短波通紫外滤光片的制备方法与流程

文档序号:40655901发布日期:2025-01-10 19:07阅读:102来源:国知局

本公开涉及滤光片领域,更具体地涉及一种短波通紫外滤光片的制备方法。


背景技术:

1、滤光片是一种可以用来选取所需辐射波段的光学器件。滤光片的作用是通过选择性地控制不同波长的光透射,其在生活中的分布非常广泛,包括手机、汽车电子、医疗影像、传感器、视听/数码电子产品等等多个领域。

2、滤光片一般根据光谱波段可分为紫外滤光片、可见滤光片和红外滤光片。紫外滤光片可以吸收可见光,又允许紫外光通过,也允许部分近红外光通过。紫外带通滤光片上已在业界展开研制,但是依然需要进一步深入开发。


技术实现思路

1、鉴于背景技术中存在的问题,本公开的一目的在于提供一种短波通紫外滤光片的制备方法,其在测试角度为0°紫外光段到可见光波段在透过段360-460nm的平均透过率为98%以上、截止段530-560nm的平均透过小于0.1%。

2、由此,一种短波通紫外滤光片的制备方法包括步骤:s1,将作为镜片的玻璃基底的产品的表面进行清洁处理;s2,将处理好的镜片放入工装夹具,装好后的镜片挂入真空镀膜机腔体内,腔体的温度设定为150℃;s3,真空镀膜机启动抽真空,真空度达到1.0×10-3pa,打开真空镀膜机的辅助镀膜的射频离子源进行清洗,清洗时间为6min,射频离子源的参数为:出射离子加速电压750v、出射离子电流为750ma、网栅离子偏转电压600v、氩气流量8sccm、氧气流量75sccm;s4,在镜片的第一面镀制短波通膜系,短波通膜系为80.04h90.05l 75.25h 79.63l 66.91h 101.42l 52.56h 105.14l 59.19h92.56l 62.15h 98.59l55.4h 102.89l 58.89h 95.45l 63.02h 98.14l 60.9h107.93l 58.64h 55.22l,其中,h表示一个λ0/4光学厚度的ta2o5膜层,l表示一个λ0/4光学厚度的sio2膜层,λ0为入射光波长,h与l前的数字为膜层的单位为nm的厚度,ta2o5和sio2膜层均使用电子束蒸镀且采用射频离子源辅助蒸镀,ta2o5膜层的沉积速率为0.4nm/s,sio2膜层的沉积速率为1nm/s;s5,在镜片的第一面镀制短波通膜系完成后,待腔体冷却至50-60℃以下将工装夹具连同产品取出;s6,重复步骤s1至步骤s3;s7,在镜片的第二面镀制增透膜系,增透膜系为16.53h 26.98l28.44h 76.55l,其中,h表示一个λ0/4光学厚度的ta2o5膜层,l表示一个λ0/4光学厚度的sio2膜层,λ0为入射光波长,h与l前的数字为膜层的单位为nm的厚度,ta2o5和sio2膜层均使用电子束蒸镀且采用射频离子源辅助蒸镀,ta2o5膜层的沉积速率为0.4nm/s,sio2膜层的沉积速率为1nm/s;s8,在镜片的第二面镀制增透膜系完成后,待腔体冷却至50-60℃以下将工装夹具连同产品取出。

3、本公开的有益效果如下:在根据本公开的短波通紫外滤光片的制备方法中,通过在镜片的第一面镀制ta2o5和sio2的22层构成的短波通膜系的步骤s4以及在镜片的第二面镀制ta2o5和sio2的4层构成的增透膜系的步骤s7,并结合步骤s1以及步骤s6的表面清洁、步骤s2以及步骤s6的腔体温度、步骤s3以及步骤s6的离子源清洗以及步骤s5和步骤s8的降温,测试角度为0°紫外光段到可见光波段在透过段360-460nm的平均透过率为98%以上、截止段530-560nm的平均透过小于0.1%。



技术特征:

1.一种短波通紫外滤光片的制备方法,其特征在于,包括步骤:

2.根据权利要求1所述的短波通紫外滤光片的制备方法,其特征在于,

3.根据权利要求1所述的短波通紫外滤光片的制备方法,其特征在于,

4.根据权利要求3所述的短波通紫外滤光片的制备方法,其特征在于,

5.根据权利要求1所述的短波通紫外滤光片的制备方法,其特征在于,


技术总结
一种短波通紫外滤光片的制备方法包括步骤:S1,作为镜片的玻璃基底的产品清洁;S2,将镜片放入工装夹具,挂入镀膜机;S3,抽真空,射频离子源清洗;S4,镜片的第一面镀短波通膜系80.04H 90.05L 75.25H 79.63L66.91H 101.42L 52.56H 105.14L 59.19H 92.56L 62.15H 98.59L 55.4H 102.89L58.89H 95.45L 63.02H 98.14L 60.9H 107.93L 58.64H 55.22L,H表示Ta<subgt;2</subgt;O<subgt;5</subgt;膜层,L表示SiO<subgt;2</subgt;膜层,均使用电子束蒸镀且射频离子源辅助,Ta<subgt;2</subgt;O<subgt;5</subgt;沉积速率为0.4nm/s,SiO<subgt;2</subgt;沉积速率为1nm/s;S5,冷却取出;S6,重复S1至S3;S7,镜片的第二面镀增透膜系16.53H 26.98L 28.44H 76.55L;S8,冷却取出。

技术研发人员:梁献波,呼亚龙,刘克武
受保护的技术使用者:安徽光智科技有限公司
技术研发日:
技术公布日:2025/1/9
网友询问留言 留言:0条
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!