掩膜板的制作方法

本申请涉及掩膜板的，特别是涉及一种掩膜板。

背景技术：

1、在生产oled(organic light-emitting diode，有机发光二极管)显示屏的过程中，多层金属材料、无机材料或有机材料需要采用蒸镀的方式逐层沉积到玻璃基板上。在蒸镀制程中，金属掩膜板被用来遮挡待蒸镀的玻璃基板以形成特定图案，金属掩膜板可以包括cmm(common metal mask，通用金属掩膜板)。

2、目前，在将掩膜板焊接到掩膜板框架之前，还需要拉伸掩膜板，使其紧绷，从而使掩膜板图形达到设定位置。但是，由于拉伸后的掩膜板受到内部应力不均匀，其中间部分会向下弯曲，掩膜板表面也会产生褶皱。

技术实现思路

1、本申请主要解决的技术问题是提供一种掩膜板，以解决现有技术中拉伸后的掩膜板受到内部应力不均匀，其中间部分会向下弯曲，掩膜板表面也会产生褶皱的问题。

2、为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种掩膜板，其包括：掩膜板主体；至少一个蒸镀部，所述至少一个蒸镀部设置于所述掩膜板主体的中部，用于供蒸发的有机物质通过；至少两个第一张网部，所述至少两个第一张网部设置于所述掩膜板主体，其中两个所述第一张网部沿第一方向设置于所述蒸镀部的两侧，两个所述第一张网部和其间的所述蒸镀部的中心沿第一方向位于同一直线；其中，两个所述第一张网部沿第二方向的长度均大于或者等于2/3倍的所述蒸镀部沿第二方向的长度，且两个所述第一张网部沿第二方向的长度均小于或者等于所述蒸镀部沿第二方向的长度；至少两个第二张网部，所述至少两个第二张网部设置于所述掩膜板主体，其中两个所述第二张网部沿第二方向设置于所述蒸镀部的两侧，两个所述第二张网部和其间的所述蒸镀部的中心沿第二方向位于同一直线；其中，两个所述第二张网部沿第一方向的长度均大于或者等于2/3倍的所述蒸镀部沿第一方向的长度，且两个所述第二张网部沿第一方向的长度均小于或者等于所述蒸镀部沿第一方向的长度；其中，所述第一方向垂直于所述第二方向。

3、其中，所述第一张网部开设有若干第一开口，所述若干第一开口沿第一方向或者沿第二方向间隔设置；所述第二张网部开设有若干第二开口，所述若干第二开口沿第一方向或者沿第二方向间隔设置。

4、其中，所述第一开口沿第二方向的长度大于或者等于沿第一方向的长度，优选地，若干所述第一开口在第一方向上的总长度大于或者等于20mm，且小于或者等于30mm；或者若干所述第一开口在第一方向上的总长度大于或者等于40mm，且小于或者等于55mm；优选地，若干所述第一开口的形状均相同；优选地，若干所述第一开口的大小均相同；优选地，若干所述第一开口沿第一方向等间距排布在所述第一张网部上；或者所述第一开口沿第一方向的长度大于或者等于沿第二方向的长度，优选地，若干所述第一开口在第二方向上的总长度大于或者等于20mm，且小于或者等于30mm；或者若干所述第一开口在第二方向上的总长度大于或者等于40mm，且小于或者等于55mm；优选地，若干所述第一开口的形状均相同；优选地，若干所述第一开口的大小均相同；优选地，若干所述第一开口沿第二方向等间距排布在所述第一张网部上。

5、其中，所述第二开口沿第一方向的长度大于或者等于沿第二方向的长度，优选地，若干所述第二开口在第二方向上的总长度大于或者等于20mm，且小于或者等于30mm；或者若干所述第二开口在第二方向上的总长度大于或者等于40mm，且小于或者等于55mm；优选地，若干所述第二开口的形状均相同；优选地，若干所述第二开口的大小均相同；优选地，若干所述第二开口沿第二方向等间距排布在所述第二张网部上；或者所述第二开口沿第二方向的长度大于或者等于沿第一方向的长度，优选地，若干所述第二开口在第一方向上的总长度大于或者等于20mm，且小于或者等于30mm；或者若干所述第二开口在第一方向上的总长度大于或者等于40mm，且小于或者等于55mm；优选地，若干所述第二开口的形状均相同；优选地，若干所述第二开口的大小均相同；优选地，若干所述第二开口沿第一方向等间距排布在所述第二张网部上。

6、其中，所述第一开口和所述第二开口均为矩形，所述第一开口沿第一方向设置长度方向，所述第一开口沿第二方向设置宽度方向，所述第一张网部开设的所述若干第一开口沿第二方向间隔设置；所述第二开口沿第一方向设置宽度方向，所述第二开口沿第二方向设置长度方向，所述第二张网部开设的所述若干第二开口沿第一方向间隔设置。

7、其中，所述第一开口和所述第二开口均为矩形，所述第一开口沿第一方向设置宽度方向，所述第一开口沿第二方向设置长度方向，所述第一张网部开设的所述若干第一开口沿第一方向间隔设置；所述第二开口沿第一方向设置长度方向，所述第二开口沿第二方向设置宽度方向，所述第二张网部开设的所述若干第二开口沿第二方向间隔设置。

