一种研磨装置的制作方法

本技术涉及碳化硅生产，特别涉及一种研磨装置。

背景技术：

1、碳化硅作为第三代宽禁带半导体材料，具有高热导率、高击穿电场、高抗辐射能力等特点。由于4h-sic在诸多晶型中具有更优异的电学性能，满足当今科技发展对高功率和抗辐射器件等衬底材料的需求。目前工业上生产碳化硅单晶的生长方法主要为物理气相传输法(physical vapor transport,简称pvt)。

2、在基于物理气相传输法的碳化硅生长过程中，石墨坩埚的质量直接决定晶体的生长质量。由于pvt长晶方法对于石墨坩埚有精确的尺寸要求，而石墨件的生产尺寸会有一定误差，因此需要根据长晶炉要求对石墨坩埚进行打磨，目前石墨坩埚的整形多采用手动打磨的方式，而手动打磨往往难以满足平整度要求，需要不断返工，极大地浪费了人力和物力，降低生产效率。

技术实现思路

1、本实用新型提供一种研磨装置，能够节省人力，提高生产效率。

2、本实用新型提供一种研磨装置，用于研磨石墨坩埚，包括支撑座、旋转组件、升降组件及吸附组件；

3、所述旋转组件设置于所述支撑座的上表面，用于带动石墨坩埚绕竖向旋转；

4、所述升降组件设置于所述支撑座的上表面，并连接于所述吸附组件，用于带动所述吸附组件升降；

5、所述吸附组件用于吸附研磨片，与所述旋转组件相对设置，其包括吸附座及吸盘，所述吸附座与所述升降组件连接，所述吸盘设置在所述吸附座的朝向旋转组件的一侧；所述吸盘具有一朝向所述旋转组件的吸附面，所述吸附面上设置有多个吸附孔，所述吸附座的背离所述吸盘的一侧设置有负压接口，所述负压接口连通至多个所述吸附孔，所述负压接口用于连接负压机，以在所述吸附孔内形成负压，进而使得研磨片吸附在所述吸附面上。

6、其中，所述旋转组件包括旋转座及旋转电机，所述旋转座转动连接于所述支撑座，所述旋转座上设置有用于固定石墨坩埚的紧固器；所述旋转电机固定于支撑座，并传动连接于所述旋转座，以带动所述旋转座转动。

7、其中，所述升降组件位于所述旋转组件的一侧处，所述研磨装置还包括悬臂，所述悬臂的一端与所述升降组件连接，另一端与所述吸附座的顶部中心位置固定连接。

8、其中，所述支撑座包括固定连接的底座及立柱，所述旋转组件设置在所述底座上，所述立柱竖直固定在所述底座上，所述升降组件的底端与所述底座固定连接，所述升降组件的侧面与所述立柱固定连接。

9、其中，所述吸盘为平直的板状结构，所述吸附面为平直面。

10、其中，所述吸盘上设置有多个调节顶丝，多个所述调节顶丝沿所述吸盘的周边排布，所述调节顶丝螺纹连接于所述吸盘，并抵接于所述吸附座，用于调节所述吸盘。

11、其中，所述吸盘与所述吸附座之间设置有密封圈，所述密封圈环绕在所述吸盘的所有吸附孔四周。

12、其中，多个所述调节顶丝均匀环绕在所述吸盘的所有吸附孔四周。

13、其中，所述吸附座的朝向所述吸盘的一侧为平面状。

14、其中，所述研磨装置还包括除尘组件，所述除尘组件包括固定环及接口管，所述固定环套设在所述吸附座外，所述固定环的内壁与所述吸附座的外壁相接；

15、所述固定环的内壁上设置有主槽及多个子槽，所述主槽为沿所述固定环周向设置的环形，且位于多个所述子槽的上方，多个所述子槽沿固定环的周向排布，各所述子槽的顶端连通至所述主槽、底端连通至所述吸附座的底部空间；

16、所述接口管连通至所述主槽，且通过过滤模块连通至吸风机。

17、本实用新型提供的研磨装置，通过吸盘的多个吸附孔中的负压，可以将研磨片吸附在吸盘的吸附面上，实现研磨片的固定，安装简单快捷；研磨片在升降组件的带动下沿竖向移动，从而可以靠近或远离旋转组件上的石墨坩埚移动。当研磨片与石墨坩埚相接触时，旋转组件驱动石墨坩埚进行旋转，从而可以对石墨坩埚的表面进行研磨，可以提高了研磨表面与石墨坩埚底部的平行度，能够有效节省人力，提供生产效率。

技术特征：

1.一种研磨装置，用于研磨石墨坩埚，其特征在于，包括支撑座、旋转组件、升降组件及吸附组件；

2.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述旋转组件包括旋转座及旋转电机，所述旋转座转动连接于所述支撑座，所述旋转座上设置有用于固定石墨坩埚的紧固器；所述旋转电机固定于支撑座，并传动连接于所述旋转座，以带动所述旋转座转动。

3.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述升降组件位于所述旋转组件的一侧处，所述研磨装置还包括悬臂，所述悬臂的一端与所述升降组件连接，另一端与所述吸附座的顶部中心位置固定连接。

4.根据权利要求3所述的研磨装置，其特征在于，所述支撑座包括固定连接的底座及立柱，所述旋转组件设置在所述底座上，所述立柱竖直固定在所述底座上，所述升降组件的底端与所述底座固定连接，所述升降组件的侧面与所述立柱固定连接。

5.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述吸盘为平直的板状结构，所述吸附面为平直面。

6.根据权利要求1-5任一项所述的研磨装置，其特征在于，所述吸盘上设置有多个调节顶丝，多个所述调节顶丝沿所述吸盘的周边排布，所述调节顶丝螺纹连接于所述吸盘，并抵接于所述吸附座，用于调节所述吸盘。

7.根据权利要求6所述的研磨装置，其特征在于，所述吸盘与所述吸附座之间设置有密封圈，所述密封圈环绕在所述吸盘的所有吸附孔四周。

8.根据权利要求6所述的研磨装置，其特征在于，多个所述调节顶丝均匀环绕在所述吸盘的所有吸附孔四周。

9.根据权利要求1-5任一项所述的研磨装置，其特征在于，所述吸附座的朝向所述吸盘的一侧为平面状。

10.根据权利要求1-5任一项所述的研磨装置，其特征在于，所述研磨装置还包括除尘组件，所述除尘组件包括固定环及接口管，所述固定环套设在所述吸附座外，所述固定环的内壁与所述吸附座的外壁相接；

技术总结
本技术提供一种研磨装置，用于研磨石墨坩埚，其包括支撑座、旋转组件、升降组件及吸附组件；旋转组件用于带动石墨坩埚旋转；升降组件用于带动吸附组件升降；吸附组件包括吸附座及吸盘，吸盘的吸附面上设置有多个吸附孔，吸附座上设置有负压接口，负压接口连通至多个吸附孔，负压接口用于连接负压机，以在吸附孔内形成负压。通过多个吸附孔中的负压，可以将研磨片吸附在吸附面上，实现研磨片的固定，安装简单快捷；研磨片在升降组件的带动下沿竖向移动，从而可以靠近或远离旋转组件上的石墨坩埚移动。当研磨片与石墨坩埚相接触时，旋转组件驱动石墨坩埚进行旋转，可以对石墨坩埚进行研磨，能够有效节省人力，提供生产效率。

技术研发人员：刘鸿吉,李豪,温健宏
受保护的技术使用者：深圳腾睿微电子科技有限公司
技术研发日：20230607
技术公布日：2024/1/15