本技术涉及电池片生产加工,尤其涉及一种硅片抛光装置。
背景技术:
1、为了使硅片具有更好的电性能,要求硅片表面尽量光滑和平整,因此需要对硅片进行抛光加工。
2、现有技术中,往往利用硅材料能够与酸或碱发生反应的特性,采用酸抛工艺或碱抛工艺来腐蚀硅片表面,以对硅片表面抛光。
3、但是上述工艺过程,不仅需要使用大量化学品,使得成本提升,而且会产生废水,造成环境污染。
技术实现思路
1、本实用新型的目的在于提供一种硅片抛光装置,用于降低硅片生产成本的同时,有效避免对环境造成污染。
2、为了实现上述目的,本实用新型提供一种硅片抛光装置,包括抛光垫、承载架和驱动机构,其中,抛光垫具有用于与硅片摩擦接触的摩擦面。承载架用于承载硅片,承载架与抛光垫相对设置,承载架与抛光垫相对的一面具有用于粘接固定硅片的胶层,以使承载架与硅片的一面粘接,并使硅片的待抛光面相对于摩擦面设置。驱动机构与承载架连接,用于驱动承载架向靠近或远离抛光垫,并驱动承载架旋转。
3、采用上述技术方案时,将硅片粘接于承载架上后,驱动机构驱动承载架向靠近抛光垫的方向移动,直至硅片与摩擦面接触并产生压力时,驱动机构驱动承载架旋转,同步带动硅片相对于抛光垫旋转,使得硅片的待抛光面受到抛光垫的摩擦力,从而对硅片的待抛光面进行摩擦抛光。在对硅片进行抛光后,驱动机构驱动承载架向远离抛光垫的方向移动。之后,将抛光后的硅片从承载架上取下,然后可以将后续的硅片粘接在承载架上,以对后续硅片进行抛光。如此,本实用新型提供的硅片抛光装置能够重复使用,相较于现有技术中的使用化学品与硅片发生反应以对硅片进行抛光的情况,一方面能够降低生产成本,另一方面,规避了使用化学药品与硅片反应生成的产物对环境造成的污染。
4、不仅如此,硅片通过粘接方式设置于承载架,不仅操作简单便捷,而且硅片受到的作用力较为均匀,避免硅片由于受到集中应力,导致硅片的损坏。同时,用于粘接固定硅片的胶层位于硅片的远离待抛光面的一面,将硅片设置在承载架上后,无需考虑胶层会与抛光垫接触,避免影响对硅片进行抛光。
5、在一种可能的实现方式中,承载架包括连接杆和承载盘,连接杆机械连接于驱动机构,承载盘固定连接于连接杆,承载盘靠近抛光垫的一面具有胶层。
6、采用上述技术方案时,连接杆的设置便于承载架与驱动机构连接安装,承载盘的设置,在驱动机构驱动承载架带动硅片旋转时,承载架所受到的离心力较为均匀,使得承载架带动硅片旋转时转动平稳。
7、在一种可能的实现方式中,承载架在抛光垫上的正投影覆盖硅片在抛光垫上的正投影。
8、采用上述技术方案时,在对硅片进行抛光时,硅片受到的来自于承载架和抛光垫之间的压力较为均匀,使得硅片的待抛光面受到的来自于抛光垫的摩擦力较为均匀,确保待抛光面光滑和平整。
9、在一种可能的实现方式中,硅片抛光装置还包括支撑架,用于支撑抛光垫。
10、采用上述技术方案时,可以通过调整支撑架的支撑面,以使得抛光垫的摩擦面与硅片的待抛光面平行。同时,可以按照一般操作人员的身高设置支撑架的高度,便于操作人员进行操作。
11、在一种可能的实现方式中,支撑架为金属支撑架。
12、采用上述技术方案时,能够抵抗抛光垫对于支撑架的磨损,延长支撑架的使用寿命,以及确保支撑面保持平面状态。
13、在一种可能的实现方式中,支撑架为不锈钢支撑架、铝支撑架或铜支撑架。
14、采用上述技术方案时,丰富了支撑架的材质的选择,便于根据实际情况进行选择。
15、在一种可能的实现方式中,抛光垫为聚氨酯抛光垫。
16、在一种可能的实现方式中,抛光垫为多孔聚氨酯泡沫抛光垫。
17、在一种可能的实现方式中,驱动机构包括驱动电机或内燃机。
1.一种硅片抛光装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的硅片抛光装置,其特征在于,所述承载架包括:
3.根据权利要求1所述的硅片抛光装置,其特征在于,所述承载架在所述抛光垫上的正投影覆盖所述硅片在所述抛光垫上的正投影。
4.根据权利要求1所述的硅片抛光装置,其特征在于,所述硅片抛光装置还包括支撑架,用于支撑所述抛光垫。
5.根据权利要求4所述的硅片抛光装置,其特征在于,所述支撑架为金属支撑架。
6.根据权利要求5所述的硅片抛光装置,其特征在于,所述支撑架为不锈钢支撑架、铝支撑架或铜支撑架。
7.根据权利要求1所述的硅片抛光装置,其特征在于,所述抛光垫为聚氨酯抛光垫。
8.根据权利要求7所述的硅片抛光装置,其特征在于,所述抛光垫为多孔聚氨酯泡沫抛光垫。
9.根据权利要求1所述的硅片抛光装置,其特征在于,所述驱动机构包括驱动电机或内燃机。