流体抛光机的制作方法
【专利摘要】本发明公开一种流体抛光机，包括机台、安装在所述机台上的升降机构和圆盘旋转机构、研磨机构，升降机构、圆盘旋转机构和研磨机构由电控装置控制动作，升降机构包括四个立柱、活动板、用于驱动活动板运动的驱动机构，圆盘旋转机构包括圆盘和分度器，圆盘设置在分度器上方并与分度器同轴，圆盘旋转机构通过分度器作间歇旋转运动，圆盘的盘面上设有若干用于固定工件的治具，研磨机构由上研磨机构和下研磨机构组成，上研磨机构设置在活动板上，下研磨机构设置在圆盘的底部且与上研磨机构对应设置。本发明使复杂的工件内壁抛光与研磨更加轻松、便利，显著提高工件的性能、质量、达到镜面等级。
【专利说明】
流体抛光机
技术领域
[0001 ]本发明涉及抛光技术领域，具体涉及一种流体抛光机。
【背景技术】
[0002]在日用五金件的加工过程中，常常需要对某些零件进行抛光加工处理，抛光就是对工件表面进行加工，使其高度光洁。随着产品形状的多样化、精度要求的不断提高，特别是对于凹陷面与弯曲孔道的加工而言，传统的手工研磨抛光无法满足品质要求。
【发明内容】
[0003]本发明的主要目的在于提供一种结构简单、使复杂的工件内壁抛光与研磨更加便利的流体抛光机。
[0004]为了实现发明目的，本发明提供一种流体抛光机，包括机台、安装在所述机台上的升降机构和圆盘旋转机构、研磨机构，所述升降机构、圆盘旋转机构和研磨机构由电控装置控制动作；
[0005]所述升降机构包括设置在所述机台上的四个立柱、能够沿所述四个立柱上下运动的活动板、用于驱动所述活动板运动的驱动机构；
[0006]所述圆盘旋转机构包括圆盘和分度器，所述分度器安装在所述机台上，所述圆盘设置在所述分度器上方并与分度器同轴，所述圆盘旋转机构通过分度器作间歇旋转运动，所述圆盘的盘面上设有若干用于固定工件的治具；
[0007]所述研磨机构由上研磨机构和下研磨机构组成，所述上研磨机构设置在所述活动板上，所述下研磨机构设置在所述圆盘的底部且与所述上研磨机构对应设置。
[0008]优选地，所述上研磨机构包括上磨料缸筒、用以推动所述上磨料缸筒内的磨料运动的上研磨缸。
[0009]优选地，所述上研磨缸包括上研磨缸筒和上研磨活塞，所述上研磨缸筒与所述上磨料缸筒连接，所述上研磨活塞伸入上磨料缸筒内推动磨料运动。
[0010]优选地，所述下研磨机构包括下磨料缸筒、用以推动所述下磨料缸筒内的磨料运动的下研磨缸。
[0011]优选地，所述下研磨缸包括下研磨缸筒和下研磨活塞，所述下研磨缸筒与所述下磨料缸筒连接，所述下研磨活塞伸入下磨料缸筒内推动磨料运动。
[0012]优选地，所述治具通过转盘设置在所述圆盘的盘面上，所述转盘与圆盘同轴。
[0013]优选地，所述机台上设有防护罩，所述防护罩上设有触摸屏。
[0014]本发明提供一种流体抛光机，通过设置了升降机构、圆盘旋转机构和研磨机构，将工件放在治具上，圆盘带动其转动，当转动到下研磨机构位置处，圆盘停止运转，上研磨机构随着活动板朝向工件运动，上磨料缸筒和下磨料缸筒相向夹持工件，下研磨缸推动磨料经工件内腔进入上磨料缸筒，待磨料上升到一定高度，上研磨缸推动磨料向下运动，下降至一定高度，磨料再次上升，如此循环往复，当循环次数或抛光时间达到预设值后停止，上研磨机构跟随活动板上升运动，圆盘又开始运转，继续为下一个工件进行抛光。本发明结构简单、操作安全方便，使复杂的工件内壁抛光与研磨更加轻松、便利，显著提高工件的性能、质量、达到镜面等级。
【附图说明】
