邻坩埚的蒸镀材料的污染。当线性蒸发源遮挡板随着蒸镀上的材料积累越来越多时,若进行线性蒸发源挡板切换时,积累在线性蒸发源遮挡板上的混合材料存在掉落的风险,从而会污染自身的蒸发源。


技术实现思路

1、本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种改良遮挡板的线源蒸镀设备。

2、本实用新型是这样实现的:

3、一种改良遮挡板的线源蒸镀设备,包括:蒸镀腔体,所述蒸镀腔体内设有多个装有蒸镀材料的坩埚,每个所述坩埚上方设有一可升降的遮挡板机构;所述遮挡板机构,包括:一u形遮挡板,所述u形遮挡板下方连接一u形下垂板;所述u形下垂板位于所述u形遮挡板的中心位置,并且其宽度小于所述u形遮挡板的宽度。

4、进一步地,所述u形遮挡板和所述u形下垂板活动连接。

5、进一步地,所述u形下垂板的两端分别设有一耳部,通过两个所述耳部与所述u形遮挡板活动连接。

6、进一步地,所述u形遮挡板的底面板两端分别设有一镂空窗口,每个所述镂空窗口上方的所述u形遮挡板的侧面板上可拆卸式连接一“l”形或“┣”连接板;所述u形下垂板的两个所述耳部分别从底部穿过所述镂空窗口与所述“l”形或“┣”连接板可拆卸式连接。

7、进一步地,所述u形遮挡板和所述u形下垂板固定连接。

8、本实用新型的优点在于:

9、1、本实用新型的线源蒸镀设备的遮挡板增加了一下垂板,使得当升降机构将遮挡板连同下垂板提起时,下垂板的高度比较低,起到遮盖自身的坩埚内蒸发出的材料,避免污染相邻线性蒸发源遮挡板的作用。

10、2、本实用新型的线源蒸镀设备的遮挡板增加的下垂板的宽度小于遮挡板的宽度,其在两端预留出空间,不会影响到该坩埚蒸镀时监测镀率。



技术特征:

1.一种改良遮挡板的线源蒸镀设备,包括:蒸镀腔体,所述蒸镀腔体内设有多个装有蒸镀材料的坩埚,每个所述坩埚上方设有一可升降的遮挡板机构;其特征在于:所述遮挡板机构,包括:一u形遮挡板,所述u形遮挡板下方连接一u形下垂板;所述u形下垂板位于所述u形遮挡板的中心位置,并且其宽度小于所述u形遮挡板的宽度。

2.如权利要求1所述的一种改良遮挡板的线源蒸镀设备,其特征在于:所述u形遮挡板和所述u形下垂板活动连接。

3.如权利要求2所述的一种改良遮挡板的线源蒸镀设备,其特征在于:所述u形下垂板的两端分别设有一耳部,通过两个所述耳部与所述u形遮挡板活动连接。

4.如权利要求3所述的一种改良遮挡板的线源蒸镀设备,其特征在于:所述u形遮挡板的底面板两端分别设有一镂空窗口,每个所述镂空窗口上方的所述u形遮挡板的侧面板上可拆卸式连接一“l”形或“┣”连接板;所述u形下垂板的两个所述耳部分别从底部穿过所述镂空窗口与所述“l”形或“┣”连接板可拆卸式连接。

5.如权利要求1所述的一种改良遮挡板的线源蒸镀设备,其特征在于:所述u形遮挡板和所述u形下垂板固定连接。


技术总结
一种改良遮挡板的线源蒸镀设备,包括:蒸镀腔体,所述蒸镀腔体内设有多个装有蒸镀材料的坩埚,每个所述坩埚上方设有一可升降的遮挡板机构;所述遮挡板机构,包括:一U形遮挡板,所述U形遮挡板下方连接一U形下垂板;所述U形下垂板位于所述U形遮挡板的中心位置,并且其宽度小于所述U形遮挡板的宽度。本技术的线源蒸镀设备的遮挡板增加了一下垂板,使得当升降机构将遮挡板连同下垂板提起时,下垂板的高度比较低,起到遮盖自身的坩埚内蒸发出的材料,避免污染相邻线性蒸发源遮挡板的作用。

技术研发人员:黄逸臻,张麒麟,吴晟远
受保护的技术使用者:福建华佳彩有限公司
技术研发日:20230217
技术公布日:2024/1/13
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