8、其中，所述第一张网部远离所述蒸镀部的一侧沿第一方向距所述掩膜板主体边缘的距离大于或者等于15mm。

9、其中，所述第二张网部远离所述蒸镀部的一侧沿第二方向距所述掩膜板主体边缘的距离大于或者等于15mm。

10、其中，所述第一张网部开设的若干所述第一开口的总面积与用于搬运所述掩膜板的搬运装置的磁吸部面积之比小于或者等于0.4。

11、其中，所述第二张网部开设的若干所述第二开口的总面积与用于搬运所述掩膜板的搬运装置的磁吸部面积之比小于或者等于0.4。

12、本申请的有益效果是：区别于现有技术，本申请通过在蒸镀部的四周设置至少两个第一张网部和至少两个第二张网部，并限制两个第一张网部和其间的蒸镀部的中心沿第一方向位于同一直线；其中，两个第一张网部沿第二方向的长度均大于或者等于2/3倍的蒸镀部沿第二方向的长度，且两个第一张网部沿第二方向的长度均小于或者等于蒸镀部沿第二方向的长度。限制两个第二张网部和其间的蒸镀部的中心沿第二方向位于同一直线；其中，两个第二张网部沿第一方向的长度均大于或者等于2/3倍的蒸镀部沿第一方向的长度，且两个第二张网部沿第一方向的长度均小于或者等于蒸镀部沿第一方向的长度，进而保证张网过程中掩膜板直线度与下垂量的平衡。

技术特征：

1.一种掩膜板，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一张网部开设有若干第一开口，所述若干第一开口沿第一方向或者沿第二方向间隔设置；所述第二张网部开设有若干第二开口，所述若干第二开口沿第一方向或者沿第二方向间隔设置。

3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述第一开口沿第二方向的长度大于或者等于沿第一方向的长度；

4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，若干所述第一开口在第一方向上的总长度大于或者等于20mm，且小于或者等于30mm；或者若干所述第一开口在第一方向上的总长度大于或者等于40mm，且小于或者等于55mm；

5.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，若干所述第一开口的形状均相同。

6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，若干所述第一开口的大小均相同。

7.根据权利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述若干所述第一开口沿第一方向等间距排布在所述第一张网部上；

8.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述第二开口沿第一方向的长度大于或者等于沿第二方向的长度；

9.根据权利要求8所述的掩膜板，其特征在于，若干所述第二开口在第二方向上的总长度大于或者等于20mm，且小于或者等于30mm；或者若干所述第二开口在第二方向上的总长度大于或者等于40mm，且小于或者等于55mm；

10.根据权利要求9所述的掩膜板，其特征在于，若干所述第二开口的形状均相同。

11.根据权利要求10所述的掩膜板，其特征在于，若干所述第二开口的大小均相同。

12.根据权利要求11所述的掩膜板，其特征在于，若干所述第二开口沿第二方向等间距排布在所述第二张网部上；

13.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述第一开口和所述第二开口均为矩形，所述第一开口沿第一方向设置长度方向，所述第一开口沿第二方向设置宽度方向，所述第一张网部开设的所述若干第一开口沿第二方向间隔设置；

14.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述第一开口和所述第二开口均为矩形，所述第一开口沿第一方向设置宽度方向，所述第一开口沿第二方向设置长度方向，所述第一张网部开设的所述若干第一开口沿第一方向间隔设置；

15.根据权利要求1-14任意一项所述的掩膜板，其特征在于，所述第一张网部远离所述蒸镀部的一侧沿第一方向距所述掩膜板主体边缘的距离大于或者等于15mm。

16.根据权利要求1-14任意一项所述的掩膜板，其特征在于，所述第二张网部远离所述蒸镀部的一侧沿第二方向距所述掩膜板主体边缘的距离大于或者等于15mm。

17.根据权利要求2-14任意一项所述的掩膜板，其特征在于，所述第一张网部开设的若干所述第一开口的总面积与用于搬运所述掩膜板的搬运装置的磁吸部面积之比小于或者等于0.4。

18.根据权利要求2-14任意一项所述的掩膜板，其特征在于，所述第二张网部开设的若干所述第二开口的总面积与用于搬运所述掩膜板的搬运装置的磁吸部面积之比小于或者等于0.4。

技术总结
本申请公开了一种掩膜板。其中，掩膜板包括：掩膜板主体、至少一个蒸镀部、至少两个第一张网部和至少两个第二张网部。本申请通过在蒸镀部的四周设置至少两个第一张网部和至少两个第二张网部，并限制两个第一张网部和其间的蒸镀部的中心沿第一方向位于同一直线；两个第一张网部沿第二方向的长度均大于或者等于2/3倍的蒸镀部沿第二方向的长度，且小于或者等于蒸镀部沿第二方向的长度。限制两个第二张网部和其间的蒸镀部的中心沿第二方向位于同一直线；两个第二张网部沿第一方向的长度均大于或者等于2/3倍的蒸镀部沿第一方向的长度，且小于或者等于蒸镀部沿第一方向的长度，进而保证张网过程中掩膜板直线度与下垂量的平衡。

技术研发人员：张丁成,李有鹏,韩冰,章紫闻,王盼盼
受保护的技术使用者：合肥维信诺科技有限公司
技术研发日：20230227
技术公布日：2024/1/14