[0015]图1为本发明一实施例中流体抛光机的结构示意图；
[0016]图2为图1中所示流体抛光机侧面结构示意图；
[0017]图3为本发明一实施例中流体抛光机的研磨机构的结构示意图；
[0018]图4为本发明一实施例中流体抛光机的升降机构的结构示意图；
[0019]图5为本发明一实施例中流体抛光机的圆盘旋转机构的结构示意图。
[0020]本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
【具体实施方式】
[0021]应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，并不用于限定本发明。
[0022]参照图1至图5，图1为本发明一实施例中流体抛光机的结构示意图，图2为图1中所示流体抛光机侧面结构示意图，图3为本发明一实施例中流体抛光机的研磨机构的结构示意图，图4为本发明一实施例中流体抛光机的升降机构的结构示意图，图5为本发明一实施例中流体抛光机的圆盘旋转机构的结构示意图。
[0023]—种流体抛光机，包括机台1、安装在机台I上的升降机构2和圆盘旋转机构3、研磨机构4，升降机构2、圆盘旋转机构3和研磨机构4由电控装置(图中未示出)控制动作；
[0024]升降机构2包括设置在机台I上的四个立柱21、能够沿四个立柱21上下运动的活动板22、用于驱动活动板22运动的驱动机构23;
[0025]圆盘旋转机构3包括圆盘31和分度器32，分度器32安装在机台I上，圆盘31设置在分度器32上方并与分度器32同轴，圆盘旋转机构3通过分度器32作间歇旋转运动，圆盘31的盘面上设有若干用于固定工件的治具33;
[0026]研磨机构4由上研磨机构41和下研磨机构42组成，上研磨机构41设置在活动板22上，下研磨机构42设置在圆盘31的底部且与上研磨机构41对应设置。
[0027]在本实施例中，参照图1至图3，研磨机构4由上研磨机构41和下研磨机构42组成，上研磨机构41安装在活动板22上，能跟随活动板22上升下降，上研磨机构41包括上磨料缸筒411、用以推动上磨料缸筒411内的磨料运动的上研磨缸412，上研磨缸412包括上研磨缸筒和上研磨活塞，上研磨缸筒与上磨料缸筒411连接，上研磨活塞伸入上磨料缸筒411内推动磨料运动。下研磨机构42包括下磨料缸筒421、用以推动下磨料缸筒421内的磨料运动的下研磨缸422。下研磨缸422包括下研磨缸筒和下研磨活塞，下研磨缸筒与下磨料缸筒421连接，下研磨活塞伸入下磨料缸筒421内推动磨料运动。上研磨活塞和下研磨活塞均套设有密封圈，能够防止磨料泄露，还能够稳定工作气压的作用。抛光时，上研磨机构41跟随活动板22下降，上磨料缸筒411和下磨料缸筒421夹持工件43，下研磨缸422推动磨料经工件43内腔进入上磨料缸筒411，待磨料上升到一定高度，上研磨缸412推动磨料向下运动，下降至一定高度，磨料再次上升，如此循环往复，当循环次数或抛光时间达到预设值后停止，上研磨机构41跟随活动板22上升。
[0028]在本实施例中，参照图1、图2和图4，升降机构2包括立柱21、活动板22、驱动机构23、垂直运动直线轴承24，立柱21为四个，安装在机台I上，四个立柱21上设有活动板22，活动板22四角均设有垂直运动直线轴承24，该垂直运动直线轴承24套设在立柱21上，活动板22的左右两端均设有一驱动机构23，驱动机构23能够驱动活动板22沿立柱21上升下降。在本实施例中，该驱动机构可以是液压驱动机构、也可以是电机驱动机构、或者其它能够驱动活动板23沿立柱21上升下降的动力机构，在此，不作具体限定。
