一种具有真空吸附功能的浸釉机构的制作方法

文档序号:30499349发布日期:2022-06-24 21:38阅读:70来源:国知局
一种具有真空吸附功能的浸釉机构的制作方法

1.本实用新型涉及上釉设备技术领域,具体涉及一种具有真空吸附功能的浸釉机构。


背景技术:

2.目前陶瓷坯体都是通过操作人员用手抓着产品的底部无釉部分对待上釉产品进行上釉操作的,这样不仅上釉速度慢影响产品生产周期,而且上釉质量很不稳定和非上釉位置出现上釉的现象,影响产品的美观。


技术实现要素:

3.为解决现有技术问题,本实用新型提供一种具有真空吸附功能的浸釉机构,包括吸附机构和对吸附机构进行控制的控制机构;
4.所述吸附机构包括用于吸附在待上釉的陶瓷坯体上的吸盘,所述吸盘远离吸附部的一侧设置有抽气管,所述抽气管的一端与所述吸盘吸附部设置的气孔相连通;
5.所述控制机构包括脚踏开关和抽气泵,所述抽气泵与所述抽气管的一端相连,所述脚踏开关用于控制所述抽气泵的启闭。
6.在本实施例中,所述吸盘包括吸盘本体和支撑装置,所述支撑装置围绕所述吸盘本体的外侧边缘密封固定连接;所述支撑装置的边缘呈锯齿状。
7.在本实施例中,所述支撑装置通过螺栓与所述吸盘本体密封固定连接。
8.所述吸盘的吸附部呈圆形面。
9.在本实施例中,所述吸盘可拆卸固定安装在支架上,所述支架的上端设置有连接杆,所述抽气泵固定在所述连接杆上。
10.在本实施例中,所述连接杆的上端设置有半弧形的手握部,所述手握部与所述连接杆的上端固定连接。
11.本实用新型的有益效果:
12.本实用新型通过人工脚踩脚踏开关,从而控制抽气泵的启动,使得抽气管内部呈现负压,使得吸盘吸附在待上釉的陶瓷坯体的不需上釉的部位上,再将本实用新型提供的上釉机构整体浸入到釉液中实现陶瓷坯体的上釉,实现对陶瓷坯体的准确高效上釉。
13.本实用新型通过在吸盘的外侧边缘密封固定连接边缘呈锯齿状的支撑装置,使得在吸盘吸附在陶瓷坯体上后被外部的硬物撬动或被插入边缘时,吸盘可产生形变,随着吸盘进行形变,锯齿状的支撑装置在真空吸盘边缘形成保护,以抵制硬物继续进入吸盘边缘,造成吸盘真空状态失效,避免吸盘真空状态失效后对陶瓷坯体上釉产生影响。
附图说明
14.图1为本实用新型实施例提供的一种具有真空吸附功能的浸釉机构的结构示意图;
15.图2为本实用新型实施例提供的吸盘本体和支撑装置的整体结构示意图;
16.图3为本实用新型实施例提供的支撑装置的结构示意图;
17.附图标注:1-吸盘;10-吸盘本体;11-支撑装置;12-螺栓;20-脚踏开关;21
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抽气泵;3-抽气管;50-支架;51-连接杆;52-手握部。
具体实施方式
18.下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
19.如图1-3所示,本实用新型的一个实施例公开了一种具有真空吸附功能的浸釉机构,包括吸附机构和对吸附机构进行控制的控制机构;
20.吸附机构包括用于吸附在待上釉的陶瓷坯体上的吸盘1,吸盘1远离吸附部的一侧设置有抽气管3,抽气管3的一端与吸盘1吸附部设置的气孔相连通;
21.控制机构包括脚踏开关20和抽气泵21,抽气泵21与抽气管3的一端相连,脚踏开关20用于控制抽气泵21的启闭。
22.需要说明的是本实施例的抽气泵21是通过连接导线与脚踏开关21连接;从而使得脚踏开关21控制抽气泵20的开启或关闭。
23.当需要对待上釉的陶瓷坯体进行上釉时,通过人工踩下脚踏开关,从而控制抽气泵的开启,使得抽气管内部呈现负压,使得吸盘吸附在待上釉的陶瓷坯体的不需上釉的部位上,再将本实施例的上釉机构整体浸入到釉液中实现陶瓷坯体的上釉,实现对陶瓷坯体的准确高效上釉。
24.在本实施例中,吸盘1包括吸盘本体10和支撑装置11,支撑装置11围绕吸盘本体10的外侧边缘密封固定连接;支撑装置11的边缘呈锯齿状。
25.需要说明的是本实施例的吸盘为橡胶材料制成,本实施例的支撑装置由刚性材料制成,且刚性材料为薄钢片,且支撑装置具有弹性和可变型。
26.在本实施例中,支撑装置11通过螺栓12与吸盘本体10密封固定连接。本实施例通过上述设置实现支撑装置和吸盘本体密封固定连接,当然其他能起到密封固定连接的方式也可。
27.本实施例通过将刚性材料制成的具有弹性和可变型的支撑装置,由于支撑装置的边缘呈锯齿状,在吸盘在已吸附在待上釉的陶瓷坯体上后,当位于本实施例提供的上釉机构外部的硬物撬动或插入边缘时,吸盘产生形变,随着吸盘进行形变,锯齿状的支撑装置在吸盘边缘形成保护,以此来防止硬物撬动或插入边缘,当硬物从吸盘边缘插入时,由于支撑装置是由薄钢片制成,薄钢片具有弹性和可变型,随着硬物的进入而产生变形,进而抵制硬物继续进入吸盘的边缘,从而避免造成吸盘的真空状态失效影响陶瓷坯体的上釉。
28.在本实施例中,吸盘1的吸附部呈圆形面。
29.在本实施例中,吸盘1可拆卸固定安装在支架50上。本实施例的支架为方形的框架。
30.支架50的上端设置有连接杆51,抽气泵21固定在连接杆51上。本实施例通过上述设置实现对吸盘和抽气泵的固定。
31.在本实施例中,连接杆51的上端设置有半弧形的手握部52,手握部52与连接杆51
的上端固定连接。本实施例通过设置手握部,方便操作人员手握已使吸盘吸附在待上釉的陶瓷坯体后的浸釉机构整体提起并使其浸入到釉液中进行上釉。
32.最后说明的是,以上仅对本实用新型具体实施例进行详细描述说明。但本实用新型并不限制于以上描述具体实施例。本领域的技术人员对本实用新型进行的等同修改和替代也都在本实用新型的范畴之中。因此,在不脱离本实用新型的精神和范围下所作的均等变换和修改,都涵盖在本实用新型范围内。


