磁控溅射镀膜装置的制作方法

本申请属于磁控溅射，更具体地说，是涉及一种磁控溅射镀膜装置。

背景技术：

1、应用于真空设备、医疗器械和化工行业等特殊领域的管道，为了改变管道材料内表面物理特性，如提升管道内表面的耐腐蚀性和耐磨损性，降低材料表面二次电子产额、降低材料放气率、提升吸气特性等，需要对管道内壁进行镀膜。

2、对管道内壁进行镀膜常采用磁控溅射镀膜设备进行，在镀膜前，需将靶材安装至被镀管道中，再将靶材、被镀管道安装至磁控溅射镀膜设备中，安装过程繁琐；且现有的磁控溅射镀膜设备多为单工位镀膜设备，在进行管道内壁镀膜时，生产效率较低，无法满足管道镀膜生产需求。

技术实现思路

1、本申请实施例的目的在于提供一种磁控溅射镀膜装置，以解决现有技术中存在的工件内壁镀膜生产效率较低的技术问题。

2、为实现上述目的，本申请实施例提供了一种磁控溅射镀膜装置，包括：

3、靶材单元；靶材单元的数量为多个，靶材单元包括第一连接部，第一连接部的第一端与被镀工件的中空腔体连通；

4、磁场发生单元；磁场发生单元套设于多个靶材单元的外部；

5、真空发生单元；真空发生单元包括真空腔体和多个第二连接部，第二连接部与真空腔体连通，第二连接部与第一连接部的第二端相匹配设置，且第一连接部与第二连接部连通。

6、可选地，磁场发生单元包括螺线管本体和缠绕在螺线管本体上的线圈层；

7、线圈层包括第一线圈层和第二线圈层，两个第一线圈层位于螺线管本体的两端，第二线圈层位于螺线管本体的中部，沿螺线管本体的径向方向，第一线圈层的厚度大于第二线圈层的厚度。

8、可选地，磁控溅射镀膜装置还包括冷却单元，冷却单元与磁场发生单元连接。

9、可选地，冷却单元包括冷却风扇，冷却风扇与磁场发生单元相对设置；

10、冷却风扇的数量为多个，多个冷却风扇沿螺线管本体的轴向方向和/或周向方向依次设置。

11、可选地，靶材单元还包括第三连接部和靶材，第三连接部的第一端与被镀工件的中空腔体连通，第三连接部的第二端设有靶材固定组件，靶材的第一端与靶材固定组件连接，靶材的第二端依次贯穿第三连接部、被镀工件和第一连接部设置。

12、可选地，靶材单元还包括配重件和绝缘件；靶材沿竖直方向设置，绝缘件设置于靶材的两端，配重件连接于靶材的第二端；

13、真空发生单元的真空腔体内部设有限位座，配重件插设于限位座中。

14、可选地，螺线管本体的长度大于被镀工件的长度，第一连接部的第一端与第三连接部的第一端位于螺线管本体的管体内部。

15、可选地，真空发生单元还包括多个快卸法兰，第一连接部与第二连接部通过快卸法兰形成可拆卸式地连接；

16、多个第二连接部的轴线平行设置；多个快卸法兰在第二连接部径向方向上的投影彼此不重叠。

17、可选地，真空发生单元还包括真空泵组、真空规管和阀件；真空泵组、真空规管通过管路与真空腔体连通，阀件设置于管路上。

18、本申请提供的磁控溅射镀膜装置的有益效果在于：与现有技术相比，本申请磁控溅射镀膜装置设有多个与真空腔体连通的第二连接部，第二连接部可用于设置靶材单元中的第一连接部，为被镀工件提供了多个镀膜工位，真空腔体与第二连接部、第一连接部及被镀工件的中空腔体连通，可在磁场发生单元内部形成多个真空盒，可实现多根被镀工件同时镀膜，极大地提升被镀工件的镀膜生产效率。

技术特征：

1.一种磁控溅射镀膜装置，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于：所述磁场发生单元包括螺线管本体(5)和缠绕在所述螺线管本体上的线圈层(6)；

3.如权利要求2所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于：所述磁控溅射镀膜装置还包括冷却单元(7)，所述冷却单元与所述磁场发生单元连接。

4.如权利要求3所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于：所述冷却单元包括冷却风扇(701)，所述冷却风扇与所述磁场发生单元相对设置；

5.如权利要求2所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于：所述靶材单元还包括第三连接部(8)和靶材(9)，所述第三连接部的第一端与所述被镀工件的中空腔体连通，所述第三连接部的第二端设有靶材固定组件(10)，所述靶材的第一端与所述靶材固定组件连接，所述靶材的第二端依次贯穿所述第三连接部、被镀工件和第一连接部设置。

6.如权利要求5所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于：所述靶材单元还包括配重件(11)和绝缘件(12)；所述靶材沿竖直方向设置，所述绝缘件设置于所述靶材的两端，所述配重件连接于所述靶材的第二端；

7.如权利要求5所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述螺线管本体的长度大于所述被镀工件的长度，所述第一连接部的第一端与所述第三连接部的第一端位于所述螺线管本体的管体内部。

8.如权利要求1所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于：所述真空发生单元还包括多个快卸法兰(14)，所述第一连接部与所述第二连接部通过所述快卸法兰形成可拆卸式地连接；

9.如权利要求1所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于：所述真空发生单元还包括真空泵组(15)、真空规管(16)和阀件(17)；所述真空泵组、真空规管通过管路与所述真空腔体连通，所述阀件设置于所述管路上。

技术总结
本申请提供了一种磁控溅射镀膜装置，该磁控溅射镀膜装置包括靶材单元、磁场发生单元和真空发生单元；靶材单元的数量为多个，靶材单元包括第一连接部，第一连接部的第一端与被镀工件的中空腔体连通；磁场发生单元套设于多个靶材单元的外部；真空发生单元包括真空腔体和多个第二连接部，第二连接部与真空腔体连通，第二连接部与第一连接部的第二端相匹配设置，且第一连接部与第二连接部连通。本申请提供的磁控溅射镀膜装置，为被镀工件提供了多个镀膜工位，真空腔体与第二连接部、第一连接部及被镀工件的中空腔体连通，可在磁场发生单元内部形成多个真空盒，可实现多根被镀工件同时镀膜，极大地提升被镀工件的镀膜生产效率。

技术研发人员：李磊,刘鹏飞,雷艳辉,朱潇潇
受保护的技术使用者：深圳综合粒子设施研究院
技术研发日：20230703
技术公布日：2024/2/6