[0029]在本实施例中，参照图1、图2和图5，圆盘旋转机构3包括圆盘31、分度器32，分度器32设置在机台I上，圆盘31设置在分度器32上方并与分度器32同轴，圆盘旋转机构3通过分度器32作间歇旋转运动，圆盘31的盘面上设有若干用于固定工件43的治具33。进一步的，治具33通过转盘34设置在圆盘31的盘面上，转盘34与圆盘31同轴，通过增设转盘34，可以使得上研磨机构41压住工件43起到缓冲的作用。
[0030]在本实施例中，机台I的外侧壁设有防护罩，安全性高，有效的消除了安全隐患，防护罩上还设有触摸屏，在触摸屏上可设定各项参数。
[0031]本发明流体抛光机的工作过程为:将工件43放在治具33上，圆盘31带动其转动，当转动到下研磨机构42位置处，圆盘31停止运转，上研磨机构41随着活动板22朝向工件43运动，上磨料缸筒411和下磨料缸筒421相向夹持工件43，下研磨缸422推动磨料经工件43内腔进入上磨料缸筒411，待磨料上升到一定高度，上研磨缸412推动磨料向下运动，下降至一定高度，磨料再次上升，如此循环往复，电控装置可根据实际需要选择抛光工艺为计时模式或计数模式，选择计时模式，当循环时间达到设定值后，循环便停止，选择计数模式，当循环次数达到设定值后便会停止，当循环停止后，上研磨机构41跟随活动板22上升，圆盘31又开始转动，继续为下一个工件43进行抛光。
[0032]以上仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
【主权项】
1.一种流体抛光机，其特征在于，包括机台、安装在所述机台上的升降机构和圆盘旋转机构、研磨机构，所述升降机构、圆盘旋转机构和研磨机构由电控装置控制动作； 所述升降机构包括设置在所述机台上的四个立柱、能够沿所述四个立柱上下运动的活动板、用于驱动所述活动板运动的驱动机构； 所述圆盘旋转机构包括圆盘和分度器，所述分度器安装在所述机台上，所述圆盘设置在所述分度器上方并与分度器同轴，所述圆盘旋转机构通过分度器作间歇旋转运动，所述圆盘的盘面上设有若干用于固定工件的治具； 所述研磨机构由上研磨机构和下研磨机构组成，所述上研磨机构设置在所述活动板上，所述下研磨机构设置在所述圆盘的底部且与所述上研磨机构对应设置。2.如权利要求1所述的流体抛光机，其特征在于，所述上研磨机构包括上磨料缸筒、用以推动所述上磨料缸筒内的磨料运动的上研磨缸。3.如权利要求2所述的流体抛光机，其特征在于，所述上研磨缸包括上研磨缸筒和上研磨活塞，所述上研磨缸筒与所述上磨料缸筒连接，所述上研磨活塞伸入上磨料缸筒内推动磨料运动。4.如权利要求1所述的流体抛光机，其特征在于，所述下研磨机构包括下磨料缸筒、用以推动所述下磨料缸筒内的磨料运动的下研磨缸。5.如权利要求4所述的流体抛光机，其特征在于，所述下研磨缸包括下研磨缸筒和下研磨活塞，所述下研磨缸筒与所述下磨料缸筒连接，所述下研磨活塞伸入下磨料缸筒内推动磨料运动。6.如权利要求1所述的流体抛光机，其特征在于，所述治具通过转盘设置在所述圆盘的盘面上，所述转盘与圆盘同轴。7.如权利要求1所述的流体抛光机，其特征在于，所述机台上设有防护罩，所述防护罩上设有触摸屏。
【文档编号】B24B41/00GK106041711SQ201610394822
【公开日】2016年10月26日
【申请日】2016年6月3日
【发明人】李凯
【申请人】深圳市普盛旺科技有限公司