一种带有膜厚均匀性监测功能的成膜装置的制作方法

本技术涉及oled显示器制造，具体为一种带有膜厚均匀性监测功能的成膜装置。

背景技术：

1、硅基微型oled显示器结合了成熟的集成电路coms工艺和oled显示技术，与其他微型显示技术相比，硅基微型oled显示器具有低功耗、工作温度范围大、高ppi、高对比度和响应速度快等优点，被称为最适用于近眼显示行业的微显示技术。目前在制作m icro oled显示器时，主要在高真空环境下采用蒸镀成膜工艺，其中坩埚作为蒸镀设备的蒸发源，盛放金属或有机材料，材料受热汽化后沉积到8寸或12寸晶圆上形成有机薄膜，用于实现oled器件发光。真空蒸镀过程中，由于需要精确控制镀率所以目前主流的micro oled蒸发设备均为同一真空蒸镀腔室内分布多个点蒸发源坩埚，并且蒸发源相对于基板的垂直高度是固定的，这就会导致同一时间内材料热蒸汽分子附着在基板表面的密度不同导致同一基板不同位置的温度不同进而导致基板不同位置的膜厚不同。这种现象会影响wafer的膜厚均匀性进而影响oled器件的良率。

技术实现思路

1、本实用新型要解决的技术问题是提供一种带有膜厚均匀性监测功能的成膜装置，提高蒸镀成膜的膜层厚度均匀性进而提高oled器件的良率。

2、本实用新型是通过以下技术方案来实现的。

3、本实用新型的一种带有膜厚均匀性监测功能的成膜装置，包括蒸镀腔室，蒸镀腔室顶部设有旋转升降平台，所述旋转升降平台下侧设有移动平台，所述移动平台下侧设有遮掩板，所述遮掩板上设有待成膜基板，所述待成膜基板上设有待成膜压板，所述遮掩板下方的所述蒸镀腔室上设有若干点蒸发源，所述蒸镀腔室内一侧设有晶振。

4、进一步地，所述待成膜压板与所述待成膜基板背面直接接触，并在所述待成膜压板内设有环形温度传感器。

5、进一步地，所述晶振为用于监测镀率和膜厚的水晶振动片。

6、进一步地，所述遮掩板四周固定设有环绕的防着板，防着板向下倾斜。

7、进一步地，所述旋转升降平台与所述移动平台连接有升降轴。

8、进一步地，所述移动平台与所述待成膜压板连接有连接转动轴。

9、进一步地，所述点蒸发源为环形加热系统，所附坩埚为圆柱形喷嘴式坩埚。

10、进一步地，所述蒸镀腔室为高真空腔室，真空度1.0e-4pa以下。

11、进一步地，所述移动平台用于水平方向的横向移动和纵向移动。

12、进一步地，所述旋转升降平台包括旋转马达和升降马达。

13、本实用新型的有益效果：本实用新型通过对膜厚均匀性的实时检测计算出出蒸镀过程中膜厚分布情况，再通过计算结构控制成膜组件进行相应的移动，提高蒸镀成膜均匀性，提高成膜设备制造时的良率，降低了oled的生产成本，也提高了生产效率。

技术特征：

1.一种带有膜厚均匀性监测功能的成膜装置，其特征在于：包括蒸镀腔室(01)，蒸镀腔室(01)顶部设有旋转升降平台，所述旋转升降平台下侧设有移动平台(10)，所述移动平台(10)下侧设有遮掩板(03)，所述遮掩板上设有待成膜基板(04)，所述待成膜基板(04)上设有待成膜压板(05)，所述遮掩板(03)下方的所述蒸镀腔室(01)上设有若干点蒸发源(02)，所述蒸镀腔室(01)内一侧设有晶振(08)。

2.根据权利要求1所述的一种带有膜厚均匀性监测功能的成膜装置，其特征在于：所述待成膜压板(05)与所述待成膜基板(04)背面直接接触，并在所述待成膜压板内设有环形温度传感器。

3.根据权利要求1所述的一种带有膜厚均匀性监测功能的成膜装置，其特征在于：所述晶振(08)为用于监测镀率和膜厚的水晶振动片。

4.根据权利要求1所述的一种带有膜厚均匀性监测功能的成膜装置，其特征在于：所述遮掩板(03)四周固定设有环绕的防着板(09)，防着板(09)向下倾斜。

5.根据权利要求1所述的一种带有膜厚均匀性监测功能的成膜装置，其特征在于：所述旋转升降平台与所述移动平台(10)连接有升降轴(07)。

6.根据权利要求1所述的一种带有膜厚均匀性监测功能的成膜装置，其特征在于：所述移动平台(10)与所述待成膜压板(05)连接有连接转动轴(06)。

7.根据权利要求1所述的一种带有膜厚均匀性监测功能的成膜装置，其特征在于：所述点蒸发源(02)为环形加热系统，所附坩埚为圆柱形喷嘴式坩埚。

8.根据权利要求1所述的一种带有膜厚均匀性监测功能的成膜装置，其特征在于：所述蒸镀腔室(01)为高真空腔室，真空度1.0e-4pa以下。

9.根据权利要求1所述的一种带有膜厚均匀性监测功能的成膜装置，其特征在于：所述移动平台(10)用于水平方向的横向移动和纵向移动。

10.根据权利要求1所述的一种带有膜厚均匀性监测功能的成膜装置，其特征在于：所述旋转升降平台包括旋转马达(11)和升降马达(12)。

技术总结
本技术公开了一种带有膜厚均匀性监测功能的成膜装置，包括蒸镀腔室，蒸镀腔室顶部设有旋转升降平台，所述旋转升降平台下侧设有移动平台，所述移动平台下侧设有设有遮掩板，所述遮掩板上设有待成膜基板，所述待成膜基板上设有待成膜压板，所述遮掩板下方的所述蒸镀腔室上设有若干点蒸发源，所述蒸镀腔室内一侧设有晶振，本技术通过对膜厚均匀性的实时检测计算出出蒸镀过程中膜厚分布情况，再通过计算结构控制成膜组件进行相应的移动，提高蒸镀成膜均匀性，提高成膜设备制造时的良率，降低了OLED的生产成本，也提高了生产效率。

技术研发人员：孙阳,颜艳霜,林俊宇
受保护的技术使用者：浙江宏禧科技有限公司
技术研发日：20230925
技术公布日：2024/5/10