技术特征:
1.一种具有真空吸附功能的浸釉机构,其特征在于:包括吸附机构和对吸附机构进行控制的控制机构;所述吸附机构包括用于吸附在待上釉的陶瓷坯体上的吸盘(1),所述吸盘(1)远离吸附部的一侧设置有抽气管(3),所述抽气管(3)的一端与所述吸盘(1)吸附部设置的气孔相连通;所述控制机构包括脚踏开关(20)和抽气泵(21),所述抽气泵(21)与所述抽气管(3)的一端相连,所述脚踏开关(20)用于控制所述抽气泵(21)的启闭。2.根据权利要求1所述的一种具有真空吸附功能的浸釉机构,其特征在于:所述吸盘(1)包括吸盘本体(10)和支撑装置(11),所述支撑装置(11)围绕所述吸盘本体(10)的外侧边缘密封固定连接;所述支撑装置(11)的边缘呈锯齿状。3.根据权利要求2所述的一种具有真空吸附功能的浸釉机构,其特征在于:所述支撑装置(11)通过螺栓(12)与所述吸盘本体(10)密封固定连接。4.根据权利要求1所述的一种具有真空吸附功能的浸釉机构,其特征在于:所述吸盘(1)的吸附部呈圆形面。5.根据权利要求1所述的一种具有真空吸附功能的浸釉机构,其特征在于:所述吸盘(1)可拆卸固定安装在支架(50)上,所述支架(50)的上端设置有连接杆(51),所述抽气泵(21)固定在所述连接杆(51)上。6.根据权利要求5所述的一种具有真空吸附功能的浸釉机构,其特征在于:所述连接杆(51)的上端设置有半弧形的手握部(52),所述手握部(52)与所述连接杆(51)的上端固定连接。

技术总结
本实用新型公开了一种具有真空吸附功能的浸釉机构,涉及上釉设备技术领域,包括吸附机构和对吸附机构进行控制的控制机构;所述吸附机构包括用于吸附在待上釉的陶瓷坯体上的吸盘,所述吸盘远离吸附部的一侧设置有抽气管,所述抽气管的一端与所述吸盘吸附部设置的气孔相连通;所述控制机构包括脚踏开关和抽气泵,所述抽气泵与所述抽气管的一端相连,所述脚踏开关用于控制所述抽气泵的启闭。本实用新型通过人工脚踩脚踏开关,从而控制抽气泵的启动,使得抽气管内部呈现负压,使得吸盘吸附在待上釉的陶瓷坯体的不需上釉的部位上,再将本实用新型提供的上釉机构整体浸入到釉液中实现陶瓷坯体的上釉,实现对陶瓷坯体的准确高效上釉。上釉。上釉。


技术研发人员:尧忠义 尧忠飞 潘群华 尧忠胜
受保护的技术使用者:江西省华星陶瓷有限公司
技术研发日:2022.02.28
技术公布日:2022/6/23
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