蒸镀系统和真空蒸镀设备的制作方法

本发明涉及真空蒸镀设备，尤其涉及一种蒸镀系统和真空蒸镀设备。

背景技术：

1、真空蒸镀简称蒸镀，是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。

2、在铝复合集流体加工过程中，一般会用到蒸镀设备，其主体结构包括蒸发槽，在其内部设置坩埚或蒸发舟，通过感应加热或电阻加热的方式，使得蒸发器皿上的铝液蒸发，并冷却沉积在薄膜表面。现有技术中，为增加铝晶体的附着力，往往会在薄膜上形成打底层。其中，氧化铝为常用的打底层，其通过传统蒸镀的方式，是通过在送丝过程中通过氧气(cn112048700a)，使得蒸发后的铝蒸汽直接反应形成氧化铝，沉积在薄膜表面，上述结构一般是在蒸发的气体路径上设置输气管，输气管气孔朝向铝蒸汽氛围中输出。

3、上述结构的蒸发槽，存在两个问题，由于输出位置固定，因此蒸发路径中氧气浓度不同，影响均匀性；另一个是，输气管固定安装，长期处于铝蒸汽氛围中(或附近)，容易积铝、也容易堵塞损坏，积铝后铝渣还存在掉落风险，蒸镀时容易污染靶材。

4、因此需要进一步改善。

技术实现思路

1、本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种蒸镀系统，设置可往复摆动的输气管路结构，使得输出气流相对均匀的分布在金属蒸汽的路径上，提升均匀性。

2、本发明的另一个目的在于提出一种真空蒸镀设备，基于上述蒸镀系统制备而成。

3、本发明的技术方案如下：

4、一种蒸镀系统，包括：

5、蒸发槽，其内设置蒸发器皿，用于产生金属蒸汽；

6、加热组件，用于加热蒸发器皿；

7、输气管，设置在蒸发器皿和待蒸镀材料间，且输气管可在蒸发器皿形成的蒸发路径中往复摆动。

8、基于上述技术方案，可以改善由于输气管路固定产生的气体分布不均匀的现象，进而使得形成的打底层分布不均匀的情况，也可一定程度上提升输入气体的利用率，降低输入气体的量，获得相对较为稳定真空环境。

9、进一步的，输气管长度方向沿横向或纵向设置在蒸发槽上方。

10、基于上述技术方案，输气管路可结合实际蒸发器皿的布置数量及方向作合理布置，尽可能降低行程，并可适应不同工艺参数。

11、进一步的，输气管设置为多组，独立进行往复运动。

12、基于上述技术方案，设置多组输气管，可以减小输气管的行程路径，进一步提升气体分布的均匀性。

13、进一步的，输气管轴向上设置若干气孔，气孔对应分布在输气管往复移动方向的两侧。

14、进一步的，气孔朝向基膜方向向上倾斜，其倾斜角度α为0-90°。

15、基于上述技术方案，设置向上倾斜的气孔，可以降低对蒸汽向上移动动能的损失。

16、进一步的，设置在输气管两侧的气孔错位设置。

17、基于上述技术方案，可以提升排出气孔分布的均匀性。

18、进一步的，在输气管内腔内设置一隔板，将输气管内腔分隔为两个独立的腔室，并分别对应两腔室形成连通的气孔，两组腔室可形成独立送气。

19、基于上述技术方案，形成独立腔室，一方面可以不同侧气孔对气体分布的影响，使得同侧气孔的气体流量分布更均匀；另一方面，可以独立控制两侧气体的通路及断路，也进一步降低了气体用量，降低由于外部输入气源对蒸发体系稳定性的影响。

20、进一步的，输气管的外径小于3cm，其气孔31的孔径为0.5-3mm。

21、基于上述技术方案，控制输气管的外径，能够尽可能减小因输气管移动对蒸发路径的影响。

22、进一步的，输气管通过摆动机构实现往复运动。

23、基于上述技术方案，输气管可通过摆动机构实现往复平移。

24、进一步的，摆动机构包括两组平行的导轨组件，并通过安设在滑块上的连接座装配固定；导轨组件包括丝杆及与丝杆配合的滑块，滑块上设置与导轨上配合的滑槽，并通过电机连接控制丝杆转动，控制滑块往复运动，从而带动连接座运动。

25、进一步的，导轨组件的导轨延伸至蒸镀区域外，以使得输气管可以脱离蒸镀区域。

26、进一步的，连接座包括整体呈垂直于导轨安装平面的支持杆，支持杆顶部连接座板，座板上连接有用于固定输气管的连接件。

27、进一步的，蒸发器皿设置为蒸发舟。

28、进一步的，蒸发器皿设置为坩埚。

29、基于上述技术方案，输气管可适应不同工艺路线下，对待蒸镀材料表面形成打底层，且基本不影响原有设备的布局。

30、一种真空蒸镀设备，包括上述蒸镀系统。

技术特征：

1.一种蒸镀系统，包括：

2.如权利要求1所述的蒸镀系统，其特征在于：输气管设置在蒸发器皿和待蒸镀材料间，且输气管长度方向沿横向或纵向设置。

3.如权利要求2所述的蒸镀系统，其特征在于：输气管设置为多组，独立进行往复运动。

4.如权利要求2或3所述的蒸镀系统，其特征在于：输气管轴向上设置若干气孔，气孔对应分布在输气管往复移动方向的两侧。

5.如权利要求4所述的蒸镀系统，其特征在于：气孔朝向基膜方向向上倾斜，其倾斜角度α为0-90°。

6.如权利要求5所述的蒸镀系统，其特征在于：设置在输气管两侧的气孔错位设置。

7.如权利要求2-3、5-6中任意一项所述的蒸镀系统，其特征在于：在输气管内腔内设置一隔板，将输气管内腔分隔为两个独立的腔室，并分别对应两腔室形成连通的气孔，两组腔室可独立送气。

8.如权利要求7所述的蒸镀系统，其特征在于：输气管通过摆动机构实现往复运动，且/或，输气管可经过摆动机构平移至蒸镀区域外。

9.如权利要求8所述的蒸镀系统，其特征在于：蒸发器皿设置为蒸发舟或坩埚。

10.一种真空蒸镀设备，其特征在于：包括如权利要求2-3、5-6、8-9中任意一项所述的蒸镀系统。

技术总结
本发明公开了一种蒸镀系统和真空蒸镀设备，包括：蒸发槽，其内设置蒸发器皿，用于产生金属蒸汽；加热组件，用于加热蒸发器皿；以及输气管，输气管可在蒸发器皿形成的蒸发路径中往复摆动。本发明设置可往复摆动的输气管路结构，使得输出气流相对均匀的分布在金属蒸汽的路径上，提升均匀性。

技术研发人员：刘志康,伽龙,吴明忠,吴林海
受保护的技术使用者：浙江柔震科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/5/9